CIRCUIT ET PROCEDE DE CONVERSION DE SIGNAL

    公开(公告)号:FR3006833A1

    公开(公告)日:2014-12-12

    申请号:FR1355251

    申请日:2013-06-07

    Abstract: L'invention concerne un circuit comprenant : un premier transistor (202) ayant un premier noeud de courant principal couplé à un premier signal de tension (CNVDD), un noeud de commande couplé à un deuxième signal de tension (CPVDD) et un deuxième noeud de courant principal couplé à un noeud de sortie (206) du circuit ; un deuxième transistor (204) ayant un premier noeud de courant principal couplé à un troisième signal de tension (CNGND), un noeud de commande couplé à un quatrième signal de tension (CPGND) et un deuxième noeud de courant principal couplé au noeud de sortie du circuit ; et une circuiterie (210, 212) adaptée à générer les premier, deuxième, troisième et quatrième signaux de tension sur la base d'une paire de signaux d'entrée différentiels (CP, CN), dans laquelle les premier et deuxième signaux de tension sont tous les deux référencés par rapport à une première tension d'alimentation (VDD) et dans laquelle les troisième et quatrième signaux de tension sont tous les deux référencés par rapport à une deuxième tension d'alimentation (GND).

    POLARISATION D'UNE CELLULE MOS REALISEE DANS UNE TECHNOLOGIE FDSOI

    公开(公告)号:FR3006809A1

    公开(公告)日:2014-12-12

    申请号:FR1355267

    申请日:2013-06-07

    Abstract: L'invention concerne une cellule MOS réalisée dans une technologie silicium entièrement déplété sur isolant, comportant au moins un premier transistor NMOS (1N) et au moins un deuxième transistor PMOS (1P) ou NMOS, formés dans un couche de silicium au-dessus d'une couche en matériau isolant, un premier caisson de type N (2N) et un deuxième caisson de type P (2P) ou de type N, étant réalisés, sous la couche isolante, respectivement à l'aplomb des premier et des deuxième transistors, dans une couche de type N présente sur un substrat de type P, une source du premier transistor NMOS étant polarisée à un potentiel négatif par rapport à un potentiel de polarisation du substrat, ledit caisson (2N) de ce premier transistor étant polarisé à un potentiel positif ou nul par rapport au potentiel de polarisation du substrat.

    PROCEDE DE COMMANDE D'UN CIRCUIT INTEGRE

    公开(公告)号:FR3003996A1

    公开(公告)日:2014-10-03

    申请号:FR1352849

    申请日:2013-03-28

    Abstract: Procédé de commande d'un circuit intégré, comportant : -la fourniture (100) d'un circuit intégré comprenant : • une pluralité de cellules logiques, incluant chacune des premier et second transistors à effet de champ ; • une cellule d'arbre d'horloge, incluant des troisième et quatrième transistors à effet de champ ; -l'application (102) de première et seconde différences de potentiel électrique de grille arrière sur les, respectivement, premier et second transistors de mêmes cellules logiques ; -l'application (104) d'une troisième différence de potentiel électrique de grille arrière sur le troisième transistor, présentant une valeur supérieure à la première différence de potentiel appliquée au même moment, ou -l'application d'une quatrième différence de potentiel électrique de grille arrière sur le quatrième transistor, présentant une valeur supérieure à la seconde différence de potentiel appliquée au même moment.

    PROCEDE DE FABRICATION D'UN TRANSISTOR MOS A AILETTE

    公开(公告)号:FR3002813A1

    公开(公告)日:2014-09-05

    申请号:FR1351827

    申请日:2013-03-01

    Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'un transistor MOS à ailette à partir d'une structure de type SOI comportant une couche semiconductrice (101) sur une couche d'oxyde de silicium (103) revêtant un support semiconducteur (105), ce procédé comprenant les étapes suivantes : a) former, depuis la surface de la couche semiconductrice (101), au moins une tranchée délimitant au moins une ailette (107) dans la couche semiconductrice (101) et s'étendant jusqu'à la surface du support semiconducteur (105) ; b) graver les flancs d'une partie de la couche d'oxyde de silicium (103) située sous l'ailette (107) de façon à former au moins un renfoncement sous l'ailette ; et c) remplir le renfoncement d'un matériau (209) gravable sélectivement par rapport à l'oxyde de silicium.

Patent Agency Ranking