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公开(公告)号：CN103456589B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201210177109.3
申请日：2012-05-31
Applicant: 睿励科学仪器(上海)有限公司
Inventor： 李家铮
IPC: H01J37/09 , H01J37/26 , H01J37/147
Abstract: 本发明的目的是提供一种利用多极透镜调整粒子束流的光阑及包含该光阑的设备。根据本发明的光阑，包括光阑板，其上包括多个分别具有不同孔径的小孔；多个多极透镜，包括位于该光阑板入射侧的第一组多个入射多极透镜及位于该光阑板出射侧的第二组多个出射多极透镜。本发明的优点在于：能够使得电子束以最优剖面轮廓通过光阑板，从而能够获得质量较好的图像；对光阑进行切换时，只需通过调整加在多极透镜上的电压，即可调整电子束的大小，因此光阑的切换更加快速且方便，在实践中仅需零点几秒即可完成光阑的切换，极大地提高了光阑的切换效率；并且，根据本发明的光阑比通常采用的使用步进式马达调整的光阑结构更加简单，且造价更便宜。
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公开(公告)号：CN105206491A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510495691.1
申请日：2015-05-29
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
CPC classification number: H01J37/10 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/24 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J2237/0453 , H01J2237/1202
Abstract: 一种粒子束系统，包括粒子源；具有下游形成粒子束的多个开口(353)的第一多孔板(351)；具有由粒子束穿透的多个开口(361)的第二多孔板(359)；具有由还穿透第一和第二多孔板的开口的全部粒子穿透的开口(365)的孔板(363)；具有由粒子束穿透的多个开口(357)并且具有针对束分别提供偶极场或四极场的多个场发生器(372)的第三多孔板(355)；以及将电势馈送至多孔板和孔板的控制器(369)，从而第二多孔板中的第二开口分别作为透镜作用在粒子束(3)上并将可调节激励馈送至场发生器。
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公开(公告)号：CN102024657B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201010282645.0
申请日：2010-09-13
Applicant: 株式会社昭和真空
Abstract: 提供一种离子枪以及用于该离子枪的格栅。上述离子枪具备格栅更换时输出特性的可重复性、伴随温度变化的形状稳定性以及保管性良好的半管型格栅。在离子枪中，具备在内部产生等离子体的主体、用于从主体内部引出等离子体的格栅以及在与主体之间夹持格栅的框状加速电极，主体的与格栅相对的端面具有山谷状的弯曲面，格栅由平板格栅构成，在安装时与主体的接触面成为与弯曲面一致的曲面。
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公开(公告)号：CN104350575A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201380027656.6
申请日：2013-04-22
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/10 , H01J37/09 , H01J37/18 , H01J37/26 , H01J2237/103
Abstract: 本发明的目的在于提供一种通过有效地配置差动排气节流阀(111)与物侧限制光阑(110)，从而保持照射电流的较大的动态范围并且具有高差动排气能力的带电粒子装置。本发明的特征在于，带电粒子束装置(100)的在内部具有光学系统的镜筒具有第1真空度的第1空间(106)以及比第1真空度更高真空度的第2空间(105)，物侧限制光阑(110)配置于第2空间(105)。
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公开(公告)号：CN103597571B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201280027699.X
申请日：2012-05-31
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/16 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J2237/0216 , H01J2237/26
Abstract: 本发明提供一种带电粒子装置，其具有筒形的镜筒(10)、设于该镜筒内部的带电粒子线光学系统、设于该镜筒的试料台(103)、以及支承所述镜筒的支承装置(211、212)。所述支承装置具有在沿所述镜筒的轴线方向设定的多个支承点对所述镜筒进行简支的简支构造，所述镜筒的支承点被设定在如下位置：将所述镜筒视为两端为自由端的梁时的、与梁的振动的波节的位置对应的位置。由此，能够不增加镜筒自身的重量，使镜筒高刚性化，使作用于镜筒的振动降低。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103811248A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201410083953.9
申请日：2011-03-17
Applicant: 汉辰科技股份有限公司
IPC: H01J37/09 , H01J37/317
CPC classification number: C23C14/48 , H01J37/09 , H01J37/3171 , H01J2237/0455 , H01J2237/24542 , H01J2237/31711
Abstract: 本发明提供一种利用一离子束以及一可变孔隙在一衬底的不同部分上以不同的离子掺杂量进行离子注入的方法，用以先改变离子束形状，特别是在衬底附近改变离子束的最终形状，然后再以成形后离子束来对衬底进行离子注入。因此，衬底的不同部分或是不同的衬底，可在不使用公知通过多个固定孔隙或是每次都要重新调整离子束等方法的情况下，分别通过不同的成形后离子束来进行离子注入。换句话说，不需要高成本与复杂的操作步骤，即可达成分别通过特制离子束来进行不同离子注入的目的。另外，相较于现有技术，由于可变孔隙的调整可通过机械操作而易于达成，故能加速离子束调整过程，以获得进行离子注入的一特定离子束的离子束调整过程。
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公开(公告)号：CN102473576A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080033608.4
申请日：2010-07-14
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/09 , G01N1/286 , H01J37/20 , H01J37/305 , H01J37/31
Abstract: 本发明涉及配置在离子铣削装置的离子源(1)与试样(7)之间与试样接触的位置上的遮蔽板(8，10)，其特征在于，上述遮蔽板为在中心具有开口的圆形，并能够相对于通过上述开口的轴(11)进行旋转。并且，在上述遮蔽板的端部的上述离子源侧的面上设有槽，再有，在上述遮蔽板的端部设有倾斜面。由此，能够提供具有增加能够加工次数并能够高精度地进行遮蔽板的位置调整的遮蔽板的离子铣削装置。
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公开(公告)号：CN102473575A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080031271.3
申请日：2010-07-15
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Inventor： 奈尔·卡尔文
IPC: H01J37/09 , H01J37/317 , H01J3/40 , H01J37/02
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J3/40 , H01J37/026 , H01J37/09 , H01J2237/0041 , H01J2237/022 , H01J2237/31705
Abstract: 提供一种用于在离子植入系统中减少粒子污染的设备。该设备包括外壳(250)，该外壳具有入口(260)、出口(262)和至少一个进气口叶片侧(264)，所述至少一个进气口叶片侧具有在其内限定的多个进气口叶片(266)。离子植入系统的射束线(P)通过该入口和出口，其中所述至少一个进气口叶片侧的多个进气口叶片被配置成机械地过滤沿射束线行进的离子束的边缘。该外壳可具有两个进气口叶片侧(254A，B)和一个进气口叶片顶部(278)，其中当垂直于该射束线测量时，该外壳的入口和出口的各自的宽度大致由两个进气口叶片侧相对于彼此的位置限定。所述进气口叶片侧的一个或多个可调整地安装，其中该外壳的入口和出口中的一个或多个的宽度可控制。
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公开(公告)号：CN1322538C
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN02805094.0
申请日：2002-01-16
Applicant: 瓦里安半导体设备联合公司
Inventor： 安东尼·丽奥 , 埃里克·戴维·赫曼森 , 杰·托马斯·施尤尔
IPC: H01J37/18 , H01J37/317 , H01J37/09
CPC classification number: H01J37/16 , H01J37/3171 , H01J2237/045 , H01J2237/188
Abstract: 一种带电微粒射束装置包括：带电微粒射束源，用于在下游方向上沿着射束路径引导带电微粒射束到达靶；和确定靶腔的处理台。处理台包括腔分隔物，该分隔物在带电微粒束处理靶期间，将靶腔分为上游和下游区域。靶被置于下游区域，并且分隔物具有从其上穿过的缝隙，该缝隙的尺寸允许带电微粒射束穿过到达靶，而几乎没有阻挡，并且限制气体回流到腔的上游区域。分隔物将暴露于在靶上产生的外部核素的射束体积最小化，由此减少射束变化碰撞的可能性。
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公开(公告)号：CN1842887A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200580000963.0
申请日：2005-07-20
Abstract: 本发明公开一种电子束施加装置，其包括：发射电子束的热场发射类型的电子源(12)；正好设置在电子源(12)下面并且作为将由电子源在第一孔径张角中发射的电子束集聚在小于第一孔径张角的第二孔径张角中的集聚电极的静电透镜(14)；设置在静电透镜(14)的下游侧上并且将由静电透镜(14)集聚在第二孔径张角中的电子束集聚在交叉点的集聚透镜；以及设置在集聚透镜(18)下游侧上并且将由集聚透镜(18)集聚在交叉点上的电子束集聚在材料(32)表面上的物镜(28)。
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