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公开(公告)号：KR1020080087809A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：KR1020087016691
申请日：2007-11-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 아마노요시후미
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/08
CPC classification number: H01L21/67109 , G03F7/42 , G03F7/423 , Y10S134/902 , G03F7/422 , G03F7/70933
Abstract: A processing system (1) is provided with a processing container (30) which stores a processing object (W) in a processing space (83); a processing fluid generating section (41) for generating a processing fluid at a prescribed temperature; and a main channel (56) arranged between the processing fluid generating section (41) and the processing container (30), for guiding the processing fluid supplied from the processing fluid generating section (41).In the downstream of the main channel (56), a processing fluid supply channel (171) is arranged for guiding the processing fluid into the processing container (30) through a switch valve (70) and supplying the processing fluid into the processing space (83) in the processing container (30). In the downstream of the main channel (56), a processing fluid bypass channel (172) is arranged for guiding the processing fluid, which is not guided to the processing fluid supply channel (171), to bypass the processing space (83) through the switch valve (70). On the main channel (56), a flow volume adjusting mechanism (65) for adjusting the flow volume of the processing fluid flowing in the main channel (56) is arranged.
Abstract translation: 处理系统（1）具有处理容器（30），其将处理对象（W）存储在处理空间（83）中; 用于产生规定温度的处理流体的处理液生成部（41） 和设置在处理液生成部（41）和处理容器（30）之间的主通道（56），用于引导从处理液生成部（41）供给的处理液，在主通道（56） ），设置有用于通过切换阀（70）将处理流体引导到处理容器（30）中并将处理流体供给处理容器（30）内的处理空间（83）的处理流体供给流路（171） 。 在主通道（56）的下游设置有处理流体旁路通道172，用于引导未被引导到处理流体供给通道171的处理流体绕过处理空间83。 切换阀（70）。 在主通道（56）上设置有用于调节在主通道（56）中流动的处理流体的流量的流量调节机构（65）。
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公开(公告)号：KR102227409B1
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：KR1020140077970
申请日：2014-06-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명은장치의대형화를초래하는일없이간단하면서확실하게노즐로부터의처리액의토출을확인할수 있도록하는것을과제로한다. 기판에대하여처리액을토출하는노즐을가지며, 상기노즐로부터의처리액의토출상태를확인용지그를이용하여확인할수 있게한 기판처리장치를구비하는기판처리시스템으로서, 상기노즐로부터토출된처리액을받는액수용부를갖는확인용지그가상기기판처리장치의정해진위치에설치되었음을검출하는(단계 S103) 지그센서부와, 상기노즐로부터의처리액의토출을제어하는제어부를구비하고, 상기제어부는, 상기노즐로부터의처리액의토출이금지되어있는상태에서상기지그센서부의검출에기초하여상기확인용지그가상기기판처리장치의정해진위치에설치되었다고판단한경우, 상기노즐의처리액의토출을허가한다(단계 S106).
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公开(公告)号：KR101899169B1
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：KR1020130125120
申请日：2013-10-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 본발명은컵체를흡인하는배기장치의부담을저감하면서, 기판에공급된처리액이기판으로부터비산한후에재차기판에부착하는것을효과적으로방지하는것을목적으로한다. 기판(W)의처리중, 링형의커버부재(5)는기판유지부(3)에유지된기판(W) 상면의둘레가장자리부를덮고, 이둘레가장자리부보다반경방향내측에있는기판의중앙부는커버부재에덮이지않고노출되어있다. 커버부재의하면(52)은, 기판유지부에유지된기판의상면의둘레가장자리부와의사이에간극(G)을형성한다. 컵체(2)의내부공간이배기구(245)를통해흡인되면, 커버부재의위쪽에있는기체가, 커버부재의내주면(51)에둘러싸인공간및 간극(G)을통해, 컵체의내부공간에도입된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101882023B1
公开(公告)日：2018-07-25
申请号：KR1020120140316
申请日：2012-12-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 아마노요시후미
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/04 , H01L21/67051
Abstract: 본발명은다른약액이서로섞이는것을억제하는기판처리장치를제공하는것을과제로한다. 기판처리장치(1)는, 웨이퍼(W)를수평으로유지하는기판유지부(21)와, 기판유지부(21)를회전시키는회전구동부(24)와, 웨이퍼(W) 주연부상의제1 약액공급위치(74a)에제1 약액을토출하는제1 약액노즐(73)과, 웨이퍼(W) 주연부상의제2 약액공급위치(84a)에제2 약액을토출하는제2 약액노즐(83)을구비하고있다. 회전구동부(24)는, 제1 약액노즐(73)이제1 약액을토출할때, 기판유지부(21)를제1 회전방향(R)으로회전시키고, 또한, 제2 약액노즐(83)이제2 약액을토출할때, 기판유지부(21)를제2 회전방향(R)으로회전시킨다.
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公开(公告)号：KR101789111B1
公开(公告)日：2017-10-23
申请号：KR1020120152923
申请日：2012-12-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/02087 , H01L21/30604 , H01L21/32134 , H01L21/67109 , H01L21/6838
Abstract: 본발명은기판의주연부분을처리액으로처리할때에, 기판의온도를신속하게승강시키는것을과제로한다. 기판처리장치는, 기판(W)을유지하는기판유지부(16)와, 기판의주연부분에제1 처리액을공급하는제1 처리액노즐(61)과, 기판의주연부분에제1 처리액보다낮은온도의제2 처리액을공급하는제2 처리액노즐(62)과, 기판의주연부분에제1 온도의제1 가스를공급하는제1 가스공급수단(51, 53 등)과, 기판에대하여상기제1 가스의공급위치보다반경방향중심측에제1 온도보다낮은제2 온도의제2 가스를공급하는제2 가스공급수단(42, 45 등)을구비하고있다.
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公开(公告)号：KR1020170113099A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020170029944
申请日：2017-03-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/66
CPC classification number: H01L21/67253 , H01L21/67028 , H01L21/67132 , H01L21/67259 , H01L21/67288 , H01L21/681 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 기판의주연부의막 제거에관한정보를관리함으로써, 기판처리장치를장기적으로안정되게운용할수 있다. 기판처리레시피에기초하여처리된기판의주연부를상기촬상부(270)에의해촬상함으로써얻어진촬상화상에기초하여, 상기막의제거폭을측정하는측정처리공정(S103)과, 상기막의제거폭의설정값과, 상기측정처리공정에의해측정된막의제거폭의측정값과, 상기측정결과를얻은시각정보를관련시킨관리리스트를작성하는작성공정(S602)과, 상기작성된관리리스트에기초하여기판처리의상태를분석하는분석공정(S603, S606)과, 상기분석공정에의한분석결과에따라, 사용자에대하여정해진알림을행하는알림공정(S605, S608, S609)을구비한다.
Abstract translation: 通过管理关于衬底周边上的膜去除的信息，衬底处理设备可以长时间稳定地操作。 基于衬底的工艺配方在由成像单元270通过图像拾取获得的拍摄图像的基板的周缘的部分的基础上，测量膜除去宽度的测量处理（S103）的设置，该膜被去除宽度 （S602）创建管理列表，该管理列表将由测量处理步骤测量的膜的厚度的测量值与通过测量结果获得的时间信息相关联， （S603，S606）以及用于根据分析处理的分析结果向用户通知确定结果的通知处理（S605，S608，S609）。
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公开(公告)号：KR1020170110008A
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：KR1020170028949
申请日：2017-03-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 복수의상이한종류의세정액을브러시로공급하는경우에있어서도양호한세정처리를행할수 있는기판세정장치를제공하는것이다. 실시형태에따른기판세정장치는기판유지부와브러시와암과토출부와안내부재를구비한다. 기판유지부는기판을회전가능하게유지한다. 브러시는본체부와, 본체부의하부에마련되고기판에눌리는세정체와, 본체부에형성된상하양단이개구되는중공부를가진다. 암은브러시의본체부를스핀들을개재하여회전가능하게지지한다. 토출부는암에마련되고, 토출부로부터복수종류의처리액이전환하여토출되는것이가능하다. 안내부재는토출부와브러시의사이에배치되고, 토출부로부터토출된처리액을일단받아브러시의중공부로유도한다.
Abstract translation: 本发明提供一种基板清洗装置，即使在刷子供给多种不同种类的清洗液的情况下也能够进行良好的清洗处理。 根据实施例的基板清洁设备包括基板保持部分，刷子，臂，排出部分和引导部件。 基板保持部可旋转地保持基板。 刷子具有主体部分，设置在主体部分的下部以抵靠基板的清洁体，以及具有形成在主体部分中的上端和下端都打开的综片。 手臂通过心轴可旋转地支撑着刷子的主体。 排出部分设置在臂中，并且多种处理液体可以从排出部分切换并排出。 引导构件设置在排出部和刷子之间，并且将从排出部排出的处理液接收一次以将其引导到刷子的中心。
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公开(公告)号：KR1020160063273A
公开(公告)日：2016-06-03
申请号：KR1020150165617
申请日：2015-11-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G06T7/0008 , G06T7/62 , G06T2207/30148
Abstract: 본발명은시스템의대형화를초래하지않고단시간에기판의막 제거의상태와포위부재의유지상태를확인할수 있도록하는것을목적으로한다. 포위부재(302)의상방에설치되며, 둘레가장자리부의처리막이제거된웨이퍼(W) 및포위부재(302)를제1∼제3 카메라(601∼603)에의해촬상하고, 측정처리장치(800)에있어서, 이들카메라에의해얻어진촬상화상을처리함으로써, 웨이퍼(W)의둘레가장자리부에있어서상기처리막이존재하지않는커트폭및 웨이퍼(W)의둘레가장자리단과포위부재(302) 사이의간극폭을측정한다.
Abstract translation: 本发明的目的是在不引起系统扩大的情况下在短时间内检查基板的膜去除状态和周围部件的维持状态。 根据安装在周围部件（302）的上部的测量处理装置（800），对周围部件（302）和周边部分的处理膜进行照射的周边部件（302）和 首先，第二和第三相机（601-603），测量处理装置测量周围部件（302）和晶片（W）的周缘部分之间的间隙宽度和处理膜不切割的切割宽度 存在于晶片（W）的圆周边缘部分，通过处理由照相机获得的拍摄图像。
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