公开(公告)号：GB2495669B

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：GB201301214

申请日：2011-07-06

Applicant: IBM

Inventor： BAGHERI SAEED ,  DEMARIS DAVID L ,  GABRANI MARIA ,  MELVILLE DAVID OSMOND ,  ROSENBLUTH ALAN E ,  TIAN KEHAN

IPC: H01L21/66 ,  G03F7/20 ,  G06F17/50 ,  H01L21/027

公开(公告)号：DE112011102331T5

公开(公告)日：2013-06-06

申请号：DE112011102331

申请日：2011-07-06

Applicant: IBM

Inventor： BAGHERI SAEED ,  ROSENBLUTH ALAN E ,  DEMARIS DAVID L ,  MELVILLE DAVID OSMOND ,  GABRANI MARIA ,  TIAN KEHAN

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

Abstract: Die vorliegende Erfindung stellt eine Lithografie-Schwierigkeitsmessgröße bereit, bei der es sich um eine Funktion des Energieverhältnisfaktors handelt, der aufweist: ein Verhältnis der ”schwierig zu drucken”-Energie zur ”einfach zu drucken”-Energie der Beugungsordnungen entlang einer Winkelkoordinate i{ des Ortsfrequenzraums, einen Energieentropiefaktor, der die Energieentropie der Beugungsordnungen entlang der Winkelkoordinate ft aufweist, einen Phasenentropiefaktor, der die Phasenentropie der Beugungsordnungen entlang der Winkelkoordinate 6„ aufweist, und einen Gesamtenergie-Entropiefaktor, der die Gesamtenergieentropie der Beugungsordnungen aufweist (430, 440). Die ”schwierig zu drucken”-Energie weist Energie der Beugungsordnungen bei Werten der normalisierten radialen Koordinaten r des Ortsfrequenzraums in einer Umgebung von r = 0 und in einer Umgebung von r = 1 auf, und die ”einfach zu drucken”-Energie weist Energie der Beugungsordnungen auf, die an Zwischenwerten der normalisierten radialen Koordinaten r zwischen der Umgebung von r = 0 und der Umgebung von r = 1 liegen. Der Wert der Lithografie-Schwierigkeitsmessgröße kann zum Ermitteln von Strukturen in einer Entwurfsanordnung verwendet werden, bei denen es sich um bindende Strukturen in einer Optimierungsberechnung handelt. Die Lithografie-Schwierigkeitsmessgröße kann zum Entwerfen integrierter Schaltungen verwendet werden, die gute, verhältnismäßig einfach zu druckende Eigenschaften aufweisen.

公开(公告)号：DE69611561D1

公开(公告)日：2001-02-22

申请号：DE69611561

申请日：1996-02-13

Applicant: IBM

Inventor： CHIU GEORGE LIANG-TAI ,  CIPOLLA THOMAS M ,  DOANY FUAD E ,  DOVE DEREK B ,  ROSENBLUTH ALAN E ,  SINGH RAMA N ,  WILCZYNSKI JANUSZ S

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1335 ,  H04N5/74 ,  H04N9/31

Abstract: An optical system is described consisting of reflection birefringent light valves, polarizing beam splitter, color image combining prisms, illumination system, projection lens, filters for color and contrast control, and screen placed in a configuration offering advantages for a high resolution color display. The illumination system includes a light tunnel having a cross-sectional shape corresponding to the geometrical shape of the spacial light modulator to optimize the amount of light projected onto the screen.

公开(公告)号：DE112014000486T5

公开(公告)日：2015-11-05

申请号：DE112014000486

申请日：2014-05-09

Applicant: IBM

Inventor： TIAN KEHAN ,  INOUE TADANOBU ,  MELVILLE DAVID OZMOND ,  ROSENBLUTH ALAN E ,  SAKOMOTO MASAHARU

IPC: G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  H01L21/027

Abstract: Problem Um ein Verfahren zum Optimieren (Entwerfen) einer Maskenstruktur bereitzustellen, bei dem eine SMO und eine OPC gemeinschaftlich verwendet werden, um einen ausreichenden gemeinschaftlichen Effekt auszuüben, oder auf unterschiedliche Weisen geeignet verwendet werden. Lösungsmöglichkeiten Ein Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung zum Entwerfen einer Quelle und einer Maske für die Lithographie beinhaltet einen Schritt (S1) des Auswählens eines Satzes von Strukturen; einen Schritt des Durchführens einer Quellen-Masken-Optimierung (SMO), die den Satz von Strukturen verwendet, unter einer Beschränkungsregel einer optischen Lagekorrektur (OPC), die für ein selektives Beschränken eines Verschiebens einer Kantenposition eines Polygons verwendet wird, wenn die OPC auf den Satz von Strukturen angewendet wird, sowie einen Schritt (S3, S4) des Festlegens eines Layouts der Maske für die Lithographie mittels Anwenden der OPC auf sämtliche Strukturen, welche die Maske für die Lithographie bilden, wobei die durch die SMO optimierte Quelle verwendet wird.

公开(公告)号：GB2495669A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：GB201301214

申请日：2011-07-06

Applicant: IBM

Inventor： BAGHERI SAEED ,  DEMARIS DAVID L ,  GABRANI MARIA ,  MELVILLE DAVID OSMOND ,  ROSENBLUTH ALAN E ,  TIAN KEHAN

IPC: H01L21/66 ,  G03F7/20 ,  G06F17/50 ,  H01L21/027

Abstract: The present invention provides a lithographic difficulty metric that is a function of an energy ratio factor that includes a ratio of hard-to-print energy to easy-to-print energy of the diffraction orders along an angular coordinate i{ of spatial frequency space, an energy entropy factor comprising energy entropy of said diffraction orders along said angular coordinate ft, a phase entropy factor comprising phase entropy of said diffraction orders along said angular coordinate 6,, and a total energy entropy factor comprising total energy entropy of said diffraction orders (430, 440). The hard-to-print energy includes energy of the diffraction orders at values of the normalized radial coordinates r of spatial frequency space in a neighborhood of r=0 and in a neighborhood of r=l, and the easy-to-print energy includes energy of the diffraction orders located at intermediate values of normalized radial coordinates r between the neighborhood of r=0 and the neighborhood of r=l. The value of the lithographic difficulty metric may be used to identify patterns in a design layout that are binding patterns in an optimization computation. The lithographic difficulty metric may be used to design integrated circuits that have good, relatively easy-to-print characteristics.

公开(公告)号：GB2492688A

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：GB201217762

申请日：2011-03-16

Applicant: IBM

Inventor： BAGHERI SAEED ,  INOUE TADANOBU ,  MELVILLE DAVID O ,  MUTA HIDEMASA ,  ROSENBLUTH ALAN E ,  SAKAMOTO MASAHURA ,  TIAN KEHAN

IPC: G06F17/50 ,  H01L27/02

Abstract: Optical wave data for a semiconductor device design is divided into regions (102). First wavefront engineering is performed on the wave data of each region, accounting for just the wave data of each region. The optical wave date of each region is normalized based on the first wavefront engineering (106). Second wavefront engineering is performed on the wave data of each region, based at least on the wave data of each region as normalized (108). The second wavefront engineering takes into account the wave data of each region and a guard band around each region including the wave data of the neighboring regions of each region. The second wavefront engineering can be sequentially performed in parallel by organizing the regions into groups (110).

公开(公告)号：DE69611563D1

公开(公告)日：2001-02-22

申请号：DE69611563

申请日：1996-02-13

Applicant: IBM

Inventor： CHIU GEORGE L ,  CIPPOLA THOMAS M ,  DOANY FUAD E ,  DOVE DEREK B ,  ROSENBLUTH ALAN E ,  SINGH RAMA N ,  WILCZYNSKI JANUSZ S

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1335 ,  G03B21/00 ,  H04N5/74 ,  H04N9/31

Abstract: An optical system is described consisting of reflection birefringent light valves, polarizing beam splitter, color image combining prisms, illumination system, projection lens, filters for color and contrast control, and screen placed in a configuration offering advantages for a high resolution color display. The system includes a quarter wave plate positioned to suppress stray reflection from the projection lens. The system also includes a second quarter wave plate disposed on the screen and a polarizing film disposed on the second quarter wave plate to suppress ambient light from illuminating the screen and entering the system.

公开(公告)号：DE10008337A1

公开(公告)日：2000-09-21

申请号：DE10008337

申请日：2000-02-23

Applicant: IBM

Inventor： HO KENNETH C ,  LU MINHUA ,  ROSENBLUTH ALAN E ,  YANG KEI-HSIUNG

IPC: G02B27/28 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1343 ,  G09G3/36 ,  G02F1/139 ,  G03B21/28 ,  G09G3/20 ,  H04N9/31 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1337 ,  G02B27/18

Abstract: The light valve comprises transparent substrates and a rear plane separated from the substrate by a twisted, nematic liquid crystal (LC) layer with LC molecules with a director axis. The rear plane contains reflecting electrodes with edges parallel, or orthogonal to the director axis of the molecules, when the director axis is projected onto the rear plane surface. The molecules in the twisted, nematic layer are so oriented by transparent substrate rubbing as to bee oriented in a first direction, twisted from horizontal or vertical of the rear plane rubbing. Independent claims are included for a projection system.

公开(公告)号：DE69113715T2

公开(公告)日：1996-05-30

申请号：DE69113715

申请日：1991-08-05

Applicant: IBM

Inventor： GOODMAN DOUGLAS S ,  ROSENBLUTH ALAN E ,  TIBBETTS RAYMOND E ,  WILCZYNSKI JANUSZ S

IPC: G02B17/00 ,  G02B17/02 ,  G02B17/08 ,  G02B19/00 ,  G02B27/18 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H01S3/101 ,  G03B41/00 ,  G02B27/00 ,  G11B7/135

Abstract: An optical system having a plurality of substantially planar reflecting surfaces (10, 20, 36) and a plurality of curved reflecting surfaces (26, 28) providing an optical projection system which can scan a mask object (2) onto an image plane by having the mask (2) and copy substrate (42) substantially fixed in position relative to each other and either simultaneously moving the mask (2) and copy substrate (42) in the same direction or maintaining the mask (2) and image plane substantially stationary and fixed with respect to each other while scanning the optical system. The optical system uses one wavelength of an electromagnetic radiation to align the mask (2) to the copy substrate (42) and another wavelength of electromagnetic radiation to form the image of the mask (2) on the copy substrate (42). The apparatus can be used as a laser ablation optical tool to laser ablate the image of a mask (2) onto the copy substrate (42), as an inspection tool, as a photolithographic and for other related applications. The projection lens is a modified Dyson type lens.