公开(公告)号：KR1020140139842A

公开(公告)日：2014-12-08

申请号：KR1020130060464

申请日：2013-05-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고용균 ,  김세연 ,  정경환 ,  김종수 ,  전필권

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/3065 ,  F04B37/14 ,  H01J37/241 ,  H05H1/46

Abstract: 본 발명은 반도체 제조설비 및 그의 세라믹 박막 코팅 방법을 개시한다. 그의 세라믹 박막 코팅 방법은, 세라믹 파우더를 제공하는 단계와, 상기 세라믹 파우더에 불순물을 주입하는 단계와, 상기 불순물이 주입된 상기 세라믹 파우더를 챔버의 내에 분사하여 상기 챔버의 내벽을 세라믹 박막으로 코팅하는 단계를 포함한다. 여기서, 상기 세라믹 파우더는 이리듐 산화막을 포함할 수 있다.

Abstract translation: 本发明公开了一种半导体制造设备和涂覆陶瓷薄层的方法。 涂覆陶瓷薄层的方法包括：提供陶瓷粉末; 向陶瓷粉末注入杂质; 并将其中注入杂质的陶瓷粉末喷射到室中以在室的内壁上涂覆陶瓷薄层。 在这种情况下，陶瓷粉末包括氧化铱层。

公开(公告)号：KR100693248B1

公开(公告)日：2007-03-13

申请号：KR1020040092422

申请日：2004-11-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정 ,  윤창로 ,  고용균

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 건조하는 장치로, 장치는 건조기와 그 내부로 알코올 증기를 공급하는 증기 공급부를 가진다. 증기 공급부는 버블링 방식에 의해 알코올 증기를 발생시키는 제 1증기 발생기와 알코올 액의 가열에 의해 알코올 증기를 발생시키는 제 2증기 발생기를 가진다. 건조기 내에서 마란고니 건조방식에 의해 건조공정 수행시 제 1증기 발생기로부터 알코올 증기가 건조기로 공급되고, 스프레이 건조방식에 의해 건조공정 수행시 제 2증기 발생기로부터 알코올 증기가 건조기로 공급된다.
알코올 증기, IPA, 건조, 마란고니, 스프레이

公开(公告)号：KR100558194B1

公开(公告)日：2006-03-10

申请号：KR1020040000235

申请日：2004-01-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고용균 ,  전상문 ,  도인회 ,  전필권 ,  이상미 ,  임광신 ,  한명옥

IPC: H01L21/306

Abstract: 높은 식각 선택비를 갖는 식각 조성물, 이의 제조 방법, 이를 이용한 산화막의 선택적 식각 방법 및 반도체 장치의 제조 방법이 개시되어 있다. 상기 식각 조성물은 불화수소용액 약 0.1∼8 중량％, 불화암모늄 약 10∼25 중량％, 비이온성 고분자 계면활성제 약 0.0001∼3 중량％ 및 나머지 중량％의 순수를 포함한다. 폴리실리콘으로 이루어진 패턴 또는 스토리지 전극을 효과적으로 보호할 수 있는 식각 조성물을 사용하여 습식 식각 공정으로 산화막을 선택적으로 제거하기 때문에, 높은 식각 선택비로 산화막을 제거할 수 있는 동시에 폴리실리콘막이 손상을 입는 것을 방지할 수 있다. 또한, 산화막을 선택적으로 제거하는 습식 식각 공정의 식각 균일성을 크게 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100481855B1

公开(公告)日：2005-04-11

申请号：KR1020020046060

申请日：2002-08-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임광신 ,  전필권 ,  이헌정 ,  박상오 ,  고용균

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67313 ,  H01L21/67326 ,  H01L21/68707

Abstract: 본 발명은 집적회로를 제조하기 위한 장치로, 본 발명의 장치는 내부에 유체가 수용되는 챔버, 상기 챔버내에 위치되며, 복수의 웨이퍼들이 놓이는 가이드, 그리고 상기 가이드로 복수의 웨이퍼들을 로딩 및 언로딩하는 이송로봇을 구비한다.
상기 가이드는 웨이퍼를 지지하는 지지 로드외에 웨이퍼가 소정범위 이상 기울어지는 것을 방지하는 스토퍼 로드를 더 구비한다. 상기 스토퍼 로드는 지지 로드가 지지하는 웨이퍼가장자리보다 높은 위치의 웨이퍼 가장자리와 접촉된다.
상기 이송로봇은 웨이퍼의 가장자리를 지지하는 제 1 아암과, 제 1아암과 반대측에서 상기 스토퍼 로드와 접촉되는 웨이퍼 가장자리를 밀어주는, 그리고 상기 제 1 아암에 비해 짧은 길이를 가진 제 2 아암을 구비한다.
본 발명인 반도체 제조장치를 사용하면 본 발명에서 웨이퍼 가이드는 스토퍼 로드를 구비하므로 웨이퍼가 기울어져 서로 맞닿는 것을 방지할 수 있고, 이로 인해 건조공정 진행시 웨이퍼들의 흡착에 의해 물반점이 생기는 등 건조불량이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020040099200A

公开(公告)日：2004-11-26

申请号：KR1020040083686

申请日：2004-10-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정 ,  박상오 ,  고용균 ,  전필권

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67326 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67057

Abstract: PURPOSE: Wafer guides used in cleaning and dry processes of a semiconductor substrate is provided to increase dry efficiency of wafers by minimizing a contact area between a wafer guide and wafers. CONSTITUTION: A wafer guide(10) includes a support panel(1) and at least three parallel vertical panels(6a,6b,6c) attached to one surface of the support panel. Each vertical panel includes a vertical body panel(3a,3b,3c) and a plurality of protrusions(5a,5b,5c) defining a plurality of slots(7a,7b,7c) extending upward from the upper surface of the body panel. The protrusions are made of a hydrophobic material, and the vertical body panel is made of hydrophilic material.

Abstract translation: 目的：提供用于半导体衬底的清洁和干燥工艺的晶片引导件，以通过最小化晶片引导件和晶片之间的接触面积来提高晶片的干燥效率。 构成：晶片引导件（10）包括支撑板（1）和附接到支撑板的一个表面的至少三个平行的垂直板（6a，6b，6c）。 每个垂直面板包括垂直体面板（3a，3b，3c）和限定从身体面板的上表面向上延伸的多个狭槽（7a，7b，7c）的多个突起（5a，5b，5c）。 突起由疏水材料制成，垂直体板由亲水材料制成。

公开(公告)号：KR1020040075564A

公开(公告)日：2004-08-30

申请号：KR1020030011109

申请日：2003-02-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고용균 ,  손병우 ,  정종철

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G01N1/02 ,  G01N1/4044 ,  G01N35/0099 ,  G01N2001/028 ,  G01N2033/0095 ,  G01N2035/00059 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for collecting particles are provided to perform a contamination analysis process for an upper part and an edge part of a substrate by using the first and the second scanning units for collecting the first and the second particles, respectively. CONSTITUTION: A rotary chuck is installed in an inside of a process chamber(102) in order to support, absorb, and rotate horizontally a substrate. The first scanning unit(120) absorbs the first scanning solution to form the first scanning solution drops and collects the first particles from the substrate by performing a scanning process using the first scanning solution drops. A driving unit is used for tilting the substrate. The second scanning unit(190) absorbs the second scanning solution to collect the second particles from an edge of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种用于收集颗粒的装置和方法，用于分别使用用于收集第一和第二颗粒的​​第一和第二扫描单元对基板的上部和边缘部分进行污染分析处理。 构成：旋转卡盘安装在处理室（102）的内部，以便支撑，吸收和水平旋转基板。 第一扫描单元（120）吸收第一扫描溶液以形成第一扫描溶液滴，并且通过使用第一扫描溶液滴进行扫描处理从基底收集第一颗粒。 驱动单元用于倾斜基板。 第二扫描单元（190）吸收第二扫描溶液以从基底的边缘收集第二颗粒。

公开(公告)号：KR1020040021960A

公开(公告)日：2004-03-11

申请号：KR1020020053755

申请日：2002-09-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이헌정 ,  박상오 ,  고용균 ,  전필권

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67326 ,  B65D25/103 ,  H01L21/67057 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A wafer guide for cleaning/drying process of a semiconductor substrate is provided to enhance the drying efficiency by minimizing a contact area between the wafer guide and wafers. CONSTITUTION: A wafer guide for cleaning/drying process of a semiconductor substrate includes a support panel and three parallel vertical panels. The parallel vertical panels are adhered on one side of the support panel. Each vertical panel includes vertical body panels(3a,3b,3c) and a plurality of protrusions(5a,5b,5c). The protrusions(5a,5b,5c) are projected from each upper side of the vertical body panels(3a,3b,3c) in order to define a plurality of slots. Each sidewall of the slots has a convex shape. Each bottom side of the slots has the convex shape.

Abstract translation: 目的：提供用于半导体衬底的清洁/干燥处理的晶片引导件，以通过最小化晶片引导件和晶片之间的接触面积来提高干燥效率。 构成：用于半导体衬底的清洁/干燥工艺的晶片引导件包括支撑面板和三个平行的垂直面板。 平行的垂直面板粘附在支撑面板的一侧。 每个垂直面板包括垂直主体面板（3a，3b，3c）和多个突起（5a，5b，5c）。 突起（5a，5b，5c）从垂直主体板（3a，3b，3c）的每个上侧突出以限定多个狭槽。 槽的每个侧壁具有凸形。 槽的每个底侧都具有凸形。

公开(公告)号：KR1019990066233A

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019980001984

申请日：1998-01-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고용균

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 케미컬 증발가스를 이용하여 웨이퍼표면을 검사하는 반도체 웨이퍼 기상분해시스템 및 이를 사용한 기상분해방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 기상분해시스템은, 웨이퍼를 투입하고, 챔버를 밀폐시킨 후 케미컬용액을 증발시켜서 웨이퍼표면을 기상분해시키는 반도체 웨이퍼 기상분해시스템에 있어서, 일정량의 케미컬용액을 수용하도록 하방으로 배출구가 형성된 용기와, 상기 용기에 일정량의 케미컬용액을 공급하는 케미컬공급수단 및 상기 챔버 내부에 잔류하는 케미컬 증발기체 및 케미컬용액을 제거하도록 상기 챔버 내부에 세정액을 분사하는 세정수단을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하고, 본 발명의 반도체 웨이퍼 기상분해시스템을 사용한 기상분해방법은, 상기 웨이퍼를 챔버에 투입하고, 용기에 일정량의 케미컬용액을 공급하여, 웨이퍼표면을 기상분해시키고, 상기 케미컬용액과 케미컬 증발기체를 배출시킨 후 챔버를 세정하는 단계들을 포 함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 케미컬용액의 공급, 배출 및 세척이 용이하고, 환경을 보호하며, 작업의 안전성을 향상시키게 하는 효과를 갖는다.

公开(公告)号：KR100203402B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960003399

申请日：1996-02-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 길준잉 ,  고용균

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체소자의 제조공정중 화학용액을 사용하는 공정을 행하는 공정조를 구비한 장비에서 공정에 사용중인 화학용액의 상태를 분석하기 위한 샘플을 채취하는 화학용액의 샘플링장치에 관한 것으로, 공정조에 있는 화학용액을 일정량 수용할 수 있는 용기와, 용기와 공정조를 연결하는 이송관과, 용기를 공정조의 기압보다 낮은 상태로 만들어 주는 진공라인 및 진공펌프를 포함하여, 샘플링 작업시 장비의 공간이나 외부 조건에 영향을 받지 않고, 분석하기 위한 화학용액의 오염을 방지하므로서 장비의 신뢰성을 높여 주도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR1019970052657A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950053373

申请日：1995-12-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 주진호 ,  강성철 ,  고용균

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼의 오염 평가를 위해 마련되는 전 처리 분석장치에 관한 것으로, 특히 미량의 표면 불순물을 정량 분석하기 위해 시료로 제공되는 웨이퍼가 주변 환경과 격리되며, 일정량으로 공급되는 전 처리 용액에 의해 분석 및 평가가 가능한 웨이퍼 표면 불순물의 전 처리 분석 장치에 관한 것으로 웨이퍼가 고정될 수 있도록 내주면 상단에 요홈부가 형성되고, 외주면 둘레로 다수의 체결공이 형성된 하부 케이스와, 상기 하부 케이스와 대응하여 결합되도록 외주면 둘레에 체결공이 형성되고, 내주면 일 측에 용액 공급로가 형성된 상부 케이스와, 상기 상부 케이스 평면을 긴밀하게 막아 주며, 하부 케이스와 일체로 결합되도록 상부 커버가 구비되어 표면 불순물의 정량 분석이 가능하게 됨을 특징으로 하는 웨이퍼 표면 불순물의 전 처 분석 장치.