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公开(公告)号：CN101884016A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN200880107099.8
申请日：2008-07-11
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor： 吉多·德布尔 , 米歇尔·彼得·丹斯贝格 , 彼得·克勒伊特
IPC: G03F7/20 , H01L21/67 , H01J37/317
CPC classification number: G03F7/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70308 , G03F7/70783 , H01J37/20 , H01J37/3174 , H01J2237/2007 , H01L21/6875 , H01L21/68757
Abstract: 本发明涉及一种光刻系统，例如用于将图像或图像图案投影到诸如晶片的目标(1)上，所述目标通过目标工作台(2)而包括在所述系统中，固定装置用于将所述目标固定在所述工作台上，其中，所述固定装置包括静止液体层(3)，所述液体层以使得在液体(C)的材料与所述目标(1)和所述目标工作台(2)的各接触面(A、B)的材料的条件下产生压力降(Pcap)的厚度包含在所述目标与所述目标工作台之间。
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公开(公告)号：CN101131910B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200710110708.2
申请日：2003-03-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/317 , H01L21/00 , H01L21/67
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
Abstract: 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X-Y扫描)上运动。在第一方向上的扫描是纵向贯穿在真空室壁上孔(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于导引板(100)支撑，以便于为臂相对于导引板(100)提供悬臂支撑。为臂(60)进入真空室的适应性穿通装置(130)然后担当真空密封和引导件，但其自身不要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离束线，以允许在注入之前实现束分布的确定。
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公开(公告)号：CN101165855A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200710181968.9
申请日：2007-10-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/67 , H01L21/683 , C23F4/00 , H01J37/32 , H05H1/00
CPC classification number: H01L21/6831 , H01J37/32495 , H01J37/32559 , H01J2237/2007 , H01L21/67069 , H01L21/68757
Abstract: 一种能减少等离子处理装置的运行成本并提高装置的运行速度的基板平台。下部电极作为基板平台而设置在该装置的腔室内，静电卡盘被结合在下部电极中。在静电卡盘的侧壁上形成作为喷敷层，膜厚度在从1000至2000μm的范围内，元素周期表第IIIB族元素的氧化膜，如氧化钇膜。
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公开(公告)号：CN1647235A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN03808120.2
申请日：2003-03-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/20 , H01J37/317 , H01L21/00
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
Abstract: 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X－Y扫描)上的移动。在第一方向上的扫描是纵向穿过在真空室壁上开口(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于滑片(100)支撑，以便于为臂相对于滑片(100)提供悬臂支撑。用于臂(60)的进入真空室的适应性穿通装置(130)然后作为真空密封和导引，但其自身不需要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现射束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离射束线，以允许在注入之前实现射束分布的确定。
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公开(公告)号：CN1209641A
公开(公告)日：1999-03-03
申请号：CN98117632.1
申请日：1998-08-24
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 山崎浩
IPC: H01L21/00
CPC classification number: G03F1/20 , G03F1/40 , G03F7/2037 , H01J37/026 , H01J2237/0044 , H01J2237/2007 , H01J2237/3175 , Y10S430/143
Abstract: 在用于包括导电光屏蔽层(32)的光掩模(3)的抗静电方法中,至少两个导电针插入光掩模,从而导电针与导电光屏蔽层接触。然后,光掩模被置于电子束曝光装置的暗盒(71)中。再通过导电板(72)使导电针与暗盒电连接。这样,在导电光屏蔽层被电子束充电的电子有效地从导电针向暗盒放电。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104335320B
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：CN201380026069.5
申请日：2013-03-21
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01J37/20 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/20 , H01J2237/0225 , H01J2237/2007
Abstract: 一种离子植入器包括：压板，具有夹持表面，夹持表面经配置以支撑用于离子处理的晶圆，压板还具有在夹持表面下的至少一对电极；夹持电源，经配置以提供交流信号及代表交流信号的感测信号的，交流信号被提供至至少一对电极；以及控制器。当无晶圆被夹至夹持表面时，控制器经配置以接收来自夹持电源的感测信号。控制器进一步经配置以监控感测信号，并判断感测信号是否代表夹持表面上的沉积物超过预定的沉积物临界。
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公开(公告)号：CN104798172B
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201380060806.3
申请日：2013-11-26
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/22 , H01J37/244
CPC classification number: H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/228 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/2003 , H01J2237/2004 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/201 , H01J2237/20235 , H01J2237/2445 , H01J2237/24455 , H01J2237/24475 , H01J2237/2608 , H01J2237/2801
Abstract: 本发明涉及的带电粒子束装置将从带电粒子束显微镜(601)发出的一次带电粒子束，照射于构成试样台(600)的至少一部分的发光部件(500)上配置的试样(6)，通过发光部件(500)检测透射或散射试样(6)内部的带电粒子，从而取得带电粒子显微镜图像，同时将试样(6)配置于试样台(600)的状态下利用光学显微镜(602)取得光学显微镜图像。
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公开(公告)号：CN105264632B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201480032691.1
申请日：2014-04-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/20 , G01K1/14 , G01N1/32 , H01J37/30 , H01J37/3002 , H01J37/3023 , H01J37/3053 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/08 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/20271 , H01J2237/20285 , H01J2237/317
Abstract: 本发明的目的在于提供离子碾磨装置，能够在将离子束照射至试样并进行加工的离子碾磨装置中，与照射离子束时的试样的变形等无关地，高精度地进行试样的温度控制，例如提出有如下离子碾磨装置的方案，具有支撑将上述试样的一部分暴露于上述离子束并将该试样相对于离子束遮蔽的遮蔽件的遮蔽件支撑部件、和控制该遮蔽件支撑部件与上述试样台的至少一方的温度的温度控制机构，具备在上述离子束的照射中使上述试样台的与试样的接触面追随上述试样的变形而移动的移动机构、和配置在上述遮蔽件与试样之间并在上述离子束的照射中追随上述试样的变形而变形的试样保持部件中的至少一个。
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公开(公告)号：CN105940291A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201580006255.1
申请日：2015-01-28
Applicant: 国立研究开发法人科学技术振兴机构
IPC: G01N1/28 , G01N23/00 , G01N33/574 , H01J37/20
CPC classification number: H01J37/20 , G01N33/4833 , G01N33/5011 , G01N2223/612 , G01N2800/7028 , H01J37/22 , H01J2237/2002 , H01J2237/2007
Abstract: 本发明提供在真空下也能够保护哺乳动物、植物的组织、培养细胞、单细胞等含水状态的生物试样使其不变形、维持存活状态的真空下的电子显微镜观察用保护剂和使用其的试剂盒，利用电子显微镜进行试样的观察、诊断、评价、定量的方法，及观察中使用的试样台。本发明的电子显微镜观察用保护剂，其特征在于，含有生存环境赋予成分、糖类及电解质。
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公开(公告)号：CN103858204B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201280048835.3
申请日：2012-09-03
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/20 , H01J37/22 , H01J37/226 , H01J37/261 , H01J37/28 , H01J2237/166 , H01J2237/182 , H01J2237/2007 , H01J2237/204 , H01J2237/2602 , H01J2237/2608
Abstract: 本发明提供能使用便利性良好地利用带电粒子技术及光学技术可靠地对试样进行检查或观察的检查装置、观察装置。检查或观察装置具备：第一框体(7)，其形成第一空间(11)的至少一部分，该第一空间(11)构成从带电粒子照射部放出的一次带电粒子线到达试样期间的至少一部分的区域且能维持成真空状态；第二框体(121)，其设于该第一框体(7)，形成能收纳所述试样的第二空间(12)的至少一部分；隔壁部(10)，其配置于从所述带电粒子照射部照射出的一次带电粒子线向试样上照射时的所述带电粒子照射部的同轴上，将所述第一空间与所述第二空间隔开；光学式观察部，其对所述试样照射光，从与所述带电粒子照射部相同的方向检测来自所述试样的光。
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