公开(公告)号：KR1020100018456A

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：KR1020090067720

申请日：2009-07-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아라타케히데마사

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus is provided to discharge processed liquid atmosphere in the vicinity of and on the top of a processed object by arranging a rotating cup and a rotating discharge cup capable of rotating on the peripheral of the processed object. CONSTITUTION: A support part(30a) is arranged in a outer container and supports a processed object(W). The rotation-driving unit(60) rotates the processed object supported by the supporting part. A processing liquid injection unit(40) injects a processing solution into the processed object. A rotating cup(11) is arranged in a peripheral of the processed object and is rotated with the supporting part. A rotating discharge cup(10) is arranged on the upper side of the rotating cup and rotates with the rotating cup. A discharge unit(25) discharges the process liquid atmosphere guided by the rotating cup and the rotating discharge cup.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，用于通过设置旋转杯和能够在被处理物体的周边旋转的旋转放电杯来排出被处理物体附近及其顶部的处理液体气氛。 构成：支撑部件（30a）布置在外部容器中并且支撑处理过的物体（W）。 旋转驱动单元（60）使由支撑部支撑的被处理物旋转。 处理液注入单元（40）将处理溶液注入到处理对象物中。 旋转杯（11）布置在处理物体的周边并与支撑部分一起旋转。 旋转放电杯（10）布置在旋转杯的上侧并与旋转杯一起旋转。 排出单元（25）排出由旋转杯和旋转排出杯引导的处理液体气氛。

公开(公告)号：KR1020090088313A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：KR1020090009813

申请日：2009-02-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68792

Abstract: A liquid processing apparatus is provided to prevent attachment of a cleaning solution on a rear surface of an object by preventing residue of the cleaning solution on a lift pin plate. A holding plate holds an object, and is formed with a hollow shape. A rotation shaft(2) is connected to the holding plate, and is formed with a hollow shape. A rotation driving part(40) drives the rotation shaft into a fixed rotation direction. A lift pin plate(20) includes a lift pin(21) which supports a main body and the object. A cleaning solution supply part(11) supplies a cleaning solution to the object held in the holding plate. An inert gas supply part(10) supplies an inert gas to the object held in the holding plate.

Abstract translation: 提供了一种液体处理装置，用于防止清洁溶液附着在物体的后表面上，方法是防止清洁溶液残留在提升销板上。 保持板保持物体，并且形成为中空形状。 旋转轴（2）连接到保持板，并且形成为中空形状。 旋转驱动部（40）将旋转轴驱动成固定的旋转方向。 提升销板（20）包括支撑主体和物体的提升销（21）。 清洁溶液供给部件（11）将清洁溶液供应到保持在保持板上的物体。 惰性气体供给部件（10）向保持在保持板上的物体供给惰性气体。

公开(公告)号：KR1020050019928A

公开(公告)日：2005-03-03

申请号：KR1020057001397

申请日：2003-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 초우노야스히로 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67748 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742

Abstract: 기판 처리 용기는 용기 본체(100)와, 용기 본체(100)에 밀봉하여 걸어 맞춰지는 덮개(130)를 갖는다. 용기 본체(100)에는 복수의 기판 지지 로드(102)가 부착되어 있고, 기판 지지 로드(102)는 축부(103)와, 축부(103) 상단에 설치된 대직경의 헤드부(104)를 갖는다. 축부(103)는 용기 본체(100)를 관통하여 상하 방향으로 연장되어 있다. 기판 지지 로드(102)가 하강 위치에 있는 경우에, 헤드부(104)는 축부(103)가 통과된 구멍(108)의 입구를 기밀하게 폐색한다. 기판 지지 로드(102)가 상승 위치에 있는 경우, 용기 본체(100)의 상면과 기판 지지 로드(102)에 의해 지지되어 있는 웨이퍼(W) 사이에 웨이퍼 반송 아암(14a)의 진입을 허용하는 큰 간극이 형성된다. 이 구성에 의해 기판 처리 용기내의 처리 공간의 상하 방향 두께를 매우 작게 할 수 있고, 처리 유체의 사용량의 삭감 및 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020040002743A

公开(公告)日：2004-01-07

申请号：KR1020030041924

申请日：2003-06-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 초우노야스히로 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67253 ,  G03F7/423 ,  H01L21/67017

Abstract: PURPOSE: To provide a system and method for treating substrates by which a stable flow rate of ozone gas having a stable ozone concentration can be generated even if ozone gas is fed to a plurality of chambers. CONSTITUTION: This system for treating substrates comprises an ozone gas generator 42 for generating ozone gas by discharging in oxygen-containing gas, and a plurality of chambers 30A, 30B for separately housing substrates W. Ozone gas is fed into the chambers 30A, 30B to separately treat the substrate W. Further, the system has gas flow rate regulators 188, 191 for regulating the flow rate of the oxygen-containing gas fed to the ozone gas generator 42, and a controller 201 for controlling the gas flow rate regulators 188, 191. The total flow rate of the ozone gas fed to the plurality of the chambers 30A, 30B is controlled by controlling the flow rate of the oxygen-containing gas by the controller 201.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理底物的系统和方法，其中即使将臭氧气体输送到多个室，也可以产生具有稳定的臭氧浓度的臭氧气体的稳定流速。 构成：用于处理基板的系统包括用于通过在含氧气体中排放产生臭氧气体的臭氧气体发生器42和用于单独容纳基板W的多个室30A，30B。臭氧气体被供给到室30A，30B至 此外，该系统具有用于调节供给到臭氧气体发生器42的含氧气体的流量的气体流量调节器188,191和用于控制气体流量调节器188的控制器201， 通过控制器201控制含氧气体的流量来控制供给到多个室30A，30B的臭氧气体的总流量。

公开(公告)号：KR1020030074255A

公开(公告)日：2003-09-19

申请号：KR1020030013933

申请日：2003-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쵸우노야스히로 ,  이토노리히로 ,  사타케케이고 ,  이이노타다시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/67017 ,  Y10S134/902 ,  Y10S438/935 ,  Y10T137/0396 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/87917

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼나 LCD용 유리기판 등의 기판을 밀봉된 처리기내에서 처리가스 예를 들면, 오존 및 용매증기 예를 들면 수증기 등의 처리 유체를 이용해서 처리하는 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것이다.
본 발명에서는 공통의 용매증기(수증기) 공급원(41) 및 처리가스(오존가스) 공급원(42)로부터 복수의 처리용기(30A, 30B)에 오존가스 및 수증기가 공급되고, 처리용기내의 압력 제어는 각 처리용기에 접속된 배출관로(80A, 80B)에 각각 설치된 가변 트로틀밸브(50A, 50B)의 개방도를 조절하는 것에 의해 행해진다.

公开(公告)号：KR101868642B1

公开(公告)日：2018-06-18

申请号：KR1020130049215

申请日：2013-05-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토유스케 ,  나가미네슈이치 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/67

Abstract: 본발명은, 제1 처리부와, 그위에있는제2 처리부를갖는기판처리장치에있어서, 처리액공급노즐을, 실행되는처리에따른적합한위치에위치시키는것을목적으로한다. 본발명의기판처리장치(100)는, 기판(W)의하면에제2 액처리를위한제2 처리액을공급하는처리액공급노즐(40)과, 처리액공급노즐을승강시키는노즐승강기구(44)를포함하고, 제1 처리부(1)에서제1 액처리를행할때에처리액공급노즐이하강위치에위치하며, 제2 처리부(2)에서제2 액처리를행할때에처리액공급노즐이하강위치보다도높은상승위치에위치한다.

公开(公告)号：KR1020150035392A

公开(公告)日：2015-04-06

申请号：KR1020140120268

申请日：2014-09-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와키야마데루후미 ,  이토노리히로 ,  히가시지마지로

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B17/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6719

Abstract: 컵체의주위의분위기를청정한상태로유지하는것이가능한액 처리장치를제공한다. 액처리장치(16)는, 회전하는기판(W)에대하여처리액을공급하여액 처리를행하고, 포위부재(20, 23, 24)는, 회전하는기판(W)을둘러싸고기판의상방에개구가마련된컵체(50)의상방공간을포함하는영역을, 상기컵체(50)보다외방측에서둘러싼다. 기류형성부(21)는, 컵체(50)의상방측으로부터하강기류를형성하고, 바닥면부(28)는, 컵체(50)와포위부재(20, 23, 24) 사이를둘레방향을따라막는다. 컵체(50)보다외측에는, 배기구(241, 231)가마련되어, 바닥면부(28)보다상방으로서, 포위부재(20, 23, 24) 및바닥면부(28)로둘러싸이는영역을배기한다.

Abstract translation: 提供一种能够保持杯体周边部分清洁的液体处理装置。 液体处理装置（16）将处理液供给旋转晶片（W）并进行液体处理。 围绕构件（20,23,24）围绕围绕旋转晶片（W）的区域包围杯体（50）的上部空间，杯体（50）的上部空间在杯体的外部具有在基底的上部的开口 身体（50）。 气流形成部（21）从杯体（50）的上部形成向下的气流。 底部（28）在圆周方向上阻挡杯体（50）和周围构件（20,23,24）之间的间隙。 排出孔（241,231）在杯体（50）的外部设置，高于底面部（28），并排出由底面部（28）和盖部件（20）包围的区域中的空气， 23，24）。

公开(公告)号：KR101478859B1

公开(公告)日：2015-01-02

申请号：KR1020100118159

申请日：2010-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  구도히로유키

IPC: H01L21/302

Abstract: 본 발명은 기판 처리 장치의 각 액 처리 유닛에 처리액을 공급할 때에 유량의 정밀도를 떨어뜨리지 않고 유량 제어 기구를 통합할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
처리액이 흐르는 공급 유로(68a)와, 공급 유로(68a)에 처리액을 공급하는 처리액 공급부(70)와, 공급 유로(68a) 상에 설치되고, 공급 유로(68a)의 유량을 제어하는 유량 제어 기구(131)와, 유량 제어 기구(131)의 하류측에 접속되는 제1 경로(68c) 또는 제1 경로(68c)와 평행하게 접속되는 제2 경로(68d)로 전환하는 전환 기구(135)를 갖는다. 유량 제어 기구(131)는 공급 유로(68a)의 유량을 계측하는 유량 계측부(132)와, 내부에 개폐 가능한 밸브를 구비한 유량 제어 밸브(133)와, 유량 설정값(FS)과 유량 계측값(FM)이 같아지도록, 유량 제어 밸브(133)를 제어하는 유량 제어부(134)를 갖는다.

公开(公告)号：KR1020140079339A

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：KR1020137029481

申请日：2012-10-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아이우라가즈히로

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/04

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B3/18 ,  B05B15/80 ,  B05C9/06 ,  B05C11/1039 ,  B05C11/1044 ,  B05D1/02 ,  B08B3/04 ,  B60B17/00 ,  B60B17/0068 ,  B60B2900/325 ,  B61H5/00 ,  G01B11/306 ,  G01B21/20 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/67017

Abstract: 기판 처리 장치는, 기판(W)을 수평으로 유지하여 회전시키는 기판 유지부(21)와, 기판에 대하여 제1 처리액 및 제2 처리액을 각각 공급하는 제1 처리액 공급 노즐 및 제2 처리액 공급 노즐과, 상단이 기판보다 상측에 위치하도록 마련되며, 기판에 공급된 후의 처리액을 받기 위한 액받이 컵(40, 42, 44)과, 액받이 컵의 주위에 배치되고, 그 상단이 상기 액받이 컵(40, 42, 44)의 상측에 있는 상승 위치와, 상기 상승 위치보다 하측에 위치하는 하강 위치 사이에서 승강 가능한, 상부에 상부 개구(50n)가 형성된 통형의 제1 통형 외컵(50A)과, 그 외측의 제2 통형 외컵(50B)을 구비하고 있다. 사용되는 처리액에 따라, 사용하는 통형 외컵(50A, 50B)을 선택한다.

Abstract translation: 液体处理装置包括：基板保持部，其将基板保持在水平位置并旋转基板;第一和第二处理液体供给喷嘴，分别设置成将第一和第二处理液供给到基板;适当地设置的液体接收杯 将其上端定位在基板上方并且接收已经供应到基板的第一或第二处理液体，第一管状外杯，其包括上开口并设置在液体接收杯周围，可在提升位置 第一管状外杯被提升，使得其上端位于液体接收杯的上方，并且位于低于提升位置的降低位置，以及设置在第一管状外杯外部的第二管状外杯。 管状外杯根据处理液的种类选择。

公开(公告)号：KR1020140053823A

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：KR1020137017509

申请日：2012-07-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아이우라가즈히로 ,  이토노리히로 ,  나가이다카시

IPC: H01L21/67 ,  G03F7/42 ,  H01L21/02 ,  F21Y101/02

CPC classification number: H01L21/02057 ,  G03F7/42 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67115 ,  F21Y2101/00 ,  H01L21/02052

Abstract: 액처리 장치는, 기판(W)을 수평으로 유지하는 기판 유지 부재(22)와, 기판 유지 부재를 회전시키는 회전 기구(25)와, 기판 유지 부재에 유지된 기판에 가열된 약액을 공급하는 약액 노즐(56a)과, 기판 유지 부재에 유지된 기판의 위쪽을 덮는 톱 플레이트(50)와, 톱 플레이트의 위쪽으로부터, 톱 플레이트를 투과시켜 정해진 파장의 광을 기판 유지 부재에 유지된 기판에 조사함으로써 약액 처리 중에 기판을 가열하는 적어도 1개의 LED 램프(62)를 구비하고 있다.