公开(公告)号：KR1019980012044A

公开(公告)日：1998-04-30

申请号：KR1019970006786

申请日：1997-02-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  우에노기냐

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：KR101671533B1

公开(公告)日：2016-11-01

申请号：KR1020110085634

申请日：2011-08-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  이와시타미츠아키 ,  가미카와유지 ,  나카시마미키오

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/04 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6719

Abstract: 본발명은, 고압유체를사용한피처리기판의처리를행할때에, 이처리가이루어지는처리용기에설치된배관을통한다른기기에의고압유체의유입을방지할수 있는기판처리장치등을제공하는것을과제로한다. 처리용기(31)에서는, 초임계상태또는아임계상태인고압유체에의해, 피처리기판(W)에대하여처리를하고, 이처리용기(31)에는유체의유동방향으로제1 배관부재(71) 및제2 배관부재(72)로분할되어, 유체가통류하는배관(406, 408, 411)이접속되어있다. 접속분리기구(70)는, 제1 배관부재(71)와제2 배관부재(72)를서로접속하는위치와이격시키는위치사이에서, 이들제1, 제2 배관부재(71, 72) 중적어도한쪽측을이동시키고, 개폐밸브(741, 742)는제1, 제2 배관부재(71, 72)에각각설치되어, 이들배관부재(71, 72)를이격시킬때에닫힌다.

公开(公告)号：KR101531428B1

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：KR1020100011526

申请日：2010-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  츠치야다카후미 ,  에가시라고지

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67775 ,  H01L21/67727 ,  H01L21/67733 ,  H01L21/67736 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/687 ,  H01L2221/68368 ,  Y10S414/14

Abstract: 본발명은, 복수장의기판을수용한반송용기가배치되는로드포트와, 반송용기를보관하는용기보관부를구비하는기판처리장치로서, 로드포트에서의반송용기의전달횟수의증대를도모할수 있고, 이것에의해기판을높은스루풋으로처리할수 있는기판처리장치를제공한다. 본발명의기판처리장치는, 가로방향의위치가서로다른제1 반송로(102A) 및제2 반송로(102B)의각각을따라서, 복수장의기판을수용한반송용기(10)를반송하는제1 반송장치(104A) 및제2 반송장치(104B)를이용하고, 제1 반송장치(104A)에의해반송용기(10)의전달이행해지는제1 로드포트(21)와, 이제1 로드포트(21)에대하여계단형으로마련되며, 상기제2 반송장치(104B)에의해반송용기(10)의전달이행해지는제2 로드포트(22)를포함하고있다.

公开(公告)号：KR101391383B1

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：KR1020090078190

申请日：2009-08-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마미키오 ,  가미카와유지

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02

CPC classification number: B01D1/065 ,  B01B1/005 ,  B01D1/02 ,  B01D1/30 ,  F26B5/00 ,  F26B5/16

Abstract: 증기발생기(10)는, 유로관(14, 16, 18)과, 유로관(14)의일단에유기용제의액체를공급하는액체유기용제공급부(30)와, 유로관(14, 16, 18)을가열하는가열부(20, 22, 24)를구비하고있다. 유로관(14, 16, 18)은, 일단으로부터타단을향해갈수록그 단면적이커지도록구성되어있다. 유로관(14)의일단에공급된유기용제의액체가가열되어유로관(18)의타단으로부터유기용제의증기가유출되도록되어있다. 기판처리장치(60)는, 전술한증기발생기(10)를구비하고있다.

公开(公告)号：KR1020110113132A

公开(公告)日：2011-10-14

申请号：KR1020110020418

申请日：2011-03-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67057 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67763 ,  H01L21/67772

Abstract: 본 발명은, 패턴 붕괴나 오염의 발생을 억제하면서, 피처리 기판을 건조할 수 있는 기판 처리 장치 등을 제공한다.
본 발명의 기판 처리 장치에서, 액조(32)는, 피처리 기판(W)을 액체에 침지한 상태로 유지하고, 처리 용기(31)에서는, 이 액조(32)를 내부의 처리 공간(310)에 배치하며, 상기 액조(32) 안의 액체를 초임계 상태의 유체로 치환하여 피처리 기판을 건조하는 처리를 행한다. 이동 기구(352, 353)는, 액조(32)를 상기 처리 용기(31) 내의 처리 위치와 상기 처리 용기 외부의 준비 위치의 사이에서 이동시키고, 상기 처리 용기(31)에 설치된 가열 기구(312)는 상기 유체를 초임계 상태로 만들거나 그 초임계 상태를 유지하는 한편, 냉각 기구(334, 335)는 상기 처리 용기(31)의 외부의 준비 위치로 이동한 액조(32)를 냉각한다.

Abstract translation: 本发明提供一种能够在抑制图案倒塌和污染的发生的同时干燥待处理基板的基板处理装置等。

公开(公告)号：KR1020110112195A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：KR1020110020416

申请日：2011-03-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67057 ,  H01L21/67034 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 패턴 붕괴나 오염의 발생을 억제하면서, 피처리 기판을 건조할 수 있는 기판 처리 장치 등을 제공한다.
본 발명의 기판 처리 장치에서, 처리 용기(31) 내에는, 피처리 기판(W)이 세로 방향의 상태로 액체 내에 침지되어 있고, 이 액체를 초임계 상태의 치환 유체에 의해 압출하여 처리 용기(31)로부터 배출한다. 그런 다음, 액체로 치환된 후의 치환 유체를 처리 용기(31)로부터 배출하여 상기 처리 용기(31) 안을 감압하고, 이 치환 유체를 초임계 상태에서 기체로 천이시킴으로써 피처리 기판(W)을 건조한다.

Abstract translation: 本发明提供一种能够在抑制图案倒塌和污染的发生的同时干燥待处理基板的基板处理装置等。

公开(公告)号：KR101071326B1

公开(公告)日：2011-10-07

申请号：KR1020060105712

申请日：2006-10-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  에가시라고지

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67739 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67763 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/138

Abstract: 배치형성장치는, 복수장의기판을적층상태로각각수용하는복수의캐리어로부터꺼내진복수장의기판을조합시킴으로써, 기판의배치를형성하도록되어있다. 배치형성장치는각 캐리어에수용된복수장의기판을각각의캐리어로부터꺼내어반송하는기판반송기구와, 이기판반송기구에의해반송되는복수장의기판에대해서, 기판을 1장씩다른기판에대하여이동시킴으로써이들복수장의기판에있어서의상호위치관계를변경하는기판상호위치관계변경기구와, 이기판상호위치관계변경기구에의해상호위치관계가변경되어기판반송기구에의해반송된복수장의기판으로배치를형성하는배치형성기구를구비하고있다. 기판처리시스템은이러한배치형성장치와, 상기배치형성장치에의해형성된기판의배치에대해서처리를행하는기판처리장치를구비하고있다.

公开(公告)号：KR101049842B1

公开(公告)日：2011-07-15

申请号：KR1020070039728

申请日：2007-04-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와타나베츠카사 ,  신도나오키 ,  히로시로고우키치 ,  가미카와유지

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67057 ,  H01L21/67051

Abstract: 피처리 기판으로부터 균일하게 파티클을 높은 제거 효율로 제거할 수 있는 기판 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
기판 세정 방법은, 세정조(12) 내에 저류되는 세정액 내에 피처리 기판(W)을 침지하는 공정과, 상기 세정조 내의 세정액에 초음파를 발생시키는 공정을 구비하고 있다. 초음파를 발생시키는 공정의 적어도 한 기간, 세정조 내에 세정액이 공급된다. 상기 세정조 내에 세정액을 공급하면서 세정조 내의 세정액에 초음파를 발생시키고 있는 동안, 세정조 내에서의 세정액이 공급되는 수직 방향 위치는 변화한다.
세정액, 피처리 기판, 초음파, 세정조, 파티클

Abstract translation: 并且提供一种能够以高去除效率从待处理的基板上均匀地去除颗粒的基板清洁方法。

公开(公告)号：KR1020110037879A

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：KR1020100096437

申请日：2010-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  이나도미히로아키 ,  야마모토히데유키 ,  고미야히로시 ,  에가시라고지

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/12 ,  B08B3/048 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67313 ,  H01L21/67757

Abstract: PURPOSE: An ultrasonic cleaning device, an ultrasonic cleaning method, and a recording medium with a computer program are provided to uniformly clean an object by successively moving a first wafer maintaining unit and a second wafer maintaining unit. CONSTITUTION: An object maintaining device(21a,21b) is installed in a cleaning bath(10) and maintains an object to be immersed in cleaning solutions. The object maintaining device includes a first object maintaining unit and a second object maintaining unit. A side maintaining unit is installed in the cleaning bath and maintains the object. A control device(44) controls an ultrasonic oscillator and a driving device. The driving device maintains the object on the side maintaining unit and then moves the side maintaining unit to the side. An ultrasonic oscillator transmits the ultrasonic vibration from a vibrator to the object.

Abstract translation: 目的：提供一种超声波清洗装置，超声波清洗方法和具有计算机程序的记录介质，以通过连续地移动第一晶片保持单元和第二晶片保持单元来均匀地清洁物体。 构成：将物体保持装置（21a，21b）安装在清洗槽（10）中并保持要浸入清洁溶液中的物体。 物体维持装置包括第一物体保持单元和第二物体保持单元。 侧面保持单元安装在清洗槽中并保持物体。 控制装置（44）控制超声波振荡器和驱动装置。 驱动装置将物体保持在侧保持单元上，然后将侧保持单元移动到侧面。 超声波振荡器将来自振动器的超声波振动传递到物体。

公开(公告)号：KR1020100029029A

公开(公告)日：2010-03-15

申请号：KR1020090078190

申请日：2009-08-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마미키오 ,  가미카와유지

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02

CPC classification number: B01D1/065 ,  B01B1/005 ,  B01D1/02 ,  B01D1/30 ,  F26B5/00 ,  F26B5/16

Abstract: PURPOSE: A steam generator, a steam vapor generation method, and a substrate processing apparatus are provided so that the concentration of the steam vapor of the organic solvent which becomes can be enhanced. The heating of the organic solvent can be done efficiently. CONSTITUTION: A steam generator, and a steam vapor generation method comprises pipe lines(14, 16, 18), a liquid organic solvent supply part, and a heating portion. The pipe line prepares inside the columnar container. The organic solvent which has to be heated flows. Supplies the liquid of the organic solvent to the liquid organic solvent supply part is one end of the pipe line. The heating portion heats the pipe line.

Abstract translation: 目的：提供一种蒸汽发生器，蒸气产生方法以及基板处理装置，能够提高成为有机溶剂的蒸气蒸气的浓度。 有机溶剂的加热可以有效地进行。 构成：蒸汽发生器和蒸气产生方法，包括管道（14,16,18），液体有机溶剂供应部分和加热部分。 管线准备在柱状容器内。 必须加热的有机溶剂流过。 将有机溶剂的液体供应到液体有机溶剂供应部分是管道的一端。 加热部分加热管道。