Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) einen Träger (3) und mehrere optoelektronische Halbleiterchips (2), die an einer Montageseite (32) des Trägers (2) angebracht sind, wobei - der Träger (3) mehrere separate, metallische Leiterrahmenteile (34) und einen Vergusskörper (33) umfasst und der Vergusskörper (33) die Leiterrahmenteile (34) zusammenhält, - der Montageseite (32) eine Befestigungsseite (30) des Trägers (3) gegenüberliegt und die Befestigungsseite (30) für eine Oberflächenmontage des Halbleiterbauteils (1) eingerichtet ist, - die Leiterrahmenteile (34) den Vergusskörper (33) an der Montageseite (32) überragen, und - die optoelektronischen Halbleiterchips (2) Flip-Chips sind, sodass jeder der optoelektronischen Halbleiterchips (2) auf zumindest zwei der Leiterrahmenteile (34) angebracht ist und mittels dieser Leiterrahmenteile (34) elektrisch kontaktiert ist.
Abstract:
Es wird eine optoelektronische Leuchtvorrichtung beschrieben mit: wenigstens einem optoelektronischen Halbleiterbauteil zur Erzeugung von Licht, wenigstens einem Träger für das Halbleiterbauteil, und einer Beschichtung auf zumindest einem Teil einer Oberfläche des Trägers, wobei die Oberfläche des Trägers eine Kennzeichnung aufweist, die von wenigstens einer Erhebung auf der Oberfläche des Trägers gebildet wird, wobei die Beschichtung die wenigstens eine Erhebung zumindest teilweise umgibt, und wobei zumindest eine von der Oberfläche entfernt liegende Frontseite der Erhebung zumindest nicht vollständig von der Beschichtung bedeckt ist.
Abstract:
In einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) mindestens zwei Leiterrahmenteile (21, 22) sowie einen optoelektronischen Halbleiterchip (3), der in einem Montagebereich (24) auf einem der Leiterrahmenteile (21) angebracht ist. Die Leiterrahmenteile (21, 22) sind über einen Vergusskörper (4) mechanisch miteinander verbunden. Der Halbleiterchip (3) ist in den Vergusskörper (4) eingebettet. In dem Montagebereich (24) weist das betreffende Leiterrahmenteil (21) eine reduzierte Dicke (D1) auf. Eine elektrische Leitung (5) ist über den Vergusskörper (4) hinweg vom Halbleiterchip (3) zu einem Anschlussbereich (25) eines weiteren der Leiterrahmenteile (22) geführt. In dem Anschlussbereich (25) weist das betreffende Leiterrahmenteil (22) die volle Dicke (D2) auf. Vom Anschlussbereich (25) hin zum Halbleiterchip (3) überwindet die Leitung (5) keinen signifikanten Höhenunterschied.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung von mindestens einem Halbleiterbauelement (11) angegeben mit den aufeinander folgenden Schritten: -Bereitstellen von mindestens einem Halbleiterchip (1) umfassend: -ein Chipsubstrat (2) -eine auf dem Chipsubstrat (2) angeordnete Halbleiterschichtenfolge (3), -eine erste Hauptfläche (1A) und eine der ersten Hauptfläche (1A) gegenüberliegende zweite Hauptfläche (1B), -mindestens eine Seitenfläche (1C), die quer zu der ersten und zweiten Hauptfläche (1A, 1B) angeordnet ist, wobei der Halbleiterchip (1) an der Seitenfläche (1C) Spuren (8) einer Vereinzelung aufweist, -Bereitstellen eines Trägers (9) mit einer Montagefläche (9A), -Montage des mindestens einen Halbleiterchips (1) auf dem Träger (9), wobei die erste Hauptfläche (1A) des mindestens einen Halbleiterchips (1) mit der Montagefläche (9A) des Trägers (9) verbunden wird, -Ätzen des Halbleiterchips (1) an der Seitenfläche (1C). Des Weiteren wird ein Halbleiterbauelement(11) angegeben, das mit einem derartigen Verfahren hergestellt werden kann.
Abstract:
Es wird ein strahlungsemittierendes optoelektronisches Halbleiterbauteil angegeben mit einer Strahlungsdurchtrittsfläche (S), durch die im Betrieb des Halbleiterbauteils erzeugtes Licht (R) tritt, einer ersten Barriereschicht (1), die an einer Oberseite der Strahlungsdurchtrittsfläche (S) angeordnet ist und dort zumindest stellenweise in direktem Kontakt mit der Strahlungsdurchtrittsfläche (S) steht, einem Konversionselement (3), welches an der der Strahlungsdurchtrittsfläche (S) abgewandten Oberseite der ersten Barriereschicht (1) angeordnet ist, einer zweiten Barriereschicht (2), die an der der ersten Barriereschicht (1) abgewandten Oberseite des Konversionselements (3) und an der Oberseite der ersten Barriereschicht (1) angeordnet ist, wobei die erste Barriereschicht (1) und die zweite Barriereschicht (2) das Konversionselement (3) gemeinsam vollständig umschließen, und die erste Barriereschicht (1) und die zweite Barriereschicht (2) stellenweise in direktem Kontakt miteinander stehen.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Gehäuses (31) für ein elektronisches Bauelement (40)angegeben, bei dem in einem dreidimensionalen Formprozess mit einem Kunststoff ein Gehäuseteileverbund (20) einer Mehrzahl zusammenhängender Kunststoffgehäuseteile (21) hergestellt wird unddurch ein Trennverfahren der Gehäuseteileverbund (20) in eine Mehrzahl einzelner Kunststoffgehäuseteile (21) zerteilt wird, von denen jedes zumindest einen Teil eines Gehäuses (31) bildet, wobei der Formprozess Transfer-Spritzpressen oder Formpressen ist,wobei für den Formprozess ein Formwerkzeug (90) verwendet wird, das Formstifte (93) aufweist, durch die beim Formprozess angeformte erste Seitenflächen (23) an jedem der Kunststoffgehäuseteile (21) erzeugt werden,wobei durch das Trennverfahren an jedem der Kunststoffgehäuseteile (21) zweite Seitenflächen (24) erzeugt werden undwobei die ersten und zweiten Seitenflächen (23, 24) Außenflächen der Kunststoffgehäuseteile (21) bilden. Weiterhin werden ein Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements mit einem solchen Gehäuse, ein Gehäuse für ein elektronisches Bauelement und ein elektronisches Bauelement mit einem solchen Gehäuse angegeben.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement umfasst einen ersten Leiterrahmenabschnitt, der zumindest teilweise in ein Kunststoffmaterial eingebettet ist. Eine Chiplandefläche und eine Lötkontaktfläche des ersten Leiterrahmenabschnitts sind zumindest teilweise nicht durch das Kunststoffmaterial bedeckt. Die Chiplandefläche weist eine erste obere Rille auf. Die Lötkontaktfläche weist eine erste untere Rille auf.
Abstract:
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren zum Herstellen eines Bauelementträgers für ein elektronisches Bauelement (60) bereitgestellt, bei dem zunächst ein Leiterrahmenabschnitt (30) bereitgestellt wird. Der Leiterrahmenabschnitt (30) weist ein elektrisch leitfähiges Material auf. Der Leiterrahmenabschnitt (30) weist weiter einen ersten Kontaktabschnitt (32) zum Ausbilden eines ersten elektrischen Kontaktelements (42), einen zweiten Kontaktabschnitt (34) zum Ausbilden eines zweiten elektrischen Kontaktelements (44) und einen Aufnahmebereich (38) zum Aufnehmen des elektronischen Bauelements (60) auf. Zumindest der Aufnahmebereich (38) und der zweite Kontaktabschnitt (34) sind elektrisch leitend miteinander verbunden. Zumindest auf einer dem Aufnahmebereich (38) gegenüberliegenden Seite des Leiterrahmenabschnitts (30) wird ein thermisch leitendes und elektrisch isolierendes Zwischenelement (50) zum Abführen von Wärme aus dem Aufnahmebereich (38) und zum elektrischen Isolieren des Aufnahmebereichs (38) ausgebildet. Zumindest auf einer dem Aufnahmebereich (38) abgewandten Seite des Zwischenelements (50) wird ein Thermokontakt (52) zum thermischen Kontaktieren des elektronischen Bauelements (60) ausgebildet.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (100), angegeben, mit einem Grundkörper (1), der eine Oberseite (11) sowie eine der Oberseite (11) gegenüberliegende Unterseite (12) aufweist, wobei der Grundkörper (1) eine erste Anschlussstelle (A1) und eine zweite Anschlussstelle (A2) sowie ein Gehäusematerial (2) aufweist; zumindest einem optoelektronischen Bauteil (3), das an der Oberseite (12) des Grundkörpers (1) am Grundkörper (1) angeordnet ist; einem an der Oberseite (11) des Grundkörpers (1) angeordneten Verguss (4), der das optoelektronische Bauteil (3) und den Grundkörper (1) zumindest stellenweise bedeckt; zumindest einer Öffnung (5), die den Verguss (4) und das Gehäusematerial (2) durchdringt und sich von einer dem Grundkörper (1) abgewandeten Oberseite (41) des Vergusses (4) in Richtung der Unterseite (12) des Grundkörpers (1) erstreckt, wobei, in der Öffnung (5) zumindest stellenweise ein elektrisch leitendes Material (6) angeordnet ist, und das elektrisch leitende Material (6) sich zumindest stellenweise an der Oberseite (41) des Vergusses (4) erstreckt.
Abstract:
Es wird ein oberflächenmontierbares optoelektronisches Bauelement (1) mit einer Strahlungsdurchtrittsfläche (10), einem optoelektronischen Halbleiterchip (2) und einem Chipträger (3) angegeben. In dem Chipträger (3) ist eine Kavität (31) ausgebildet, in der der Halbleiterchip (2) angeordnet ist. Ein Formkörper (5) umgibt den Chipträger (3) zumindest bereichsweise, wobei sich der Chipträger (3) in einer senkrecht zur Strahlungsdurchtrittsfläche (10) verlaufenden vertikalen Richtung vollständig durch den Formkörper (5) hindurch erstreckt. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines oberflächenmontierbaren optoelektronischen Bauelements angegeben.