公开(公告)号：KR100068241B1

公开(公告)日：1993-12-03

申请号：KR1019900016318

申请日：1990-10-15

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 차재현 ,  전영진 ,  최상수

IPC: H01L21/00

公开(公告)号：KR100050082B1

公开(公告)日：1992-03-20

申请号：KR1019880009546

申请日：1988-07-28

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  주식회사 케이티

Inventor： 최상수

IPC: H01L21/205

公开(公告)号：KR100319455B1

公开(公告)日：2002-01-05

申请号：KR1019990062273

申请日：1999-12-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  김대용

IPC: H01L21/20

CPC classification number: H01L21/02686 ,  G02B5/3083 ,  G02B7/04 ,  G02B13/143 ,  G02B26/0891 ,  G02B27/28 ,  H01L21/2026

Abstract: 본발명은엑시머레이저를광원으로사용하여무정형실리콘박막을미세줄 무늬패턴의노광으로결정화시킨실리콘박막으로만드는결정화장비용광학시스템을제공하는데그 목적이있다. 본발명에따르면, 엑시머레이저를광원으로사용하여무정형실리콘박막을미세줄 무늬패턴의노광으로결정화시킨실리콘박막으로만드는결정화장비용광학시스템에있어서, 상기엑시머레이저로부터광축방향으로순차적으로나열된제 1 렌즈내지제 10 렌즈를포함하고; 상기제 1 렌즈는양볼록렌즈이고, 상기제 2 렌즈는상기광원측방향으로볼록한볼록오목렌즈이고, 상기제 3 렌즈는상기광원측방향으로볼록한볼록오목렌즈이고, 상기제 4 렌즈는양오목렌즈이고, 상기제 5 렌즈는양볼록렌즈이고, 상기제 6 렌즈는상기광원측방향으로오목인오목볼록렌즈이고, 상기제 7 렌즈는상기광원측방향으로볼록인볼록오목렌즈이고, 상기제 8 렌즈는양볼록렌즈이고, 상기제 9 렌즈는상기광원측방향으로볼록인볼록오목렌즈이고, 상기제 10 렌즈는양볼록렌즈인것을특징으로하는결정화장비용광학시스템이제공된다.

公开(公告)号：KR1020010002724A

公开(公告)日：2001-01-15

申请号：KR1019990022660

申请日：1999-06-17

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An off-axial aperture with a fly's eye lens and a fabricating method thereof are provided to pass a larger quantity of light through the off-axial aperture, thereby increasing a throughput and facilely fabricating the aperture. CONSTITUTION: The device comprises a light shielding area formed at a center portion; a light penetrating area formed around the light shielding area and comprised of a fly's eye lens. The aperture further comprises a partial light penetrating area formed at a portion except the light shielding area and the light penetrating area and having a lower permeability than that of the light penetrating area. In the aperture, the light penetrating area formed into a quadruple, hexapole or annular type. A method of fabricating the off-axial aperture comprises the steps of: forming a light shielding pattern on an entire surface of a transparent substrate(100); forming the first resist pattern having a curved surface at a fly's eye lens area of the substrate; and performing an etching process to form the fly's eye lens on the substrate.

Abstract translation: 目的：提供具有飞眼镜片的非轴向孔径及其制造方法，以使较大量的光通过离轴孔径，从而增加产量并便利地制造孔径。 构成：该装置包括形成在中心部分的遮光区域; 一个透光区，形成在遮光区周围，由飞眼镜片组成。 孔径还包括形成在除了遮光区域和透光区域以外的部分的透光性比透光面积低的部分光穿透区域。 在孔中，透光区形成四重六极或环形。 制造离轴孔的方法包括以下步骤：在透明基板（100）的整个表面上形成遮光图案; 在所述基板的飞眼透镜区域形成具有弯曲表面的第一抗蚀剂图案; 并进行蚀刻处理，以在基板上形成蝇眼透镜。

公开(公告)号：KR100274149B1

公开(公告)日：2000-12-15

申请号：KR1019970071609

申请日：1997-12-22

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  차한선 ,  김종수 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A method for patterning a metal layer is provided to form a metal layer of a uniform width by forming and patterning an anti-reflective layer on the metal layer. CONSTITUTION: A metal layer(4) is formed on a semiconductor substrate(5). The metal layer(4) is formed by one of TiW, Al, W, W-Si, Cr, and Ml. An anti-reflective oxide layer(6) and an anti-reflective metal layer(7) are formed sequentially on the metal layer(4). A photoresist(2) is applied on the anti-reflective metal layer(7). A photolithography process is performed. The anti-reflective oxide layer(6) has a thickness of 850 to 1050 angstroms. The anti-reflective oxide layer(7) has a thickness of 20 to 220 angstroms.

Abstract translation: 目的：提供图形化金属层的方法，以通过在金属层上形成和图案化抗反射层来形成均匀宽度的金属层。 构成：在半导体衬底（5）上形成金属层（4）。 金属层（4）由TiW，Al，W，W-Si，Cr和M1中的一种形成。 在金属层（4）上依次形成抗反射氧化物层（6）和抗反射金属层（7）。 在抗反射金属层（7）上施加光致抗蚀剂（2）。 进行光刻处理。 抗反射氧化物层（6）的厚度为850〜1050。 抗反射氧化物层（7）的厚度为20至220埃。

公开(公告)号：KR100261266B1

公开(公告)日：2000-07-01

申请号：KR1019970054787

申请日：1997-10-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김종수 ,  최상수 ,  정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 ,  유형준

IPC: G02B6/27

Abstract: PURPOSE: A polarization optical splitter using an amorphous fluoric resin adhesive and a method of fabricating the same are provided by which the polarization optical splitter that places an image zone and an object zone at different locations is formed using an adhesive that is transparent at 193nm and has endurance for light irradiated on the adhesive for a long period of time. CONSTITUTION: Multi-level dielectric thin films(16,17) formed of transparent materials are coated on the sloped face of one of a pair of prisms(4,8). The thin films includes a material having a high refractive index and a material having a low refractive index. The multi-level dielectric thin films and the sloped face of the other prism are attached to each other using an amorphous fluoric resin adhesive(21), to fabricate a polarization optical splitter. The adhesive having a refractive index of 1.1 to 2.0, and transmissivity of 90% per 1cm.

Abstract translation: 目的：提供使用非晶态氟树脂粘合剂的偏振光分路器及其制造方法，通过该偏光分光器，使用193nm透明的粘合剂形成在不同位置放置图像区域和对象区域的偏振光分路器， 具有长时间照射在粘合剂上的光的耐久性。 构成：由透明材料形成的多层电介质薄膜（16,17）涂覆在一对棱镜（4,8）之一的倾斜面上。 薄膜包括具有高折射率的材料和具有低折射率的材料。 使用非晶态氟树脂粘合剂（21）将多层电介质薄膜和另一棱镜的倾斜面彼此附接，以制造偏振分光器。 折射率为1.1〜2.0，透光率为1％的透光率为90％。

公开(公告)号：KR100246545B1

公开(公告)日：2000-06-01

申请号：KR1019970054427

申请日：1997-10-23

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  유형준 ,  정해빈

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/54

Abstract: 본 발명은 GaAs의 햄트(HEMTs) 소자 개발에 필요한 티형 및 감마형 게이트와 같은 특수 게이트(special gate) 제작에 사용되는 X-선 마스크 및 그 제조방법에 관한 것이다. 종래에는 X-선 마스크를 사용하여 티형 게이트를 제작할 때, 티형 게이트의 풋프린터(footprint)를 X-선 리소그래피를 통해 먼저 형성시킨 후, 다시 광 리소그래피로 헤드(Head)부분을 형성하는 방법으로 리소그래피를 다시 수행하는 등 공정상의 절차가 쉽지 않은 문제가 있다. 따라서, 본 발명은 풋프린터 부분에 해당되는 X-선 흡수체와 헤드 부분에 해당되는 X-선 흡수체의 두께를 달리하여 X-선 투과도를 조절하고, 이들 X-선 흡수체가 마스크 기판에 동시에 존재하도록 X-선 마스크를 제작하므로써, 한번의 X-선 리소그래피로 티형 및 감마형 게이트와 같은 특수 게이트를 웨이퍼상에 창출할 수 있도록 한다.

公开(公告)号：KR1020000001435A

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019980021700

申请日：1998-06-11

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  조경익 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A refraction optical system is capable of easily producing a needed wavelength by use of a polarization effect removing panel without affecting a pattern formation instead of 1/4 wavelength panel or 1/2 wavelength panel. CONSTITUTION: The refraction optical system comprises: a reticle(1) having a pattern to be illuminated; a first lens(2) for correcting a difference between rays of light through the reticle; a first rectangular prism(5) for receiving the corrected ray of light by the first lens; a dielectric multi thin film layer(6) for refracting a S-waveform and passing a P-waveform, wherein the dielectric multi thin film layer is comprised of a high refraction material and a low refraction material deposited in turn; a 1/4 wavelength panel(4) for receiving the S-waveform refracted by the dielectric multi thin film layer, producing a phase difference between a normal ray of light and an abnormal ray of light, and changing the S-waveform to a circular polarized light, wherein the 1/4 wavelength panel produces a phase difference between a normal ray of light of the polarized light and an abnormal ray of light thereof, and then changes the polarized light to the P-waveform; a reflector(3) for refracting the polarized light through the 1/4 wavelength panel to re-receiving the light thus refracted to the 1/4 wavelength panel; a second rectangular prism(7) for receiving the P-waveform to the first rectangular prism and the dielectric multi thin film layer; a second lens(8) for receiving the P-waveform through the second rectangular prism; and a polarization effect removing panel(9) for making the polarization of light through the second lens irregular, and for illuminating the light to the wafer.

Abstract translation: 目的：折射光学系统能够通过使用偏振效果去除面板而容易地产生所需的波长，而不影响图案形成而不是1/4波长面板或1/2波长面板。 构成：折射光学系统包括：具有待照明图案的掩模版（1）; 用于校正通过所述掩模版的光线之间的差异的第一透镜（2） 第一矩形棱镜（5），用于通过第一透镜接收经校正的光线; 用于折射S波形并通过P波形的电介质多层薄膜层（6），其中介电多层薄膜层依次沉积高折射材料和低折射材料; 用于接收由电介质多层薄膜层折射的S波形的1/4波长面板（4），产生正常光线和异常光线之间的相位差，并将S波形改变为圆形 偏振光，其中1/4波长面板产生偏振光的正常光线和其异常光线之间的相位差，然后将偏振光改变为P波形; 反射器（3），用于折射通过1/4波长面板的偏振光，以重新接收由此折射到1/4波长面板的光; 用于将P波形接收到第一矩形棱镜和电介质多薄膜层的第二矩形棱镜（7）; 用于通过第二矩形棱镜接收P波形的第二透镜（8）; 以及用于使通过第二透镜的光的偏振不均匀并用于将光照射到晶片的偏振效应去除面板（9）。

公开(公告)号：KR100223023B1

公开(公告)日：1999-10-01

申请号：KR1019960034589

申请日：1996-08-21

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 전영진 ,  정진만 ,  최상수 ,  김보우 ,  유형준

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F1/22 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70866 ,  G21K5/08

Abstract: 본 발명은 마스크(mask) 패턴(pattern)에 X-선을 노광(exposure)시켜 그 마스크 패턴에 해당하는 형상(image)을 웨이퍼(wafer) 위에 전사(transfer)할 때 사용하는 X-선 마스크(X-ray mask)에 관한 것이다.
즉, 마스크 기판(mask substrate)과 지지 링(support ring)과의 열팽창 계수(coefficient of thermal expansion) 차이에 의한 마스크의 열적 변형(thermal distortion)을 근본적으로 제거하고, 외부의 기계적 스트레스(mechanical stress)에 대한 지지링의 저항(resistance) 능력을 향상시키기 위해 지지링의 이면(the other side)에 마스크 기판과 동일한 재료로 구성되고, 마스크 기판과 동일한 공정 과정을 거친 변형 방지용 보조기판(supporting substrate to protect distortion)을 추가로 부착하여 구성한 X-선 마스크에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1019990025513A

公开(公告)日：1999-04-06

申请号：KR1019970047178

申请日：1997-09-12

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  최상수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  유형준

IPC: G02B27/00

Abstract: 본 발명은 광학계의 광축 틀어짐 검지 장치에 관한 것으로, 조립된 광학계 및 광학계를 구성하는 각 광학부품의 광축이 전체 광학계의 기준 광축에 대해 어느 정도 틀어져 있는지 그 틀어진 정도를 간편하고 정확하게 측정하는 장치에 관한 것이다.
종래의 광학계 광축 틀어짐 검지 방법으로는 광학계를 구성하는 부품의 수가 많을 경우 각 광학부품들이 얼마만한 광축 틀어짐을 발생시키는지 구분하기 어렵고 단지 오차가 있다는 것만을 알 수 있을 뿐아니라 상당량의 누적오차가 발생하는 단점이 있다.
따라서 본 발명에서는 입사된 광선과 같은 경로로 반사시킬 수 있는 코너 큐브 프리즘을 사용하여 돌아오는 광선의 위치 이동량을 정밀히 측정할 수 있는 광학계 광축 틀어짐 검지 장치를 제시한다.