Abstract:
An image sensor is disclosed. The image sensor according to an embodiment of the present invention includes: a pixel array which is composed of multiple unit pixels which respectively include a single transistor and a photodiode which is connected with the body of the single transistor; a low driver block which makes any one of multiple rows of the pixel array to enter a lead-out mode; and a sense amplifier block which senses and amplifies each of pixel signals which are outputted from multiple unit pixels included in a row which enters the lead-out mode. The row driver block controls the source voltage and gate voltage of single transistors which are included in any one among the rows of the pixel array and makes the source voltage and the gate voltage to enter the lead-out mode. According to the embodiment of the present invention, the image sensor is able to increase the integration degree of the image sensor by including only one transistor and one photodiode per unit pixel.
Abstract:
메모리 프로그래밍 장치 및 방법이 제공된다. 본 발명의 메모리 프로그래밍 장치는 데이터 페이지를 저장하는 데이터 저장부, 상기 데이터 페이지로부터 하나 이상의 기준 문턱 전압 상태 각각의 개수를 계수하여 인덱스 정보를 생성하는 제1 계수부, 상기 생성된 인덱스 정보를 저장하는 인덱스 저장부, 및 상기 데이터 저장부에 상기 데이터 페이지를 저장하고, 상기 인덱스 저장부에 상기 생성된 인덱스 정보를 저장하는 프로그래밍부를 포함하는 것을 특징으로 하며, 이를 통해 메모리 셀의 문턱 전압의 산포 상태를 모니터할 수 있다. 멀티 비트 셀, 멀티 레벨 셀, 멀티 비트 프로그래밍, 산포 상태
Abstract:
PURPOSE: A backside illumination image sensor including a reflection metal layer and a photocharge generating method thereof are provided to improve the photo sensitivity of a depth sensor by reflecting incident light passing through a photoelectric conversion device and supplying the incident light to the photoelectric conversion device again through the reflection metal layer on the lower side of the photoelectric conversion device. CONSTITUTION: A pixel array (100) includes a light receiving area (102), a wire pattern area (104), and a substrate (160). The light receiving area includes a plurality of photoelectric conversion devices (120) and a P-type well layer (110). The photoelectric conversion devices generate photocharges which are changed according to the intensity of incident light reflected from an object. A first reflection metal layer (170) is formed between insulators on the lower sides of the photoelectric conversion devices. A second reflection metal layer is formed on the lower side of the first reflection metal layer and reflects the incident light.
Abstract:
멀티 비트 프로그래밍 장치 및 방법이 제공된다. 본 발명의 멀티 비트 프로그래밍 장치는 N비트의 데이터에 2 N 개의 문턱 전압 상태들 중 어느 하나를 할당하는 제1 제어부, 상기 2 N 개의 문턱 전압 상태들 중 인접한 문턱 전압 상태들을 제1 간격 또는 제2 간격 중 어느 하나만큼 이격시키는 제2 제어부, 및 상기 하나 이상의 멀티 비트 셀 각각에 상기 할당된 문턱 전압 상태를 형성하여 상기 N비트의 데이터를 프로그래밍하는 프로그래밍부를 포함하는 것을 특징으로 하며, 이를 통해 데이터를 읽을 때의 오류 비율(error rate)을 줄일 수 있다. 멀티 비트 프로그래밍, 문턱 전압 산포
Abstract:
독출 대상 메모리 셀에 인접하는 메모리 셀에 낮은 전압을 인가하는 메모리 셀 데이터 독출 방법 및 불휘발성 메모리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 메모리 셀 데이터 독출 방법은, 복수개의 메모리 셀들 중에서 독출 대상이 되는 메모리 셀의 제어 게이트에 제1전압을 인가하는 단계; 상기 독출 대상 메모리 셀에 인접하는 메모리 셀의 제어 게이트에 제3전압을 인가하는 단계; 및 상기 독출 대상 메모리 셀과 상기 인접하는 메모리 셀을 제외한 나머지 메모리 셀들의 제어 게이트에 제2전압을 인가하는 단계를 구비한다. 상기 제2전압은 상기 메모리 셀의 상태와 관계없이 상기 메모리 셀에 전류가 흐르도록 하는 최소 전압이고, 상기 제3전압은 상기 제1전압보다 높고 상기 제2전압보다 낮다.
Abstract:
PURPOSE: An image sensor, an operating method thereof, and devices including the same are provided to generate an improved three-dimensional image, a three-dimensional color image, a three-dimensional thermal image, or a two-dimensional color thermal image by using a pixel array including thermal image pixels, depth pixels, and color pixels. CONSTITUTION: If pulse light generated from a light source is reflected from a target, an image sensor senses the reflected pulse light to measure a distance between the image sensor and the target(S10). The image sensor activates a color pixel array, a depth pixel array, and a thermal image pixel array according to a measured distance(S12). [Reference numerals] (S10) Measure a distance between an image sensor and a target; (S12) Activate at least one of color pixel, depth pixel, and thermal image pixel according to the measured distance
Abstract:
고집적 비휘발성 메모리 소자 및 그 경제적인 제조 방법이 제공된다. 비휘발성 메모리 소자에 있어서, 적어도 한층 이상의 제 1 반도체층은 기판의 일부분 상에 서로 이격 적층되고 제 1 도전형을 갖는다. 복수의 제 1 저항변화 저장층들은 상기 적어도 한층 이상의 제 1 반도체층 각각의 제 1 측벽을 덮는다. 복수의 제 2 반도체층들은 상기 적어도 한층 이상의 제 1 반도체층 각각의 제 1 측벽 및 상기 복수의 제 1 저항변화 저장층들 사이에 개재되고, 상기 제 1 도전형의 반대인 제 2 도전형을 갖는다. 그리고, 복수의 비트 라인 전극들은 상기 복수의 제 1 저항변화 저장층들 각각에 연결된다.
Abstract:
3개의 래치를 이용하는 메모리 셀 프로그래밍 방법 및 반도체 메모리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 메모리 셀 프로그래밍 방법은, 제1래치에 저장된 데이터의 k-1(k는 2이상의 자연수)번째 비트를 제3래치에 저장하는 단계, 데이터의 k번째 비트를 제1래치에 저장하는 단계, 제1래치에 저장된 k번째 비트를 제2래치에 저장하는 단계, 및 제3래치에 저장된 k-1번째 비트를 참조하여 제2래치에 저장된 k번째 비트를 메모리 셀에 기입하는 단계를 구비한다.
Abstract:
고집적 비휘발성 메모리 소자 및 그 동작 방법이 제공된다. 비휘발성 메모리 소자는 반도체층을 포함한다. 복수의 상부 제어 게이트 전극들은 상기 반도체층 상에 배열된다. 복수의 하부 제어 게이트 전극들은 상기 반도체층의 아래에 배열되고, 상기 복수의 상부 제어 게이트 전극들과 엇갈리게 배치된다. 복수의 상부 전하 저장층들은 상기 반도체층 및 상기 상부 제어 게이트 전극들 사이에 각각 개재된다. 그리고, 복수의 하부 전하 저장층들은 상기 반도체층 및 상기 하부 제어 게이트 전극들 사이에 각각 개재된다.