公开(公告)号：EP2587516A1

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：EP12188592.5

申请日：2008-02-26

Applicant: VEECO INSTRUMENTS INC.

Inventor： Hayes, Alan, V. ,  Yevtukhov, Rustam ,  Kanarov, Viktor ,  Druz, Boris, L.

IPC: H01J37/08 ,  H01J27/18 ,  H01J27/16 ,  H01J37/32 ,  C23C14/35 ,  H01J37/302 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/302 ,  H01J27/18 ,  H01J37/08 ,  H01J37/305 ,  H01J37/32082 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/24542

Abstract: Ion sources and methods of operating an electromagnet of an ion source for generating an ion beam with a controllable ion current density distribution. The ion source (10) includes a discharge chamber (16) and an electromagnet (42; 42a-d) adapted to generate a magnetic field (75) for changing a plasma density distribution inside the discharge chamber (16). The methods may include generating plasma (17) in the discharge space (24), generating and shaping a magnetic field (75) in the discharge space (24) by applying a current to an electromagnet (42; 42a-d) that is effective to define the plasma density distribution, extracting an ion beam (15) from the plasma (17), measuring a distribution profile for the ion beam density, and comparing the actual distribution profile with a desired distribution profile for the ion beam density. Based upon the comparison, the current applied to the electromagnet (42; 42a-d) may be adjusted to modify magnetic field (75) the magnetic field in the discharge space and, thereby, alter the plasma density distribution.

Abstract translation: 离子源和操作离子源的电磁体的方法，用于产生具有可控离子电流密度分布的离子束。 离子源（10）包括适于产生用于改变放电室（16）内的等离子体密度分布的磁场（75）的放电室（16）和电磁体（42; 42a-d）。 所述方法可以包括在放电空间（24）中产生等离子体（17），通过向有效的电磁体（42; 42a-d）施加电流来产生和成形放电空间（24）中的磁场（75） 定义等离子体密度分布，从等离子体（17）提取离子束（15），测量离子束密度的分布分布，并将实际分布分布与用于离子束密度的期望分布分布进行比较。 基于比较，可以调节施加到电磁体（42; 42a-d）的电流以改变放电空间中的磁场（75），从而改变等离子体密度分布。

公开(公告)号：EP1199739B1

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：EP01308857.0

申请日：2001-10-18

Applicant: eLith LLC ,  Agere Systems Guardian Corporation

Inventor： Katsap, Victor ,  Liddle, James A. ,  Mkrtchyan, Masis ,  Stanton, Stuart T.

IPC: H01J37/24 ,  H01J37/153 ,  H01J37/317

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/065 ,  H01J37/153 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0656 ,  Y10S977/881 ,  Y10S977/887

公开(公告)号：EP1199739A3

公开(公告)日：2007-03-28

申请号：EP01308857.0

申请日：2001-10-18

Applicant: eLith LLC ,  Agere Systems Guardian Corporation

Inventor： Katsap, Victor ,  Liddle, James A. ,  Mkrtchyan, Masis ,  Stanton, Stuart T.

IPC: H01J37/24 ,  H01J37/153 ,  H01J37/317

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/065 ,  H01J37/153 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0656 ,  Y10S977/881 ,  Y10S977/887

Abstract: An electron beam lithographic apparatus has an electron gun (22) providing a beam of accelerated electrons, a mask stage adapted to hold a mask in a path of the beam of accelerated electrons, and a workpiece stage adapted to hold a workpiece in a path of electrons that have traversed the mask. The electron gun (22) has a cathode (42) having an electron emission surface (52), an anode (46) adapted to be connected to a high-voltage power supply (56) to provide an electric field between the cathode and the anode to accelerate electrons emitted from the cathode toward the anode, and a current-density-profile control grid (44) disposed between the anode and the cathode. The current-density-profile control grid is configured to provide an electron gun that produces an electron beam having a non-uniform current density profile (90). A method of producing a micro-device includes generating a beam of charged particles having a non-uniform charged-particle current density, illuminating a mask with the beam of charged particles, and exposing a workpiece with charged particles from the beam of charged particles.

公开(公告)号：KR101413287B1

公开(公告)日：2014-07-01

申请号：KR1020130080447

申请日：2013-07-09

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 한철수 ,  조복래 ,  박인용 ,  안상정

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/147 ,  H01J37/22

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/06341 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/0802 ,  H01J2237/223 ,  H01J2237/24542

Abstract: The present invention relates to a particle beam emission image acquisition apparatus which comprises a microchannel plate for receiving a particle beam emitted from a particle beam source and emitting a secondary electron; a fluorescent screen for receiving the secondary electron generated in the microchannel plate and converting the same into an optical signal; an image acquisition device for acquiring optical data emitted from the fluorescent screen; and an image process device for comprising a slow frequency pass filter of a spatial region and treating and imaging data obtained from the image acquisition device, and to a method for acquiring a particle beam emission image using the same.

Abstract translation: 本发明涉及一种粒子束发射图像获取装置，其包括：微通道板，用于接收从粒子束源发射的粒子束并发射二次电子; 用于接收在微通道板中产生的二次电子并将其转换为光信号的荧光屏; 用于获取从荧光屏发射的光学数据的图像获取装置; 以及图像处理装置，用于包括空间区域的慢速频谱滤波器以及从图像获取装置获得的数据的处理和成像，以及使用该方法获得粒子束发射图像的方法。

公开(公告)号：JP6231182B2

公开(公告)日：2017-11-15

申请号：JP2016233900

申请日：2016-12-01

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 糟谷 圭吾 ,  大嶋 卓 ,  片桐 創一 ,  小久保 滋 ,  戸所 秀男

IPC: H01J37/18 ,  H01J37/28 ,  H01J37/073

CPC classification number: H01J1/304 ,  H01J37/073 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/06325 ,  H01J2237/0653 ,  H01J2237/0656

公开(公告)号：JP2014241301A

公开(公告)日：2014-12-25

申请号：JP2014200302

申请日：2014-09-30

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ ,  Hitachi High-Technologies Corp

Inventor： KASUYA KEIGO ,  OSHIMA TAKU ,  KATAGIRI SOUICHI ,  KOKUBO SHIGERU ,  TODOKORO HIDEO

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/18 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J1/304 ,  H01J37/073 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/06325 ,  H01J2237/0653 ,  H01J2237/0656

Abstract: 【課題】高輝度でエネルギー幅が狭く、安定した電子線を得ることが出来る荷電粒子線装置を提供する。【解決手段】電界放射電子源、それに電界を印加する電極と、電界放射電子源のまわりの圧力を1?10−8Pa以下に維持する真空排気部とを備え、放射させた電子線のうち、電子線中央の放射角1?10−2str以内の電子線を用い、電子線の電流の時間に関する二階微分が負または0で、かつ電流の減少度合いが1時間当たり10%以内となる電流を用いる構成を有する。さらに、電界放射電子源の加熱部と、電子線の電流の検出部とを備え、電界放射電子源を繰り返し加熱することで、放射される電子線の電流を所定の値以上に維持する。【選択図】図3

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够发出稳定的电子束的带电粒子束装置，其具有高亮度和窄的能量宽度。解决方案：带电粒子束装置包括场致发射电子源，用于施加电场的电极 场发射电子源和用于将场致发射电子源周围的压力保持在1×10Pa以下的真空排气单元。 该装置构成为使用在发射的电子束中具有1×10str以下的电子束中心辐射角的电子束，并且使用其电流，其二阶导数相对于时间 的电子束的电流为负或为零，以每小时10％以下的速度降低。 带电粒子束装置还包括用于场发射电子源的加热单元和用于电子束电流的检测单元。 重复加热场致发射电子源以使电子束的电流保持在规定值以上。

公开(公告)号：KR1020170095150A

公开(公告)日：2017-08-22

申请号：KR1020170018549

申请日：2017-02-10

Applicant: 램 리써치 코포레이션

Inventor： 이슨콰메 ,  카론제임스유진 ,  앤젤로브이블린 ,  박준홍 ,  양덩리앙

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32935 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32183 ,  H01J37/32449 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116

Abstract: 시스템이제공되고, 시스템은기판프로세싱챔버, 하나이상의주입기들, 및제어기를포함한다. 하나이상의주입기들은기판프로세싱챔버내로음전기가스 (electronegative gas), 기준양전기가스 (baseline electropositive gas), 및부가적인양전기가스를주입한다. 음전기가스는에칭전구체를포함한다. 부가적인양전기가스는기판프로세싱챔버내 플라즈마와혼합하고, 기판프로세싱챔버내 플라즈마의전자밀도를상승시킨다. 제어기는음전기가스의압력또는부가적인양전기가스의전자친화도레벨중 적어도하나에기초하여부가적인양전기가스의양, 플로우레이트또는압력을설정하도록구성된다.

Abstract translation: 提供了一种系统，其中该系统包括衬底处理室，一个或多个注入器以及控制器。 一个或多个注入机将电负性气体，基线正电性气体和额外的带正电的气体注入基板处理室。 负极气体包括蚀刻前体。 额外的正电荷气体与基板处理室中的等离子体混合并增加基板处理室中的等离子体的电子密度。 控制器被配置成基于带负电的气体的压力或附加的带正电的气体的电子亲和水平中的至少一个设定额外的带正电气体的量，流率或压力。

公开(公告)号：EP3043370A1

公开(公告)日：2016-07-13

申请号：EP15150613.6

申请日：2015-01-09

Applicant: Meyer Burger (Germany) AG

Inventor： Mai, Joachim ,  Luca, Alfonz, Dr. ,  Sarstedt, Margit, Dr.

IPC: H01J27/02 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J27/024 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/083

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Extraktion von elektrischen Ladungsträgern aus einem Ladungsträgererzeugungsraum mit mindestens einer Elektrodenanordnung 1a zur Extraktion von Ladungsträgern, wobei die mindestens eine Elektrodenanordnung mindestens eine erste Gitterelektrode und eine zweite Gitterelektrode mit korrespondierenden Öffnungen aufweist. Die erste und die zweite Gitterelektrode enthalten jeweils mindestens einen ersten elektrisch leitfähigen Gitterelektrodenbereich 110,210, wobei der mindestens eine erste Gitterelektrodenbereich 110a,b der ersten Gitterelektrode in einer ersten Lage 100 und der mindestens eine erste Gitterelektrodenbereich 210a,b der zweiten Gitterelektrode in einer zweiten Lage 200 ausgebildet sind. Die erste Lage und die zweite Lage sind innerhalb der Elektrodenanordnung in Teilchenaustrittsrichtung nacheinander angeordnet und voneinander durch einen ersten Abstand 300 entlang der Teilchenaustrittsrichtung beabstandet, wobei der mindestens eine erste Gitterelektrodenbereich 110a, b der ersten Gitterelektrode in der ersten Lage einen ersten elektrisch leitfähigen Lagenanteil 101 bildet. Darüber hinaus ist in der ersten Lage ein zweiter elektrisch leitfähiger Lagenanteil 102 ausgebildet, der elektrisch vom ersten Lagenanteil 101 isoliert ist. Der zweite Lagenanteil 102 wird durch mindestens einen zweiten elektrisch leitfähigen Gitterelektrodenbereich der ersten Gitterelektrode oder der zweiten Gitterelektrode gebildet und der zweite Lagenanteil 102 ist elektrisch leitend 301 mit dem mindestens einen ersten Gitterelektrodenbereich 210a,b der zweiten Gitterelektrode verbunden. Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Extraktion von Ladungsträgern stellt somit eine elektrisch schaltbare Extraktionsgitterelektrodenanordnung dar, mit deren Hilfe die Strahlcharakteristik eines Teilchenstrahls aus extrahierten Ladungsträgern verändert werden kann.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于从载流子产生空间电荷载流子的提取装置，包括至少一个电极组件，用于载流子的提取，其具有至少一个第一格栅电极和所述至少一个电极组件的第二栅极 电极与对应孔口。 第一和第二格栅电极各自包括至少一个第一导电栅电极区，worin第一栅极电极的所述至少一个第一栅极区在第一层上形成与所述第二的至少一个第一格栅电极区域 栅格电极中的第二层被形成。 所述第一层和第二层被布置成一个在另一个在电极组件内的颗粒出口方向后，并通过沿着所述颗粒出口方向上的第一距离，所述第一的所述至少一个第一栅极区隔开彼此 栅电极形成在所述第一层的第一导电层部分。 更上方，第二导电层部分在第一层中，所有这一切都被电气上与第一层部分绝缘形成。 所述第二层部分由第一格栅电极或第二栅极电极和第二层部分的至少一个第二导电栅格电极区域地形成在导电的方式连接到所述第二的至少一个第一格栅电极区域 栅格电极。 用于gemäß发明载流子的提取用器件因此提供上电转换的引出栅电极组件，通过该提取的粒子束的粒子束特性载流子可以被修改。

公开(公告)号：EP2625306A4

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：EP11831472

申请日：2011-10-04

Applicant: VEECO INSTR INC

Inventor： KAMEYAMA IKUYA

IPC: C23C14/46 ,  C23C14/34 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08

CPC classification number: C23C14/46 ,  H01J27/024 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/083 ,  H01J2237/3142 ,  H01J2237/3151 ,  H01J2237/31701

Abstract: Non-elliptical ion beams (508) and plumes (510) of sputtered material can yield a relatively uniform wear pattern on a destination target (504) and a uniform deposition of sputtered material on a substrate assembly (506). The non-elliptical ion beams (508) and plumes (510) of sputtered material impinge on rotating destination targets (504) and substrate assemblies (506). A first example ion beam grid (302) and a second example ion beam grid (304) each have patterns of holes with an offset between corresponding holes. The quantity and direction of offset determines the quantity and direction of steering individual beamlets passing through corresponding holes in the first and second ion beam grids (302, 304). The beamlet steering as a whole creates a non-elliptical current density distribution within a cross- section of an ion beam (508) and generates a sputtered material plume (510) that deposits a uniform distribution of sputtered material onto a rotating substrate assembly (506).

公开(公告)号：EP2425443A2

公开(公告)日：2012-03-07

申请号：EP10770340.7

申请日：2010-04-29

Applicant: ATTI International Services Company, Inc.

Inventor： ABGARYAN, Artush, A. ,  LEVI, Eli

IPC: H01J29/58

CPC classification number: H01J29/62 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J3/18 ,  H01J35/14 ,  H01J37/063 ,  H01J37/065 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/28

Abstract: System that focuses electron beams in an electro-static area to a laminar flow of electrons with uniform distribution of current density and extraordinary demagnification includes a body (11) that defines a boundary for an electric field, a field-forming cathode electrode system (1, 2, 3, 4), a focusing electrode system (5, 6, 7, 12), and at least one anode electrode system (8, 9, 10) in the electro-static section and a second electric field- free section including an adjustable screen system (16) arranged in an interior of the body (11). The field-forming near-cathode electrode system (1, 2, 3, 4) includes a cathode (1) electrically connected to a flat part (2) and a curvilinear part (3) electrically connected to a cylindrical part (4). The anode electrode system (8, 9, 10) includes an opening part, an anode electrically connected to a flat part (8) and a curvilinear part (9) electrically connected to a cylindrical part (10) which is similar or identical to and symmetrical with the cathode electrode system. The system parameters are calculated and created due to the CGMR conceptual method.