公开(公告)号：KR101063104B1

公开(公告)日：2011-09-07

申请号：KR1020087030562

申请日：2007-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고마츠도모히토

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67103 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/48 ,  H01L21/324 ,  H05B3/143

Abstract: 발열판을, 발열판 수용 용기내에 장착 및 분리 가능하게 마련해서 탑재대를 구성하는 것에 의해, 발열판을 교체, 혹은 교환 가능하게 한 탑재대 구조를 제공한다. 탑재대 구조(29)는, 처리 용기(4)내에 배치되어 피처리체(W)에 대하여 소정의 열처리를 실시하기 위해서 상기 피처리체를 탑재하는 탑재대(32)와, 상기 탑재대를 상기 처리 용기의 바닥부로부터 기립시켜서 지지하는 통체 형상의 받침대(30)를 가진다. 상기 탑재대(32)는, 전기 가열원으로 이루어지는 발열체(38)를 내열성 재료중에 매립하여 이루어지는 발열판(40)과, 내부에 상기 발열판을 장착 및 분리 가능하게 수용하는 내열 내부식성 재료로 이루어지는 발열판 수용 용기(42)를 가진다. 발열판 수용 용기(42)는 개구를 가지는 용기 본체(76)와, 용기 본체(76)에 부착된 덮개부(78)를 포함한다. 이에 의해, 발열판(40)을 교체, 혹은 교환 가능하게 한다.

公开(公告)号：KR100974102B1

公开(公告)日：2010-08-04

申请号：KR1020087003876

申请日：2006-08-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고마츠도모히토

IPC: H01L21/02 ,  C23C16/458

CPC classification number: C04B41/86 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5022 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/4586 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68757 ,  C04B41/4523 ,  C04B35/00 ,  C04B35/581

Abstract: 본 발명은 세라믹제의 탑재대의 갈라짐이나, 이것을 지지하는 기둥의 접합부의 갈라짐을 방지하는 것이 가능한 탑재대 구조를 제공하는것을 목적으로 한다.
처리 용기(4)내에서 피처리체(W)에 대하여 소정의 열처리를 실시하기 위해서 상기 피처리체를 탑재하는 세라믹제의 탑재대(32)와, 상기 탑재대를 지지하는 지지 수단(31)을 갖는 탑재대 구조에 있어서, 상기 탑재대의 표면에, 평면 방향으로의 압축응력이 유지된 상태로 석영 글라스 코팅층(54)을 형성한다. 이에 의해, 세라믹제의 탑재대의 갈라짐이나, 이것을 지지하는 기둥의 접합부의 갈라짐을 방지한다.

公开(公告)号：KR100856153B1

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：KR1020077005091

申请日：2006-07-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고마츠도모히토

IPC: H01L21/205 ,  H05B3/06

CPC classification number: C23C16/4586 ,  C23C16/46 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68792

Abstract: 기판 처리 장치의 처리 용기 내에서 기판 W를 탑재하고, 또한 가열하는 기판 가열 기능을 갖는 기판 탑재 기구(10)로서, 기판 W를 탑재하는 기체(11a)와 기체(11a)에 마련되고 기판 W를 가열하는 발열체(13)를 갖는 기판 탑재대(11)와, 상단이 기판 탑재대(11)에 접합되고, 하단이 처리 용기에 부착되는 지지 부재(12)와, 지지 부재(12)를 가열하는 가열 수단(17)을 구비한다.

公开(公告)号：KR100728400B1

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：KR1020060056572

申请日：2006-06-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무 ,  고마츠도모히토 ,  모치즈키다카시

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명의 목적은 중공 형상의 레그부 내를 방전이 발생하지 않는 압력 분위기로 유지하여 급전선 사이에 있어서의 방전을 방지할 수 있는 탑재대 장치를 제공하는 데에 있다.
본 발명에 있어서는, 가열 수단(42)이 설치된 탑재대(38)와, 이것을 지지하는 중공 형상의 레그부(40)와, 가열 수단에 접속된 급전선(44A, 44B) 등을 갖는 탑재대 장치(36)를 진공 배기 가능하게 이루어진 처리 용기(4) 내에 부착하는 부착 구조체에 있어서, 처리 용기의 바닥부에 형성된 개구부에, 개구부를 밀폐하여 설치되는 바닥부 부착대(56)와, 레그부의 하단부와 바닥부 부착대 사이에 개재하여 설치되는 연질의 금속재료로 이루어지는 금속 시일 부재(74)와, 레그부의 하단부를 바닥부 부착대쪽에 고정하는 고정 수단(72)과, 레그부 내에 불활성 가스를 공급하여 급전선 사이에 방전이 발생하지 않는 압력 분위기로 하는 불활성 가스 공급 수단(84)과, 레그부 내의 분위기를, 그 유량을 제한하면서 배출하기 위한 레그부 내 분위기 배기 수단(86)을 구비한다.

公开(公告)号：KR1020060134860A

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：KR1020060056572

申请日：2006-06-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무 ,  고마츠도모히토 ,  모치즈키다카시

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6835 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/68785 ,  H05H1/46

Abstract: A joining construction of a mounting table apparatus, a processing apparatus, and a method for protecting discharge between electric supply wires in the mounting table apparatus are provided to seal a lower end of a leg part with a metal seal member which allows slight leakage. A bottom attachment is installed on an opening formed on a bottom portion of a processing container. A metal seal member(74) is interposed between a lower end of a leg part(40) and a bottom attachment, and is made of a soft metal material. A fixing member(72) fixes the lower end of the leg part to the bottom attachment. An insert gas supply member(84) supplies inert gas in the leg part to produce a pressure atmosphere which protects discharge in electric supply wires(44A,44B,46A,46B). A drain member drains the atmosphere from the leg part.

Abstract translation: 提供一种用于保护安装台设备中的电源线之间的放电的安装台装置，处理装置和方法的接合结构，以用允许轻微泄漏的金属密封构件来密封腿部的下端。 底部附件安装在形成在处理容器的底部上的开口上。 金属密封构件（74）插入在腿部（40）的下端和底部附件之间，并且由软金属材料制成。 固定构件（72）将腿部的下端固定到底部附件。 插入气体供给构件（84）在腿部提供惰性气体，以产生保护供电线（44A，44B，46A，46B）中的放电的压力气氛。 排水构件从腿部排出气氛。

公开(公告)号：KR100584189B1

公开(公告)日：2006-05-29

申请号：KR1020060011285

申请日：2006-02-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고마츠도모히토

IPC: H01L21/324

Abstract: 본 발명은 급전(給電)을 위해 사용되는 급전 부재에 단선 등의 트러블이 발생하기 어려운 기판가열기능을 구비한 기판 탑재 기구를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 기판 탑재 기구는 기판 처리 장치(100)의 처리 용기(1) 내에 있어서 기판(W)을 탑재하는 동시에 가열하는 기판가열기능을 갖는 기판 탑재 기구(1O)로서, 기체(11a)와 기체(11a)에 설치된 발열체(13)를 갖고 기판을 탑재하는 탑재대(11)와, 상단이 탑재대(11)를 지지하고 하단이 처리 용기(1)의 베이스에 설치될 수 있는 지지 부재(12)와, 발열체(13)에 급전하기 위한 급전 단자부(14)와, 지지 부재(12)의 하단 근방에 설치되고 처리 용기(1)의 외부에 설치된 전원(5)에 접속되는 접속 단자(27)와, 급전 단자부(14)에 접속되는 동시에, 지지 부재(12) 내부를 따라 연장하고, 전원(5)으로부터 발열체(13)에 급전하기 위한 급전 부재(15)와, 급전 부재(15) 및 접속 단자부(28)를 잇는 스프링 부재(25)를 구비한다.

Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种具有基板加热功能的基板安装机构，该基板安装机构不易引起用于供电的供电部件的断线等故障。

公开(公告)号：KR102131539B1

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：KR1020180160468

申请日：2018-12-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이케다다로 ,  고마츠도모히토 ,  가마타에이키 ,  사토미키오

IPC: H01J37/32

公开(公告)号：KR102044097B1

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：KR1020180055158

申请日：2018-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이케다다로 ,  고마츠도모히토 ,  나카고미쥰 ,  나가요시게이

IPC: H01J37/32

公开(公告)号：KR1020170122133A

公开(公告)日：2017-11-03

申请号：KR1020170052696

申请日：2017-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지노유타카 ,  고마츠도모히토 ,  이케다다로 ,  나카고미쥰 ,  와쿠츠다케오

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32247 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/334

Abstract: 본발명은처리가스를가스의특성에따른적절한해리상태로해리시킬수 있고, 또한처리가스의도입균일성및 소망한플라즈마균일성을양립시킬수 있는플라즈마처리장치를제공한다. 플라즈마처리장치는챔버(1)와, 웨이퍼를탑재하는탑재대(11)와, 천정벽(10)을거쳐서챔버(1) 내에마이크로파를도입하는플라즈마원(2)와, 천정벽(10)으로부터제 1 가스를챔버(1) 내에도입하는제 1 가스도입부(21)와, 천정벽(10)으로탑재대(11)의사이로부터제 2 가스를챔버(1) 내에도입하는제 2 가스도입부(22)를구비한다. 제 2 가스도입부(22)는복수의가스토출구멍(116)이형성되고, 천정벽(10)과탑재대(11)의사이의소정의높이위치에위치하도록마련된링 형상부재(110)와, 천정벽(10)과링 형상부재(110)를연결하는각부(111a)를갖고, 링형상부재(110)로의제 2 가스의공급은각부(11a)를거쳐서행해진다.

Abstract translation: 本发明提供一种等离子体处理装置，其能够根据气体的特性将处理气体离解为适当的离解状态，并且能够兼顾处理气体的导入和期望的等离子体均匀性。 等离子体处理装置具备：腔室1，载置晶片的载置台11，经由顶壁10向腔室1内导入微波的等离子体源2， 用于通过顶壁10将第二气体从支架11引入腔室1中的第二气体引入部分22以及用于将第二气体引入腔室1中的第二气体引入部分21， 和。 第二气体引入部分22包括环形构件110，该环形构件110形成为形成多个气体排出孔116并且定位在顶壁10和安装台11之间的预定高度位置处， 成形构件110.第二气体经由腿部11a被供给至环状构件110。

公开(公告)号：KR1020170051400A

公开(公告)日：2017-05-11

申请号：KR1020170054842

申请日：2017-04-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이케다타로오 ,  고마츠도모히토 ,  가사이시게루 ,  미야시타히로유키 ,  오사다유키 ,  다니하라아키라 ,  후지노유타카

IPC: H05H1/34 ,  H05H1/46 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01J37/3222 ,  H01J37/32201

Abstract: 마이크로파의파워손실이나이상방전을억제하면서균일한플라즈마를형성할수 있는마이크로파방사안테나, 마이크로파플라즈마원및 플라즈마처리장치를제공한다. 마이크로파전송로를따라전송된마이크로파를챔버내에방사하고, 표면파플라즈마를생성하기위한마이크로파방사안테나(45)로서, 도전체로이루어지는안테나본체(121)와, 안테나본체(121)에각각형성된처리가스도입구(124), 가스확산공간(123) 및복수의가스토출구멍(125)과, 안테나본체(121)에가스확산공간(123) 및가스토출구멍(125)과는분리된상태에서, 마이크로파전송로에대응해서복수형성된슬롯(122)과, 안테나본체(121)의마이크로파방사면측에슬롯형성영역을포함하도록환형상으로설치된환형상유전체부재(126)를갖는다.