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公开(公告)号：WO2017014442A1
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：PCT/KR2016/007110
申请日：2016-07-01
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: H01J37/228 , H01J37/28 , H01J2237/2608
Abstract: 본 발명은 전자빔을 방출하는 전자빔 소스; 상기 전자빔 소스쪽에 구비되며, 상기 전자빔을 집속하여 주는 하나이상의 중간 집속렌즈, 및 최종 집속렌즈로서 시료쪽에 구비되며, 시료위에 집속되는 전자빔 스폿을 형성시키는 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군; 상기 전자빔 소스 및 집속렌즈군을 내부에 구비하며, 상기 전자빔 소스로부터 방출된 전자빔이 대물렌즈를 거쳐 시료에 조사되는 통로인 어퍼처를 구비하는 진공챔버; 상기 전자빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기; 및 관찰하려는 시료를 지지하는 시료 스테이지;를 포함하는 주사전자현미경에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种扫描电子显微镜，包括：用于照射电子束的电子束源; 包括至少一个中间聚光透镜的聚光透镜组，其设置成与电子束源相邻并且使电子束冷凝，并将物镜作为最终的聚光透镜设置在与样品相邻并形成电子 在样品上凝结的束斑; 真空室，其内部包括电子束源和聚光透镜组，并且具有作为从电子束源照射的电子束通过物镜照射到样品的通道的孔; 至少一个偏转器，用于控制和改变电子束的照射方向; 以及用于支撑要观察的样品的样品台。
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公开(公告)号：WO2016068507A1
公开(公告)日：2016-05-06
申请号：PCT/KR2015/010578
申请日：2015-10-07
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 입자빔 질량분석기 및 이를 이용한 입자 측정 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가스 흐름(gas flow)에 의한 입자 빔을 집속하는 입자 집속유닛; 열전자를 가속하여 상기 입자 집속 유닛에 의해 집속된 입자 빔을 이온화시켜 하전 입자 빔을 형성하는 전자총; 상기 하전 입자빔을 운동 에너지 대 전하 비(kinetic energy to charge ratio)에 따라 굴절시키는 디플렉터; 및 굴절된 상기 하전 입자 빔에 의한 전류를 측정하는 감지부;를 포함하고, 상기 디플렉터는 굴절되기 전의 하전입자 빔의 진행 중심축을 기준으로 양측에 각각 적어도 하나이상 형성된 입자 빔 분리 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 빔 질량 분석기에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种粒子束质谱仪和粒子测量方法，更具体地涉及一种粒子束质谱仪，其特征在于包括：粒子聚焦单元，用于聚焦由气流引起的粒子束; 电子枪，用于通过加速热电子以使由粒子聚焦单元聚焦的粒子束离子化而形成带电粒子束; 用于根据动能与电荷比弯曲带电粒子束的偏转器; 以及用于测量由于带电粒子束弯曲的电流引起的电流的感测单元，其中偏转器在弯曲之前相对于带电粒子束的前进轴线在其每一侧上包括一个或多个粒子束分离极。
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公开(公告)号：WO2016024704A1
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：PCT/KR2015/005337
申请日：2015-05-28
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 하전입자 현미경의 입자빔 제어 장치 및 방법에 관한 것으로, 보 다 상세하게는 하전입자 현미경내 하전입자빔을 제어함으로써, 시료 표면의 정보를 획득하기 위해 정전 방식 또는 자기 방식의 편향기(스캐너)에 의해 왜곡되는 동적 특성을 바로 잡아 원하는 위치에 하전입자빔을 조사 시킴으로써 측정된 시료표면의 이미지가 왜곡되는 것을 방지하고, 고속으로 이미지를 획득 할 수 있도록 하며, 원하는 형태로 시료 표면을 가공할 수 있도록 하는 하전 입자빔 제어 장치 및 이를 이용한 하전입자빔의 제어 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种带电粒子显微镜的粒子束控制装置和方法，更具体地，涉及一种带电粒子束控制装置和使用该粒子束控制装置的带电粒子束控制方法，该方法控制带电粒子内的带电粒子束 显微镜，以校正由静电方案或磁性方案的偏转器（扫描仪）变形的动态特性，并将带电粒子束照射到期望的位置，以获取样本表面上的信息，从而防止样本表面的测量图像 不会变形，能够快速获取图像，并且能够以期望的形式处理样品表面。
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公开(公告)号：WO2015190723A1
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：PCT/KR2015/005287
申请日：2015-05-27
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: H01J37/26
CPC classification number: H01J37/26
Abstract: 본 발명은 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법에 관한 것으로, 보다 구 체적으로는 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나이상의 편향기; 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일을 생성하여 상기 편향기에 제 공하는 주사파형 발생기; 및 상기 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형을 제어하 는 주사 파형 제어부;를 포함하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호를 생성하는 방법으로서 상기 편향기로부터 기인하는 시료 표면의 왜곡된 영상을 개선할 수 있는 주사 신호의 제어 방법 및 이를 이용한 장치에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于控制带电粒子束显微镜的扫描信号的方法，更具体地，涉及一种用于控制能够改善由偏转器引起的样品表面上的失真图像的扫描信号的方法，以及 使用其的装置，产生带电粒子束显微镜的扫描信号的方法，其中带电粒子束显微镜包括：用于控制和改变带电粒子束的照射方向的至少一个偏转器; 扫描波形发生器，用于产生用于控制带电粒子束的照射方向并将其提供给偏转器的扫描轮廓; 以及扫描波形控制单元，用于控制实际从偏转器输出的当前波形。
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公开(公告)号：WO2015005569A1
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：PCT/KR2014/003552
申请日：2014-04-23
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: H01J37/26 , H01J37/147 , H01J37/22
CPC classification number: H01J37/244 , H01J37/08 , H01J2237/06341 , H01J2237/0656 , H01J2237/0802 , H01J2237/223 , H01J2237/24542
Abstract: 본 발명은 금속팁을 포함하는 입자빔 소스; 상기 입자빔 소스로부터 집속된 입자빔을 수신하고, 이로부터 2차전자를 방출하는 마이크로채널 플레이트; 상기 마이크로채널 플레이트로부터 생성된 2차전자를 수신하고 이를 광신호로 변환하는 형광스크린; 상기 형광스크린으로부터 방출되는 광 데이터를 수집하는 영상수집장치; 및 상기 영상수집장치로부터 얻어지는 데이터를 처리하여 영상화하며, 상기 마이크로채널 플레이트로부터 기인하는 잡음을 제거하기 위해 공간 영역(spatial domain)에서 구현되는 저주파 통과필터(low pass filter)를 포함하여 이루어지는 영상처리장치;를 포함하는, 입자빔의 방출 이미지 획득 장치 및 이를 이용하여 입자빔의 방출 이미지를 획득하는 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于获取粒子束放电图像的装置和使用该装置获取粒子束放电图像的方法，该装置包括：包括金属尖端的粒子束源; 微通道板，用于从粒子束源接收聚焦的粒子束并从其中排出二次电子; 用于接收从微通道板产生的二次电子并将二次电子转换成光信号的荧光屏; 用于收集从荧光屏放出的光学数据的图像采集装置; 以及用于将从图像采集装置获得的数据处理成图像的图像处理装置，该图像处理装置包括在空间域中实现的低通滤波器，以便去除由微通道板产生的噪声。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2015083973A1
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：PCT/KR2014/011388
申请日：2014-11-26
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/317
Abstract: 본 발명은 하전입자 빔을 방출하는 하전입자 소스, 상기 하전입자 소스쪽에 구비되며, 전기장 또는 자기장에 의해 상기 하전입자 빔을 집속하여 주는 하나이상의 중간 집속렌즈, 및 최종 집속렌즈로서 시료쪽에 구비되며, 시료위에 집속되는 빔 스폿인 하전입자 빔 프로브를 형성시키는 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군, 상기 하전입자 소스 및 집속렌즈군을 내부에 구비하며, 상기 하전입자 소스로부터 방출된 하전입자 빔이 대물렌즈를 거쳐 시료에 조사되는 통로인 어퍼처를 구비하는 진공챔버, 상기 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기, 및 관찰 또는 가공하려는 시료를 지지하며, 상기 시료를 이동할 수 있는 시료 스테이지를 포함하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치 및 이를 이용하여 시료를 관찰 또는 가공하는 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及带电粒子束探针形成装置和使用其的样品的观察或处理方法，该装置包括：用于发射带电粒子束的带电粒子源; 聚焦透镜组包括至少一个中间聚焦透镜，其设置在与带电粒子源相邻的位置处以通过电场或磁场聚焦带电粒子束，以及与样品相邻设置的物镜作为最终 聚焦透镜形成带电粒子束探针，其是聚焦在样品上的束斑; 包含带电粒子源和聚焦透镜组的真空室，其具有用作通道的孔，通过该通道使从带电粒子源发射的带电粒子束经由物镜瞄准样品; 至少一个偏转器，用于控制和改变带电粒子束的瞄准方向; 以及支持待观察或处理的样品并能够移动样品的样品台。
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公开(公告)号：WO2014073778A1
公开(公告)日：2014-05-15
申请号：PCT/KR2013/007445
申请日：2013-08-20
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: H01J49/147 , H01J49/067 , H01J49/16
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따르는 이온원은, 일측을 통해서 유입된 가스가 이온화되어 타측으로 배출되며, 외주에 슬릿이 형성되는 양극관과, 상기 가스를 이온화시키도록 상기 슬릿으로 열전자를 방출하는 필라멘트 및 상기 양극관 내부로 유입되는 상기 열전자의 확산을 줄이도록, 상기 열전자가 통과할 수 있게 한 개 이상의 구멍을 가지며, 상기 필라멘트와 상기 슬릿 사이에 배치되는 확산방지체를 포함한다.
Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，离子源包括：阳极管，其中通过一侧流动的气体被离子化并排出到另一侧，并且在其外周上形成狭缝; 将热电子排出到狭缝以使气体离子化的灯丝; 以及布置在灯丝和狭缝之间并具有至少一个热电子可以通过的孔的扩散防止体，以便减少流入阳极管的热电子的扩散。
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公开(公告)号：KR101735696B1
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：KR1020150101358
申请日：2015-07-17
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본발명은전자빔을방출하는전자빔소스; 상기전자빔소스쪽에구비되며, 상기전자빔을집속하여주는하나이상의중간집속렌즈, 및최종집속렌즈로서시료쪽에구비되며, 시료위에집속되는전자빔스폿을형성시키는대물렌즈를포함하는집속렌즈군; 상기전자빔소스및 집속렌즈군을내부에구비하며, 상기전자빔소스로부터방출된전자빔이대물렌즈를거쳐시료에조사되는통로인어퍼처를구비하는진공챔버; 상기전자빔의조사방향을제어하여바꾸어주는하나이상의편향기; 및관찰하려는시료를지지하며, 상기시료를미세하게수평이동할수 있는시료스캐너; 및상기시료스캐너하부에구비되며상기시료및 시료스캐너를함께수평이동할수 있는시료스테이지;를포함하는주사전자현미경에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101725506B1
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：KR1020150102133
申请日：2015-07-20
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: H01J37/228 , H01J37/28 , H01J2237/2608
Abstract: 본발명은전자빔을방출하는전자빔소스; 상기전자빔소스쪽에구비되며, 상기전자빔을집속하여주는하나이상의중간집속렌즈, 및최종집속렌즈로서시료쪽에구비되며, 시료위에집속되는전자빔스폿을형성시키는대물렌즈를포함하는집속렌즈군; 상기전자빔소스및 집속렌즈군을내부에구비하며, 상기전자빔소스로부터방출된전자빔이대물렌즈를거쳐시료에조사되는통로인어퍼처를구비하는진공챔버; 상기전자빔의조사방향을제어하여바꾸어주는하나이상의편향기; 및관찰하려는시료를지지하는시료스테이지;를포함하는주사전자현미경에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020170010229A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：KR1020150101358
申请日：2015-07-17
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본발명은전자빔을방출하는전자빔소스; 상기전자빔소스쪽에구비되며, 상기전자빔을집속하여주는하나이상의중간집속렌즈, 및최종집속렌즈로서시료쪽에구비되며, 시료위에집속되는전자빔스폿을형성시키는대물렌즈를포함하는집속렌즈군; 상기전자빔소스및 집속렌즈군을내부에구비하며, 상기전자빔소스로부터방출된전자빔이대물렌즈를거쳐시료에조사되는통로인어퍼처를구비하는진공챔버; 상기전자빔의조사방향을제어하여바꾸어주는하나이상의편향기; 및관찰하려는시료를지지하며, 상기시료를미세하게수평이동할수 있는시료스캐너; 및상기시료스캐너하부에구비되며상기시료및 시료스캐너를함께수평이동할수 있는시료스테이지;를포함하는주사전자현미경에관한것이다.
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