公开(公告)号：KR101062579B1

公开(公告)日：2011-09-06

申请号：KR1020060040610

申请日：2006-05-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이치 ,  이나도미히로아키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/324

CPC classification number: F27D5/0037 ,  F27B5/04 ,  F27B17/0025 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67109

Abstract: 본 발명은, 기판을 가열하는 가열판과, 기판을 지지하며 제 1 위치와 상기 가열판 위의 제 2 위치 사이에서 이동하여 두 위치 사이에서 웨이퍼를 이송시키는 냉각판을 포함하는 기판가열장치에 관한 것이다. 상기 냉각판에는 상기 냉각판과 함께 이동하도록 방열핀구조물이 연결된다. 상기 핀구조물은 히트 파이프를 통하여 상기 냉각판에 열적으로 연결된다. 상기 냉각판이 정위치에 있을 때 상기 핀구조물에 인접하여 위치하도록 흡입구가 배치된다. 상기 핀구조물은 기체가 상기 흡입구 속으로 유입되기 전에 통과하는 기체에 의해 냉각되므로, 상기 냉각판은 상기 냉각판으로부터 상기 히트 파이프를 통해 상기 핀구조물에 전달되는 열에 의해 냉각된다.

公开(公告)号：KR1020080096468A

公开(公告)日：2008-10-30

申请号：KR1020080038861

申请日：2008-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하시모토타카히로 ,  츠치야카츠히로 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/32 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021

Abstract: A coating-developing apparatus, method and storage medium are provided to improve yield by performing consecutive heat treatment on a plurality of substrates using a transfer working table for substrates. A coating-developing apparatus, method and storage medium include a pair of rotation bodies(91,92) disposed in parallel with a rotation axis, rotating around the rotation axis; a transfer guide member(9) for forming a transfer guide for a wafer, moved along the main orbit; a unit(81) for import disposed on the upper part of the guide; a unit(82) for export disposed on the lower part of the guide; a heating plate(83) for heating the wafer.

Abstract translation: 提供一种涂布显影装置，方法和存储介质以通过使用用于基板的转印工作台对多个基板执行连续热处理来提高成品率。 涂布显影装置，方法和存储介质包括一组围绕旋转轴线旋转的旋转轴平行设置的旋转体（91,92）; 用于形成用于晶片的转移引导件的转移引导构件（9）沿主轨道移动; 用于导入的单元（81）设置在引导件的上部; 用于出口的单元（82）设置在引导件的下部; 用于加热晶片的加热板（83）。

公开(公告)号：KR100786455B1

公开(公告)日：2007-12-17

申请号：KR1020010062011

申请日：2001-10-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이나다히로이치 ,  하야시신이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0486 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67017

Abstract: 본 발명은 기판에 도포액을 도포하는 도포장치이며, 기판을 둘러싸는 용기와, 용기를 안에 수납하는 케이싱와, 상기 케이싱내에 소정의 기체를 공급하는 공급장치와, 용기내의 분위기를 배기하는 제 1 배기관과, 케이싱내의 분위기를 배기하는 제 2 배기관과, 제 1 배기관에 설치되고, 제 1 배기관내를 통과하는 분위기의 유량을 조절하는 제 1 조절장치와, 제 2 배기관에 설치되어, 제 2 배기관내를 통과하는 분위기의 유량을 조절하는 제 2 조절장치를 갖고 있다. 본 발명에 의하면, 케이싱내를 양압력으로 유지하기 때문에 배기조절을 제 2 배기관을 사용하여 할 수 있다. 그 때문에 기체의 공급량에 대하여 케이싱내가 양압력이 되도록 케이싱내를 배기하고, 또한 용기내의 분위기가 용기밖으로 유출하지 않도록 용기내의 분위기를 소정유량이상으로 배기한다고 하는 조건을 만족하는 배기작업을, 제 1 배기관과 제 2 배기관을 사용하여 분담하여 행할 수 있다. 따라서, 케이싱내 및 용기내의 분위기제어를 보다 용이하게 할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020070102426A

公开(公告)日：2007-10-18

申请号：KR1020070036386

申请日：2007-04-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하야시다야스시 ,  하야시신이치

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/02027 ,  G03F1/60 ,  G03F1/84 ,  H01L21/0274

Abstract: A coating and developing system, a substrate processing method and a recording medium are provided to prevent a substrate inspection unit from being protruded to an outside from a main body. A coating and developing system includes a carrier block(S1), a process block(S2), an interface block(S3), and an exposure device(S4). The carrier block includes a plurality of carriers(20). The plurality of carriers receive a plurality of substrates. The process block includes four parts(B2) and a linear carrier. The four parts and the linear carrier are installed to move along a lengthwise direction of the system. The interface block is connected to the exposure device.

Abstract translation: 提供涂布显影系统，基板处理方法和记录介质，以防止基板检查单元从主体突出到外部。 涂覆和显影系统包括载体块（S1），处理块（S2），界面块（S3）和曝光装置（S4）。 载体块包括多个载体（20）。 多个载体接收多个基板。 处理块包括四个部分（B2）和一个线性载体。 安装四个部件和线性载体沿着系统的长度方向移动。 接口块连接到曝光装置。

公开(公告)号：KR100762522B1

公开(公告)日：2007-10-01

申请号：KR1020060021016

申请日：2006-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  기무라요시오 ,  유에다잇세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67742 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178

Abstract: 상하에 반사 방지막을 형성하는데 있어서, 반사 방지막을 형성하는 경우, 하지 않는 경우 중 어디에도 대응할 수 있고, 공간 절약화를 도모할 수 있는 도포, 현상 장치 및 방법을 제공한다.
본 발명의 도포, 현상 장치에 있어서, 처리 블록(S2)에, 3층의 도포막 형성용의 단위 블록(B3~B5)과, 2층의 현상 처리용의 단위 블록(B1, B2)을 서로 적층하여 마련한다. 상기 도포막 형성용의 단위 블록(B3~B5)의 각각에는, 레지스트막의 하방측 또는 상방측의 반사 방지막을 형성하는 제 1 또는 제 2 반사 방지막 유닛(31, 33)과, 도포 유닛(32)이 마련되어 있기 때문에, 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는데 있어서, 공간 절약화를 도모할 수 있고, 또한 반사 방지막을 형성하는 경우, 하지 않는 경우 중 어디에도 대응할 수 있다.

公开(公告)号：KR100740233B1

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：KR1020010028399

申请日：2001-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  하야시신이치

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 처리액토출장치에 관한 것으로서 본체에 설치된 토출구로부터 액저장부내의 처리액을 기판상에 토출하는 처리액토출장치로서 본체로부터 상기 액저장부에 처리액을 공급하는 제 1의 처리액공급관 및 제 2의 처리액공급관과 제 1의 처리액공급관의 외주위에 배치되고 온도조절용의 유체가 흐르는 제 2의 온도조절관을 구비하고 제 1의 온도조절관은 액저장부내에 배치된 액저장부 온도조절관의 일단부에 접속되고 액저장부 온도조절관의 타단부는 온도조절용의 유체를 본체외의 소정장소에 이송하는 제 1의 이송관에 접속되고 제 2의 온도조절관은 액저장부외에 위치하여 그 상태로 본체외의 소정장소에 이송하는 제 2의 이송관에 접속되어 있다. 본 발명에 의하면 액저장부내에서의 열교환장치를 억제하고 또한 각 토출구로부터 토출되는 처리액의 온도를 균일하게 하는 것이 가능하다. 또한 장치전체의 높이와 크기를 콤팩트화하는 것이 가능하다.

公开(公告)号：KR1020060127795A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：KR1020060050415

申请日：2006-06-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하야시신이치 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67276 ,  H01L21/67288 ,  Y10S414/135 ,  H01L21/67155

Abstract: A substrate processing system and a method thereof are provided to find a defective processing unit that caused a defect in a substrate and to suppress a reduction of yield when a large number of substrates are processed. A substrate processing system processes a plurality of substrates in a single-substrate processing module by a plurality of processes. A plurality of modules carry out the processes. A substrate carry unit carries a plurality of substrates from a sending source to a receiving source. A controller(6) controls the substrate carry unit based on one of at least two carry modes for determining the receiving source and the sending source. When the controller receives a carry mode change command, it changes the carry mode in another carry mode and carries the substrate to the substrate carry unit based on the changed carry mode.

Abstract translation: 提供了一种基板处理系统及其方法，以找到在基板处理时引起缺陷的缺陷处理单元，并且当处理大量基板时抑制成品率降低。 基板处理系统通过多个处理在单个基板处理模块中处理多个基板。 多个模块执行该过程。 基板传送单元将多个基板从发送源传送到接收源。 控制器（6）基于用于确定接收源和发送源的至少两个进位模式中的一个来控制基板传送单元。 当控制器接收到进位模式改变命令时，它在另一个进位模式下改变进位模式，并且基于改变的进位模式将基板运送到基板进给单元。

公开(公告)号：KR1020060098339A

公开(公告)日：2006-09-18

申请号：KR1020060022803

申请日：2006-03-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70758 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67745 ,  B05C11/10 ,  H01L21/67017

Abstract: 본 발명은 도포·현상장치에 관한 것으로서 캐리어블럭에 반입된 기판을 처리 블럭에 반송해 도포막을 형성한 후 인터페이스 블럭을 개재하여 노광 장치에 반송하고 상기 인터페이스 블럭을 개재하여 돌아온 노광 후의 기판을 상기 처리 블럭에서 현상 처리하고 캐리어블럭에 반송하는 도포·현상 장치에 있어서 상기 도포막 형성용의 블럭 및 현상용의 블럭에 대해서 적층되고 캐리어 블럭과 인터페이스블럭의 사이에 도포막이 형성된 기판을 캐리어 블럭측으로부터 인터페이스 블럭 측에 직통 반송하는 반송 수단을 설치한다. 이와 같이 구성하는 것으로 도포막 형성용의 블럭과 현상용의 블럭이 메인터넌스안에서도 검사용 기판을 노광 장치에 반송할 수 있으므로 노광 장치의 상태를 검사 할 수 있는 노광 장치의 메인터넌스를 원하는 타이밍으로 실시하는 할 수 있는 도포·현상 장치의 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明被应用于＆middot;之后在衬底已被输送到在载体块的处理块，以形成经由接口块的涂膜输送的基板，以及背面曝光之后输送到曝光装置经由接口块涉及一种显影装置 开发在处理块中的处理，并返回载体块涂覆＆middot;显影在根据相对于所述块的所述块和所述显影剂用于涂层层叠装置以形成薄膜载波块和基底涂膜的界面块载体块侧之间形成 到接口块一侧。 在所述块的所述块和所述涂膜形成的发展，作为构成为即使在运送板检查的曝光装置的维护，因为你用于执行维修的曝光装置的能够检查的曝光装置的状态，以期望的定时的 并提供了开发和开发显影设备的技术。

公开(公告)号：KR1020060097613A

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：KR1020060021016

申请日：2006-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  기무라요시오 ,  유에다잇세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67742 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178

Abstract: 상하에 반사 방지막을 형성하는데 있어서, 반사 방지막을 형성하는 경우, 하지 않는 경우 중 어디에도 대응할 수 있고, 공간 절약화를 도모할 수 있는 도포, 현상 장치 및 방법을 제공한다.
본 발명의 도포, 현상 장치에 있어서, 처리 블록(S2)에, 3층의 도포막 형성용의 단위 블록(B3~B5)과, 2층의 현상 처리용의 단위 블록(B1, B2)을 서로 적층하여 마련한다. 상기 도포막 형성용의 단위 블록(B3~B5)의 각각에는, 레지스트막의 하방측 또는 상방측의 반사 방지막을 형성하는 제 1 또는 제 2 반사 방지막 유닛(31, 33)과, 도포 유닛(32)이 마련되어 있기 때문에, 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는데 있어서, 공간 절약화를 도모할 수 있고, 또한 반사 방지막을 형성하는 경우, 하지 않는 경우 중 어디에도 대응할 수 있다.

公开(公告)号：KR100586117B1

公开(公告)日：2006-06-02

申请号：KR1019990048323

申请日：1999-11-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이치 ,  나가시마신지

IPC: B05C9/08

CPC classification number: B05D7/52 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/0486

Abstract: 도포막 형성장치는, 기판에 대하여 도포막을 형성하기 위한 일련의 처리를 실시하는 처리부와, 이 처리부내에서 기판을 반송하는 공통반송기구를 구비하며, 상기 처리부는, 기판을 냉각하는 냉각유니트와, 제 1 용매를 포함하는 도포액을 기판에 도포하여 도포막을 형성하는 도포유니트와, 이 도포유니트로 형성된 도포막중 졸로 이루어지는 것을 겔로 바꾸는 에이징유니트와, 제 1 용매와는 다른 조성의 제 2 용매를 도포막에 접촉시킴으로써 도포막중의 제 1 용매를 제 2 용매로 치환하는 용매치환유니트와, 저산소농도분위기하에서 기판을 가열하고, 냉각함으로써 도포막을 경화시키는 경화처리유니트와, 기판상의 도포막을 가열하는 가열유니트를 구비한다.