하전입자 빔 프로브 형성 장치 및 이의 이용방법
    11.
    发明申请
    하전입자 빔 프로브 형성 장치 및 이의 이용방법 审中-公开
    充电颗粒光束成像装置及其使用方法

    公开(公告)号:WO2015083973A1

    公开(公告)日:2015-06-11

    申请号:PCT/KR2014/011388

    申请日:2014-11-26

    CPC classification number: H01J37/147 H01J37/21 H01J37/317

    Abstract: 본 발명은 하전입자 빔을 방출하는 하전입자 소스, 상기 하전입자 소스쪽에 구비되며, 전기장 또는 자기장에 의해 상기 하전입자 빔을 집속하여 주는 하나이상의 중간 집속렌즈, 및 최종 집속렌즈로서 시료쪽에 구비되며, 시료위에 집속되는 빔 스폿인 하전입자 빔 프로브를 형성시키는 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군, 상기 하전입자 소스 및 집속렌즈군을 내부에 구비하며, 상기 하전입자 소스로부터 방출된 하전입자 빔이 대물렌즈를 거쳐 시료에 조사되는 통로인 어퍼처를 구비하는 진공챔버, 상기 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기, 및 관찰 또는 가공하려는 시료를 지지하며, 상기 시료를 이동할 수 있는 시료 스테이지를 포함하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치 및 이를 이용하여 시료를 관찰 또는 가공하는 방법에 관한 것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及带电粒子束探针形成装置和使用其的样品的观察或处理方法,该装置包括:用于发射带电粒子束的带电粒子源; 聚焦透镜组包括至少一个中间聚焦透镜,其设置在与带电粒子源相邻的位置处以通过电场或磁场聚焦带电粒子束,以及与样品相邻设置的物镜作为最终 聚焦透镜形成带电粒子束探针,其是聚焦在样品上的束斑; 包含带电粒子源和聚焦透镜组的真空室,其具有用作通道的孔,通过该通道使从带电粒子源发射的带电粒子束经由物镜瞄准样品; 至少一个偏转器,用于控制和改变带电粒子束的瞄准方向; 以及支持待观察或处理的样品并能够移动样品的样品台。

    위치조절이 용이한 전자현미경용 전자총 및 이를 포함하는 전자현미경
    12.
    发明授权
    위치조절이 용이한 전자현미경용 전자총 및 이를 포함하는 전자현미경 有权
    用于电子显微镜和包含其的电子显微镜的位置可调电子枪

    公开(公告)号:KR101678513B1

    公开(公告)日:2016-11-22

    申请号:KR1020150145944

    申请日:2015-10-20

    Abstract: 본발명은전자총의필라멘트블록(filament block) 또는전자점원의중심축이양극및 집속렌즈의중심축과기계적으로어긋나있을때 진공을유지하기위한벨로우즈를구비하지않고도용이하게전자총의필라멘트블록또는전자점원을이동시킬수 있도록진공구조를개선한위치조절이용이한전자총과이를포함하는전자현미경에관한것으로, 전자빔의중심축을베넬트실린더와마주보는양극판또는전계방출전자원및 1차양극과나란히배치된 2차양극과정렬시키기위하여전자빔발생부를둘러싸며밀봉하는벨로우즈를설치하지않고도 2중오링밀봉부또는자성유체밀봉부상의상면평판을이동할수 있어서전자빔정렬이용이할뿐 아니라간소화된구조와조립및 분해가용이하며재사용이가능한고무오링을사용하므로경제적이다.

    하전입자빔 시스템 평가 플랫폼 장치 및 하전입자빔 시스템 평가방법
    13.
    发明授权
    하전입자빔 시스템 평가 플랫폼 장치 및 하전입자빔 시스템 평가방법 有权
    带电粒子束系统评估平台的装置与方法

    公开(公告)号:KR101648269B1

    公开(公告)日:2016-08-16

    申请号:KR1020140155478

    申请日:2014-11-10

    Abstract: 본발명은전자빔또는이온빔과같은하전입자빔기반의측정및 가공장치의특성을파악할수 있도록가상하전입자원위치, 크기, 각전류밀도등을측정하고평가하는평가플랫폼장치및 하전입자빔시스템평가방법에관한것이다. 이를위하여하전입자소스에서방출되는하전입자빔이통과하는챔버; 챔버내에구비되고, 하전입자빔의경로에위치되어하전입자빔의크기를제한하는애퍼처; 및챔버일측에구비되고, 하전입자빔의경로에위치되어애퍼처를통과한하전입자빔의이미지가맺히는스크린;을포함하고, 스크린에맺히는하전입자빔의이미지를토대로하전입자빔시스템및 하전입자소스중 적어도하나의평가를수행하는것을특징으로하는하전입자빔시스템평가플랫폼장치가제공될수 있다. 이에따르면하전입자빔시스템에서소스및 시스템의정밀한평가가하나의플랫폼장치에서가능해지는효과가있다.

    저탄소강 재질의 초고진공 진공챔버, 진공챔버 제작방법 및 이를 이용한 초고진공 하전입자빔 분석장비
    14.
    发明公开
    저탄소강 재질의 초고진공 진공챔버, 진공챔버 제작방법 및 이를 이용한 초고진공 하전입자빔 분석장비 有权
    MILD钢真空灭火器,制造方法和ULTRAHIGH真空充电粒子分析设备

    公开(公告)号:KR1020150146076A

    公开(公告)日:2015-12-31

    申请号:KR1020140075944

    申请日:2014-06-20

    CPC classification number: H01J37/244 G01N23/225 H01J37/06 H01J37/08

    Abstract: 본발명은저탄소강재질의초고진공진공챔버및 외부전자기장에민감한초고진공하전입자빔분석장비관한것으로서, 보다상세하게는탄소함량이적은저탄소강(mild steels) 진공챔버를사용하여자기장을차폐하며, 동시에초고진공, 극고진공환경을유지시켜물질, 디바이스등의분석을수행할수 있는하전입자빔분석장비에관한것이다. 이를위하여중공의기둥형태로구성되고, 일측이개방되는용기; 및용기의개방된일측이밀폐될수 있도록결합되는커버;를포함하고, 용기의내부에는하전입자빔분석장치가수용되며, 용기는저탄소강재질로구성되고, 용기의내부는 1x10torr 이하의초고진공으로이용되는것을특징으로하는저탄소강재질의초고진공진공챔버를제공할수 있다. 이에따르면초고진공진공환경과자기차폐를동시에달성할수 있는저렴한가격의진공챔버를구현할수 있는효과가있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种由低碳钢材料制成的超高真空室和对外部电磁场敏感的超高真空带电粒子束分析工具。 更具体地说,通过使用碳含量低的低碳钢(软钢)真空室来屏蔽磁场。 同时,保持超高真空和极高的真空环境,因此可以对材料,装置等进行分析。 为此,超高真空室包括:形成为中空柱状的容器,具有一个敞开侧; 以及联接以密封容器的一个敞开侧的盖。 带电粒子束分析工具容纳在容器中,容器由低碳钢材料制成。 容器内部的超高真空度为1×10 ^( - 7)乇或更低。 因此,可以同时实现超高真空环境和磁屏蔽,并且可以以廉价的成本获得真空室。

    하전입자 현미경의 주사신호 제어 방법 및 이를 이용한 장치
    15.
    发明公开
    하전입자 현미경의 주사신호 제어 방법 및 이를 이용한 장치 有权
    用于控制充电颗粒显微镜扫描剖面的方法及其使用方法

    公开(公告)号:KR1020150143907A

    公开(公告)日:2015-12-24

    申请号:KR1020140071894

    申请日:2014-06-13

    CPC classification number: H01J37/26

    Abstract: 본발명은하전입자빔 현미경의주사신호제어방법에관한것으로, 보다구체적으로는하전입자빔의조사방향을제어하여바꾸어주는하나이상의편향기; 하전입자빔의조사방향을제어하는스캔프로파일을생성하여상기편향기에제공하는주사파형발생기; 및상기편향기에서실제로출력되는전류파형을제어하는주사파형제어부;를포함하는하전입자빔 현미경의주사신호를생성하는방법으로서상기편향기로부터기인하는시료표면의왜곡된영상을개선할수 있는주사신호의제어방법및 이를이용한장치에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于控制带电粒子束显微镜的扫描信号的方法,更具体地,涉及一种用于控制能够改善由偏转器引起的样品表面上的失真图像的扫描信号的方法, 使用该方法,产生带电粒子束显微镜的扫描信号的方法,其中所述带电粒子束显微镜包括:用于控制和改变带电粒子束的照射方向的至少一个偏转器; 扫描波形发生器,用于产生用于控制带电粒子束的照射方向并将其提供给偏转器的扫描轮廓; 以及扫描波形控制单元,用于控制实际从偏转器输出的电流波形。

    교환가능한 전자현미경용 전자총 및 이를 포함하는 전자현미경

    公开(公告)号:KR101897460B1

    公开(公告)日:2018-09-12

    申请号:KR1020160152501

    申请日:2016-11-16

    Inventor: 조복래

    CPC classification number: H01J3/02 H01J37/06 H01J37/26

    Abstract: 본발명은진공배기후에진공배기라인연결부를밀봉하고게터를전자총내부에포함시켜진공을유지하며교환가능한전자총및 이를포함하는전자현미경에관한것으로, 진공배기후에진공배기라인연결부를밀봉하고게터를전자총내부에포함시켜진공을유지하며, 전자현미경용전자총을전자빔칼럼에서분리가능하여손쉽게교체가가능하고, 전자빔광학계와함께전자현미경을구성하거나, 기존의전자현미경의전자총교체용품으로사용이가능하여경제적이다.

    사각뿔 형상의 관통공을 구비한 광-전자 융합현미경 광반사 거울 및 그 제조방법
    18.
    发明公开
    사각뿔 형상의 관통공을 구비한 광-전자 융합현미경 광반사 거울 및 그 제조방법 有权
    具有四角锥形通孔的光电子聚变显微镜光反射镜及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020180026006A

    公开(公告)日:2018-03-12

    申请号:KR1020160112458

    申请日:2016-09-01

    CPC classification number: G02B21/0048 G02B21/0032

    Abstract: 본발명은실리콘의결정특성을이용하여형성한사각뿔형상의관통공으로전자빔이통과하게하고광학빔은반사하도록한 광-전자융합현미경용광반사거울에관한것으로, 결정구조의이방성식각을이용하므로, 실리콘의 (111) 면과 (100) 면의각도인 54.7°로식각이되어관통공이한쪽에서다른쪽으로갈수록점점좁아져서(Tapering), 광반사거울을경사지게배열하였을때 좁은관통공부위를광의입사방향으로배치하여광손실을최소화할수 있고, 실리콘습식공정을이용하여경제적인광반사거울의다량획득이가능한효과가있다.

    Abstract translation: 本发明是通过四棱锥状的贯通球电子束是通过使用硅和光束的性质的确定,以反映所形成的光 - 它涉及一种电子熔断器显微镜yonggwang反射镜,使用晶体结构的各向异性蚀刻,在硅 的(111)面,并通过研究窄如上所述,当100在54.7°时通孔是如此逐渐在一侧朝向另一较窄的角度进行蚀刻(逐渐变细),hayeoteul倾斜地布置在反射镜的光的入射方向 光损失可以被最小化,并且可以通过使用硅湿法来经济地获得大量的磷光反射镜。

    리니어 스테이지
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:KR101717120B1

    公开(公告)日:2017-03-27

    申请号:KR1020150005723

    申请日:2015-01-13

    Abstract: 본발명은상면에서로폭방향으로일정간격이격되게형성되는한 쌍의함입홈(110) 및상기한 쌍의함입홈(110) 사이에수용홈(120)이형성되는베이스프레임(100); 상기함입홈(110)에함입되는가이드레일(200); 상기가이드레일(200)을따라길이방향으로슬라이딩가능하게설치되는가이드덮개(300);상기가이드덮개(300)의상면에결합되는이송테이블(400); 및상기수용홈(120)에설치되어상기이송테이블(400)을길이방향으로이송시키는이송유니트(500);를포함하는것을특징으로하는리니어스테이지(1000)에관한것이다.

    하전입자 현미경의 입자빔 제어 장치 및 방법
    20.
    发明公开
    하전입자 현미경의 입자빔 제어 장치 및 방법 有权
    用于控制充电颗粒显微镜中充电颗粒束的装置和方法

    公开(公告)号:KR1020160020598A

    公开(公告)日:2016-02-24

    申请号:KR1020140104928

    申请日:2014-08-13

    CPC classification number: H01J37/22 H01J37/28 H01J49/027 H01J2231/50047

    Abstract: 본발명은하전입자현미경의입자빔제어장치및 방법에관한것으로, 보다상세하게는하전입자현미경내하전입자빔을제어함으로써, 시료표면의정보를획득하기위해정전방식또는자기방식의편향기(스캐너)에의해왜곡되는동적특성을바로잡아원하는위치에하전입자빔을조사시킴으로써측정된시료표면의이미지가왜곡되는것을방지하고, 고속으로이미지를획득할 수있도록하며, 원하는형태로시료표면을가공할수 있도록하는하전입자빔제어장치및 이를이용한하전입자빔의제어방법에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及带电粒子显微镜中控制带电粒子束的装置和方法。 更具体地,控制带电粒子显微镜中的带电粒子束。 由此,校正由静电法或磁法的偏转器(扫描仪)变形的动态特性,以获得样品表面的信息。 带电粒子束被发射到期望的位置。 由此,能够防止测定的样品表面的图像的变形。 图像可以高速获得。 样品表面可以被处理成所需的形状。

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