Elektronische Vorrichtungen mit elektrisch isolierten Lastelektroden

    公开(公告)号:DE102019121229A1

    公开(公告)日:2021-02-11

    申请号:DE102019121229

    申请日:2019-08-06

    Abstract: Eine elektronische Vorrichtung beinhaltet ein elektrisch isolierendes Material, eine erste Lastelektrode, die auf einer ersten Oberfläche des elektrisch isolierenden Materials angeordnet ist, und eine zweite Lastelektrode, die auf einer zweiten Oberfläche des elektrisch isolierenden Materials gegenüber der ersten Oberfläche angeordnet ist, wobei die Lastelektroden durch das elektrisch isolierende Material über die gesamte Länge getrennt sind, auf der die Lastelektroden gegenüberliegende Abschnitte aufweisen, wobei Oberflächen der Lastelektroden, die vom elektrisch isolierenden Material abgewandt sind, durch das elektrisch isolierende Material unbedeckt sind.

    Verfahren zum Ausbilden eines Halbleiterpackage

    公开(公告)号:DE102013102786B4

    公开(公告)日:2020-09-10

    申请号:DE102013102786

    申请日:2013-03-19

    Abstract: Verfahren zum Ausbilden eines Halbleiterpackage, wobei das Verfahren Folgendes aufweist:• Platzieren eines ersten Die (110), der eine Vorderseite des ersten Die (110) und eine Rückseite des ersten Die (110) aufweist, und eines zweiten Die (130), der eine Vorderseite des zweiten Die (130) und eine Rückseite des zweiten Die (130) aufweist, über einem Träger (10) derart, dass die Vorderseiten der Dies (110, 130) dem Träger (10) zugewandt sind, wobei der erste Die (110) eine andere Art von Die als der zweite Die (130) ist;• Platzieren einer Halbleitersäule (50) bei dem ersten und dem zweiten Die (110, 130) über dem Träger (10);• Einbetten des ersten und des zweiten Die (110, 130) und der Halbleitersäule (50) in ein Kapselungsmittel (90), das einen rekonstituierten Wafer (75) bildet, der eine Vorderseite (95) des rekonstituierten Wafers (75) und eine Rückseite (85) des rekonstituierten Wafers (75) aufweist;• Trennen des rekonstituierten Wafers (75) von dem Träger (10), um die Vorderseite (95) des rekonstituierten Wafers (75) zu exponieren;• als nächstes Verdünnen des rekonstituierten Wafers (75) von der Rückseite (85) des rekonstituierten Trägers (10) aus, um die Rückseite des ersten Die (110) und eine Oberfläche der Halbleitersäule (50) zu exponieren, wobei der erste Die (110) eine größere vertikale Höhe (H1) als der zweite Die (130) aufweist, so dass das Verdünnen die Rückseite des ersten Die (110) exponiert, aber nicht den zweiten Die (130);• Entfernen der Halbleitersäule (50) zum Ausbilden einer Durchöffnung (55) nach dem Verdünnen und• als nächstes Ausbilden einer rückseitigen leitenden Schicht (160, 180) auf der Rückseite (85) des rekonstituierten Wafers (75) und innerhalb der Durchöffnung (55), wobei die rückseitige leitende Schicht (160, 180) den ersten Die (110) kontaktiert und wobei der zweite Die (130) durch einen ersten Abschnitt des Kapselungsmittels (90) von der rückseitigen leitenden Schicht (160, 180) getrennt ist.

    Halbleiteranordnung, Halbleitersystem und Verfahren zur Ausbildung einer Halbleiteranordnung

    公开(公告)号:DE102015109186A1

    公开(公告)日:2016-12-15

    申请号:DE102015109186

    申请日:2015-06-10

    Abstract: Es wird eine Halbleiteranordnung bereitgestellt. Die Halbleiteranordnung kann umfassen: eine elektrisch leitfähige Platte mit einer Oberfläche, einer auf der Oberfläche der elektrisch leitfähigen Platte angeordneten Vielzahl von Leistungshalbleitervorrichtungen, wobei ein erster gesteuerter Anschluss jeder Leistungshalbleitervorrichtung der Vielzahl von Leistungshalbleitervorrichtungen mit der elektrisch leitfähigen Platte elektrisch gekoppelt sein kann, eine Vielzahl von elektrisch leitfähigen Blöcken, wobei jeder elektrisch leitfähige Block mit einem jeweiligen zweiten gesteuerten Anschluss jeder Leistungshalbleitervorrichtung der Vielzahl von Leistungshalbleitervorrichtungen elektrisch gekoppelt sein kann, und ein Verkapselungsmaterial, welches die Vielzahl von Leistungshalbleitervorrichtungen verkapselt, wobei zumindest eine Randregion der Oberfläche der elektrisch leitfähigen Platte frei vom Verkapselungsmaterial sein kann.

    Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-Chippanels

    公开(公告)号:DE102014100236A1

    公开(公告)日:2014-07-17

    申请号:DE102014100236

    申请日:2014-01-10

    Abstract: Das Verfahren umfasst das Bereitstellen eines Trägers, Bereitstellen mehrerer Halbleiterchips, wobei die Halbleiterchips jeweils eine erste Hauptfläche und eine zweite Hauptfläche gegenüber der ersten Hauptfläche umfassen, und Seitenflächen, die die erste und zweite Hauptfläche verbinden, Platzieren der Halbleiterchips auf dem Träger, wobei die zweiten Hauptflächen dem Träger zugewandt sind, und Auftragen eines Verkapselungsmaterials auf die Seitenflächen der Halbleiterchips.

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