公开(公告)号：KR1020000001435A

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019980021700

申请日：1998-06-11

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  조경익 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A refraction optical system is capable of easily producing a needed wavelength by use of a polarization effect removing panel without affecting a pattern formation instead of 1/4 wavelength panel or 1/2 wavelength panel. CONSTITUTION: The refraction optical system comprises: a reticle(1) having a pattern to be illuminated; a first lens(2) for correcting a difference between rays of light through the reticle; a first rectangular prism(5) for receiving the corrected ray of light by the first lens; a dielectric multi thin film layer(6) for refracting a S-waveform and passing a P-waveform, wherein the dielectric multi thin film layer is comprised of a high refraction material and a low refraction material deposited in turn; a 1/4 wavelength panel(4) for receiving the S-waveform refracted by the dielectric multi thin film layer, producing a phase difference between a normal ray of light and an abnormal ray of light, and changing the S-waveform to a circular polarized light, wherein the 1/4 wavelength panel produces a phase difference between a normal ray of light of the polarized light and an abnormal ray of light thereof, and then changes the polarized light to the P-waveform; a reflector(3) for refracting the polarized light through the 1/4 wavelength panel to re-receiving the light thus refracted to the 1/4 wavelength panel; a second rectangular prism(7) for receiving the P-waveform to the first rectangular prism and the dielectric multi thin film layer; a second lens(8) for receiving the P-waveform through the second rectangular prism; and a polarization effect removing panel(9) for making the polarization of light through the second lens irregular, and for illuminating the light to the wafer.

Abstract translation: 目的：折射光学系统能够通过使用偏振效果去除面板而容易地产生所需的波长，而不影响图案形成而不是1/4波长面板或1/2波长面板。 构成：折射光学系统包括：具有待照明图案的掩模版（1）; 用于校正通过所述掩模版的光线之间的差异的第一透镜（2） 第一矩形棱镜（5），用于通过第一透镜接收经校正的光线; 用于折射S波形并通过P波形的电介质多层薄膜层（6），其中介电多层薄膜层依次沉积高折射材料和低折射材料; 用于接收由电介质多层薄膜层折射的S波形的1/4波长面板（4），产生正常光线和异常光线之间的相位差，并将S波形改变为圆形 偏振光，其中1/4波长面板产生偏振光的正常光线和其异常光线之间的相位差，然后将偏振光改变为P波形; 反射器（3），用于折射通过1/4波长面板的偏振光，以重新接收由此折射到1/4波长面板的光; 用于将P波形接收到第一矩形棱镜和电介质多薄膜层的第二矩形棱镜（7）; 用于通过第二矩形棱镜接收P波形的第二透镜（8）; 以及用于使通过第二透镜的光的偏振不均匀并用于将光照射到晶片的偏振效应去除面板（9）。

公开(公告)号：KR1019990055421A

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019970075365

申请日：1997-12-27

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  손영준 ,  권진혁 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 ArF 엑시머 레이저를 광원으로 하는 스탭 및 스캔(step & scan) 노광장비에 관한 것으로서, 특히 1차원형 반도체 위치 검출소자를 사용하여 그 장치가 비교적 간단하면서도 높은 위치 정밀도를 얻을 수 있는 위치 검출 소자를 이용한 레티클 정렬 장치 및 레티클 정렬 방법에 관한 것이다.
본 발명은 실제 노광 작업을 위해 반도체 회로 패턴을 담고있는 레티클을 카세트나 카트릿지로 부터 레티클 척으로 반입할 때 레티클이 웨이퍼나 광학계의 상대적인 적정 위치에 올 수 있도록 레티클을 직접 정렬하는 레티클 정렬 장치에 관한 내용으로서 1차원형 반도체 위치 검출소자를 사용하여 그 장치가 비교적 간단하면서도 높은 정밀도를 얻을 수 있는 장치 및 방법을 제시한다.

公开(公告)号：KR1019990052162A

公开(公告)日：1999-07-05

申请号：KR1019970071611

申请日：1997-12-22

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 반도체 소자 제작의 핵심을 이루는 스텝퍼나 스캐너와 같은 노광장비에 있어서, 실제 노광 작업을 위해 반도체 회로 패턴을 담고있는 레티클을 카세트 혹은 카트릿지로 부터 레티클 척으로 반입하였을 때, 레티클이 웨이퍼나 광학계의 상대적인 적정 위치에 올 수 있도록 레티클을 수평방향으로 정렬할 뿐만 아니라 광축 방향으로 수직 정렬을 동시에 가능케 하는 레티클 정렬 장치에 관한 것으로, 이와같은 본 발명은 정전용량 센서를 사용하여 그 장치가 비교적 간단하면서도 높은 정밀도를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR100170476B1

公开(公告)日：1999-05-01

申请号：KR1019950052657

申请日：1995-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: G02B27/00

Abstract: 본 발명은 모아레 무늬를 이용한 광학계 성능 측정장치 및 측정방법에 관한 것이다.
본 발명의 광학계 성능 측정장치는 기준격자(1)와, 시편격자(2)와, 조명광원(3)과, 광검출기(5)와, 로타리 스테이지(6)를 포함한다.
아울러, 본 발명의 광학계 성능 측정방법은, 광학계의 상 위치에 기준격자(1)을 광축에 수직되게 위치시키는 단계; 시편격자(2)를 광학계(4)의 물체위치에 위치시키는 단계; 조명광원(3)을 비추어 시편격자(2)가 광학계(4)에 의해 상 위치에 결상되게 하여 결상된 시편격자(2)의 상과 기준격자(1)에 의해 모아레무늬를 생성하는 단계; 상기한 모아레무늬의 강도분포를 광검출기(5)를 이용하여 측정하는 단계; 기준격자(1)가 놓인 로타리 스테이지(6)를 이동하면서 각 지점에서의 모아레무늬의 밝은 부분 강도와 어두운 부분의 강도를 측정하여 모아레무늬에 대한 강도분포의 차이가 최대인 지점을 찾는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR1019990025513A

公开(公告)日：1999-04-06

申请号：KR1019970047178

申请日：1997-09-12

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  최상수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  유형준

IPC: G02B27/00

Abstract: 본 발명은 광학계의 광축 틀어짐 검지 장치에 관한 것으로, 조립된 광학계 및 광학계를 구성하는 각 광학부품의 광축이 전체 광학계의 기준 광축에 대해 어느 정도 틀어져 있는지 그 틀어진 정도를 간편하고 정확하게 측정하는 장치에 관한 것이다.
종래의 광학계 광축 틀어짐 검지 방법으로는 광학계를 구성하는 부품의 수가 많을 경우 각 광학부품들이 얼마만한 광축 틀어짐을 발생시키는지 구분하기 어렵고 단지 오차가 있다는 것만을 알 수 있을 뿐아니라 상당량의 누적오차가 발생하는 단점이 있다.
따라서 본 발명에서는 입사된 광선과 같은 경로로 반사시킬 수 있는 코너 큐브 프리즘을 사용하여 돌아오는 광선의 위치 이동량을 정밀히 측정할 수 있는 광학계 광축 틀어짐 검지 장치를 제시한다.

公开(公告)号：KR100170594B1

公开(公告)日：1999-03-20

申请号：KR1019960017848

申请日：1996-05-25

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 전영진 ,  최상수 ,  정해빈 ,  이종현 ,  유형준

IPC: G03F1/00 ,  G03F1/50

CPC classification number: G03F7/70691 ,  G21K1/10

Abstract: 본 발명은 마스크용 글래스 링 구조에 관한 것으로서, 종래 글래스 링 구조를 개선한 것이다.
즉, 본 발명은 종래의 글래스 링의 기능 및 역할을 크게 저하시키지 않으면서도 글래스 링과 실리콘 웨이퍼 뒷면과의 접촉면적을 적절히 축소 조절하여, 멤브레인의 편평도 및 OPD(Out-of-Plane Distortion)/IPD(In-Plane Distortion) 특성을 크게 개선시킬 수 있도록 한 것이다.
그 글래스 링의 구조는 실리콘 웨이퍼 뒷면과 접착부위 면적을 달리하기 위하여 실리콘 웨이퍼 외경 보다 작은 임의의 크기의 외경 및 이에 상응하는 임의의 내경 크기를 갖고서 마스크를 지지하도록 구성된 것이다.
또 다른 글래스 링의 구조는 여러 구조물 또는 여러 조각으로 구성할 수가 있고, 또한 글래스 링 표면에 글래스 링과 웨이퍼 뒷면과의 접촉면적을 고의로 축소하기 위해 소정 형태의 돌기들을 형성할 수 있는 구조로 된 것이다.

公开(公告)号：KR1019980050456A

公开(公告)日：1998-09-15

申请号：KR1019960069279

申请日：1996-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이각현 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/66

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
반도체 레이저 간섭계를 이용한 웨이퍼 자동 초점 측정장치 및 측정방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
간섭계 전체의 크기에 대해서 소형화 및 구조의 단순화가 가능하며, 웨이퍼의 표면의 넓은 측정 영역에 걸쳐 높은 정밀도로 초점을 측정 및 웨이퍼의 수직 방향의 미소 이동 거리를 측정할 수 있는 반도체 레이저 간섭계를 이용한 웨이퍼 자동 초점 측정장치를 제공하고자 함.
3. 발명이 해결 방법의 요지
레이저 광을 발생하는 반도체 레이저(101); 상기 반도체 레이저에서 방출된 광을 단면이 원형인 평면파로 변환시키는 광 정형수단(103);상기 광 정형수단을 통과한 광이 상기 레이저로의 귀환을 차단하는 광분리수단(104); 상기 광분리수단으로부터 입사된 광의 편광 직교 성분에 따라 반사 또는 투과시키는 편광 빔스플릿터(105); 상기 편광 빔스플릿터를 투과한 광을 소정 주파수만큼 변조하는 음향광학변조수단(107); 상기 음향광학변조수단를 소정 주파수로 구동하는 신호발생수단(109); 상기 편광 빔스플릿터를 통과하여 상기 음향광학변조수단에서 변조된 광 및 상기 편광 빔스플릿터에서 반사된 광을 검출하는 광검출수단(110); 및 상기 광검출수단(110)의 신호와 상기 신호발생수단(109)의 신호가 입력되어 비교되는 위상비교수단(113)을 포함하여 이루어진 반도체 레이저를 이용한 웨이퍼 자동 초점 측정장치를 제공하며, 상기 장치를 이용한 측정방법에 있어서,반도체 레이저로부터 방출된 레이저 광을 원형 단면의 평면파로 바꾸는 광정형 단계;상기 평면파 레이저 광을 기준 거울로 반사시키고, 상기 음향광학소자로 투과시키는 빔스플릿터 단계; 상기 투과된 레이저 광을 상기 음향광학소자를 통해 소정 주파수로 변조하는 제1변조단계; 일차 변조된 레이저 광을 웨이퍼에 조사하는 단계; 웨이퍼에 조사된 후, 반사되어 되돌아온 레이저 광을 상기 음향광학소자를 통해 다시 변조하는 제2변조단계; 상기 기준 거울에 반사되어 돌아온 기준 신호광과 상기 제2변조단계를 통해 돌아온 신호광을 검출하는 광검출 단계; 및 상기 광검출 단계에서 검출된 신호와 음향광학소자를 구동하는 신호 발생기의 신호의 위상을 상호 비교하는 단계를 포함하여 이루어진 초점 측정방법을 제공함.
4. 발명의 중요한 용도
반도체 노광장비에 적용되어, 웨이퍼 초점 신호의 측정 정밀도를 향상시키고 넓은 측정 범위에서도 동작이 가능하며, 간단한 구조를 가지며, 소형화된 자동 초점장치를 간단하게 구성할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970048993A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950053651

申请日：1995-12-21

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  정해빈 ,  이종현 ,  유형준

IPC: G03F1/22 ,  H01L21/30

Abstract: 본 발명은 높은 광투과 정렬창을 갖는 X-선 브랭크마스크 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 종래기술의 X-선 마스크용 투과막은 광투과도가 낮고, 층간정렬도가 떨어졌던 문제점을 해결하기 위해 X-마스크에서 정렬광이 투과하는 부위는 광투과도가 우수한 멤브레인 물질을, X-선 노광에 의한 소산이 없는 멤브레인 물질을 하나의 웨이퍼에 형성한 구조로서, 정렬창의 멤브레인으로 Si
3 N
4 을, 칩부위의 멤브레인은 Si
3 N
4 /poly-Si/Si
3 N
4 을 사용하고, 또한 정렬창의 멤브레인으로 Si
3 N
4 /SiO
2 을 사용하고, 칩부위의 멤브레인은 Si
3 N
4 /poly-Si/Si
3 N
4 을 사용하는 것이다.

公开(公告)号：KR1019960026415A

公开(公告)日：1996-07-22

申请号：KR1019940034382

申请日：1994-12-15

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김상기 ,  백종태 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/324

Abstract: 본 발명은 반도체 제조장치 중에서 특히 선택적으로 열처리 공정을 수행할 수 있도록 한 열처리 장치에 관한 것이다.
종래의 열처리 장치는 시료의 부분적인 열처리가 불가능하여 전체를 열처리 함으로써 열처리가 필요치 않은 부분이 후속열처리 단계에서 전기적, 물리적, 기하학적 변형이 발생하는 문제점들이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 열처리시 시료의 특정 영역의 선택은 물론 주입되는 불순물 중 특성 특성불순물의 선택과, 시료의 증착 박막중 특정 박막만을 선택적으로 열처리 할 수 있도록 열원에서 발산되는 빛을 집속하여 필터를 통과 시킨후 소정의 마스크를 거쳐 시료에 조사 되도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR1020030092213A

公开(公告)日：2003-12-06

申请号：KR1020020029796

申请日：2002-05-29

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 임을균 ,  곽창수 ,  정해빈 ,  김대용 ,  안치득

IPC: G03B35/00

CPC classification number: G03B35/10 ,  G02B27/26 ,  H04N13/194 ,  H04N13/239 ,  H04N13/246

Abstract: PURPOSE: A single lens stereo camera and stereo image system using the same are provided to allow a user to view a stereo image by displaying an image taken through the monocular stereo camera. CONSTITUTION: A monocular single lens stereo camera includes an anamorphic optical system(31) for converting an aspect ratio of a screen and a biprism(32) for separating a left image from a right image. The single lens stereo camera also has a lens(12) and a camera body(11). The camera body(11) transmits a photographed image signal to a computer(35). The computer(35) is connected to the camera body(11) through a communication cable(33) so as to process the photographed image signal. An image splitting program, an image processing program, and an image distortion compensating program are stored in the computer(35).

Abstract translation: 目的：提供使用其的单透镜立体相机和立体声图像系统，以允许用户通过显示通过单眼立体相机拍摄的图像来观看立体图像。 构成：单眼单透镜立体相机包括用于转换屏幕的宽高比和用于将左图像与右图像分离的双棱镜（32）的变形光学系统（31）。 单透镜立体相机还具有透镜（12）和照相机主体（11）。 相机主体（11）将拍摄的图像信号发送到计算机（35）。 计算机（35）通过通信电缆（33）连接到照相机主体（11），以处理拍摄的图像信号。 图像分割程序，图像处理程序和图像失真补偿程序被存储在计算机（35）中。