公开(公告)号：KR1020110033160A

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：KR1020110014021

申请日：2011-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70691

Abstract: PURPOSE: A coating and developing system is provided to appropriately suppress the height and length of a device by securing high return efficiency in an apparatus. CONSTITUTION: In a coating and developing system, a carrier(20) accommodates 13 wafers(W) with airtight. A carrier block(S1) loads/ unloads the carrier in/ from the coating and developing system. An opening(22) and a transfer arm(IC) is installed in a placement table(21) and the front wall of the placement table(21) in the carrier block. A processing block(S2) and an interface block(S3) perform a coat processing and a developing process of the wafer. The processing block comprises a first unit block laminate(41) and a second unit block laminate(42).

Abstract translation: 目的：提供涂层和显影系统，以通过确保设备中的高回报效率来适当地抑制装置的高度和长度。 构成：在涂层和显影系统中，载体（20）可气密地容纳13个晶片（W）。 载体块（S1）将载体载入/卸载涂布和显影系统。 一个开口（22）和一个传送臂（IC）安装在放置台（21）和放置台（21）的前壁中的载体块中。 处理块（S2）和界面块（S3）进行晶片的涂层处理和显影处理。 处理块包括第一单元块叠层（41）和第二单元块叠层（42）。

公开(公告)号：KR100994856B1

公开(公告)日：2010-11-16

申请号：KR1020057018481

申请日：2004-03-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: G05B19/4189 ,  G05B2219/32244 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67276 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/28

Abstract: 반송 제어 테이블상에 다른 A로트 B로트의 반송 스케쥴(SA) 및 반송 스케쥴(SB)를 생성해 선행하는 A로트의 반송 스케쥴(SA)와 간섭하지 않는 범위에서 후속의 반송 스케쥴(SB)를 5 시간축방향으로 앞으로 집결하도록 이동시켜 후속의 반송 스케쥴(SB)의 개시
타이밍이 선행하는 A로트의 반송 스케쥴(SA)의 종료 타이밍보다 빨리 되는 바와 같이 해 반송 스케쥴(SA)와 반송 스케쥬_르 SB를 병행해 실행시키는 것으로 웨이퍼의 반송 처리의 수율를 향상시킨다.

Abstract translation: 在传送控制表上生成另一个批次B批的传送时间表SA和传送时间表SB，并且随后的传送时间表SB被设置为5 沿时间轴方向前进并开始下一个传输计划SB

公开(公告)号：KR1020080096431A

公开(公告)日：2008-10-30

申请号：KR1020080038514

申请日：2008-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하시모또다까히로 ,  쯔찌야가쯔히로 ,  하야시신이찌 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027 ,  G02F1/1335

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67709 ,  H01L21/6776 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30

Abstract: A coating-developing apparatus, a method and storage medium are provided to improve coating, and developer, throughput. A developer comprises the developing nozzle(151) for successively supplying developer to the wafer(W) between the upstream terminal of the conveying section(110) for import installed at the upstream terminal of the conveyance guide member(130), and conveyance guide, and conveying section(111) for export installed at the down stream end of the conveyance guide, and the cleaning nozzle(152) for supplying the washing solution to the wafer and the gas nozzle(154) for supplying the gas to the wafer .

Abstract translation: 提供涂料显影设备，方法和存储介质以改善涂料和显影剂的生产量。 显影剂包括用于将显影剂连续地供应到安装在输送引导构件（130）的上游端子处的输送部分（110）的上游端子与输送引导件之间的晶片（W）的显影喷嘴（151） 以及安装在输送引导件的下游端的用于出口的输送部分（111），以及用于将洗涤溶液供应到晶片的清洁喷嘴（152）和用于将气体供应到晶片的气体喷嘴（154）。

公开(公告)号：KR1020060103125A

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：KR1020060025822

申请日：2006-03-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67225 ,  Y10T29/49004 ,  Y10T29/49126 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T29/53174 ,  Y10T29/53187 ,  Y10T29/532 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67739 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명은 도포·현상장치 및 도포·현상방법에 관한 것으로서 도포막 형성용의 블럭과 현상 처리용의 블럭을 적층 함과 동시에 각 처리 블럭마다 블럭용의 반송 수단과의 사이에 기판의 수수를 행하기 위한 수수 스테이지를 캐리어블럭 측에 설치해 선반 형상의 수수 스테이지군을 구성하고 이들 수수 스테이지군의 수수 스테이지의 사이에 기판을 반송하는 상하 반송 수단을 설치한다. 그리고 캐리어 블럭의 상부의 빈공간에 기판 검사 유니트를 배치함과 동시에 상하 반송 수단을 개재시켜 직접 혹은 수수 스테이지군중의 수수 스테이지를 개재시켜 해당 기판 검사 유니트에 반송한다. 또 기판 검사 유니트는 수수 스테이지군중에 배치해도 좋은 기판 검사 유니트를 조립에 있어서 설치 스페이스에 대해서 불리하지 않은 구조 예를 들면 도포·현상 장치 본체의 옆으로부터 튀어나오지 않는 구조를 갖춘 도포·현상 장치의 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101339608B1

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：KR1020080028876

申请日：2008-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하시모또다까히로 ,  쯔찌야가쯔히로 ,  하야시신이찌 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178

Abstract: 본 발명의 과제는 도포, 현상 장치에 있어서, 요구되는 스루풋에 따라서 장치의 설계나 제조를 용이하게 행할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
캐리어 블럭(S1)과 인터페이스 블럭(S6) 사이에, 도포막 형성용 단위 블럭과 현상 처리용 단위 블럭을 포함하는 복수의 단위 블럭을 적층하여 구성된 동일한 구성의 처리 블럭(S2 내지 S4)을 서로 전후로 접속하여 설치한다. 이와 같이 동일한 구성의 처리 블럭(S2 내지 S4)을 준비하고, 캐리어 블럭(S1)과 인터페이스 블럭(S6) 사이에 배열하는 처리 블럭의 개수를 증감시킴으로써, 도포, 현상 장치의 처리 속도를 조정함으로써, 요구되는 스루풋에 따라서 장치의 설계나 제조를 용이하게 행할 수 있다.
캐리어 블럭, 인터페이스 블럭, 처리 블럭, 반도체 웨이퍼, 노광 장치

Abstract translation: 发明内容本发明的目的是提供一种能够根据涂布和显影设备中的所需通过量容易地设计和制造设备的技术。

公开(公告)号：KR101177602B1

公开(公告)日：2012-08-27

申请号：KR1020080034634

申请日：2008-04-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다이세이 ,  하야시다야스시 ,  미야타아키라 ,  야마모토겐세이 ,  야마모토유이치 ,  마츠시타미치아키

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67769 ,  Y10S414/139

Abstract: 본 발명은 도포 현상 처리 시스템에서 웨이퍼의 처리 효율을 향상시키는 것을 과제로 한다.
도포 현상 처리 시스템의 반입출 블록에, 카세트 대기 블록(6)이 접속된다. 카세트 대기 블록(6)에는, 카세트 반입출부(110)와, 카세트 대기부(111)와, 카세트 전달부(112)와, 웨이퍼 처리부(113)가 설치된다. 또한, 카세트 대기 블록(6)에는, 카세트 반입출부(110), 카세트 대기부(111) 및 카세트 전달부(112) 사이에서 카세트(C)를 반송하는 카세트 반송 장치(120)와, 카세트 대기부(111)의 카세트(C)와 웨이퍼 처리부(113) 사이에서 웨이퍼(W)를 반송하는 웨이퍼 반송 장치(121)가 설치된다. 각 카세트 대기부(111)에는, 카세트(C)의 도어 오프너(115)가 설치된다.
웨이퍼, 도포 현상 처리 시스템, 기판, 매엽식, 처리 블록

公开(公告)号：KR101125340B1

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：KR1020110014021

申请日：2011-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치에 관한 것으로서 복수의 단위 블럭의 집합체로부터 되는 도포?현상 장치가 제공된다. 제 1의 단위 블럭 적층체와 제 2의 단위 블럭 적층체가 전후방향이 다른 위치에 배치된다. 노광 후의 현상 처리를 실시하는 현상 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 현상용 단위 블럭이 최하단에 배치된다. 노광전의 도포 처리를 실시하는 도포 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 도포용 단위 블럭은 현상용 단위 블럭 위에 배치된다. 도포용 단위 블럭은 제 1의 단위 블럭 적층체 및 제 2의 단위 블럭 적층체의 양쪽 모두에 배치된다. 반사 방지막과 레지스트막의 적층 위치 관계에 따라 도포?현상 장치내에 있어서 노광전의 웨이퍼나 경유하는 도포용 단위 블럭을 결정한다. 노광 후의 웨이퍼는 도포용 단위 블럭을 통과하는 일 없이 현상용 단위 블럭만을 통과하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101121314B1

公开(公告)日：2012-03-26

申请号：KR1020070036386

申请日：2007-04-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하야시다야스시 ,  하야시신이치

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178

Abstract: 본 발명은 도포 현상 장치, 기판 처리 방법 및 기록 매체로서, 복수의 처리 유니트 및 반송 기구 (A3, A4)를 포함하는 도포막형성부 (B3)과 복수의 처리 유니트 (31) 및 반송 기구 (A1)을 포함하는 현상 처리부 (B1)을 상하에 중복하여 처리 블럭 (S2)에 배치한다. 각 해당부의 반송 기구와의 사이에 기판 W의 수수가 행해지는 복수의 수수 유니트 (TRS)로서 상하에 중복하여 배치된 복수의 수수 유니트 (TRS)와 각 수수 유니트의 사이에 기판을 수수하는 승강 자유로운 수수 유니트용 반송 기구 (D1)이 처리 블럭 (S2)의 캐리어블럭 (S1)측에 설치된다. 도포막형성부현상 처리부중 적어도 어느 한쪽은 해당부의 반송 기구에 의해 반송되는 기판의 검사를 실시하는 기판 검사 유니트 (43)을 가지는 기판 검사 유니트를 구성함에 점유 면적이 좁고 불리한 레이아웃을 피할 수가 있는 도포 현상 장치를 제공하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101126865B1

公开(公告)日：2012-03-23

申请号：KR1020060005910

申请日：2006-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ; BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모 할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种涂布显影装置及其方法，其包括作为用于在处理块（S2）上形成涂膜的单位块的TCT层（B3）; COT层B4; 作为用于显影处理的单位块的BCT层B5和DEV层B1（B2）彼此堆叠。 在TCT层B3中也包括形成防反射膜的情况和未形成防反射膜的情况; COT层B4; 通过选择在BCT层（B5）中使用的单位块响应，并且抑制传输程序的复杂性时，它能够实现软件的简化。

公开(公告)号：KR101086174B1

公开(公告)日：2011-11-25

申请号：KR1020060013649

申请日：2006-02-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67276 ,  G03F7/70533 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184

Abstract: 본 발명은 도포·현상 장치 및 도포·현상 방법에 관한 것으로서 도포·현상 장치는 웨이퍼에 대해서 레지스트막을 형성한 후 노광장치로 반송하고 노광 후의 기판을 현상 처리하는 처리 블럭과 처리 블럭과 노광 장치의 사이에 설치된 인터페이스 반송 기구를 구비하고 상기 처리 블럭은 레지스트를 도포하는 도포막 형성용 단위 블럭과 현상 처리를 실시하는 현상 처리용 단위 블럭을 갖고 도포막 형성용 단위블럭 반송 기구와 현상 처리용 단위 블럭 반송 기구를 별개로 설치한다. 그리고 인터페이스 블럭 반송 기구로부터 노광 후의 기판을 수수한 후 스테이지로 수수한 후 현상처리용 단위 블럭 반송 기구에 의한 해당 기판 수취의 타이밍을 해당 기판이 노광 되고 나서 가열 유니트에 반입될 때까지의 시간이 미리 설정한 시간이 되도록 조정하는 기술을 제공한다.