公开(公告)号：KR1020010018028A

公开(公告)日：2001-03-05

申请号：KR1019990033827

申请日：1999-08-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오정민 ,  김병수 ,  권순태 ,  강현구

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: An apparatus for cleaning a wafer having a blow nozzle on its cover is provided to prevent a cover from being contaminated and to prevent secondary contamination by the contaminated cover, by installing the blow nozzle temporarily disposed on a lower surface of the cover which covers the wafer. CONSTITUTION: A wafer(110) is placed on a spinner(120). A lower body supports the spinner. A revolving motor(124) drives the spinner, installed inside the lower body. A cleaning tip(130) has cleaning nozzles(132,134) which blow deionized water, a rinse liquid and gas on the spinner. A cover(140) includes a transfer unit for absorbing and transferring the wafer, vertically moving on the spinner. A reciprocating cylinder(150) vertically drives the cover. A blow nozzle(160) for blowing gas is temporarily disposed along a lower surface of the cover.

Abstract translation: 目的：提供一种用于清洁其盖上具有吹塑喷嘴的晶片的装置，以防止盖被污染并防止被污染的盖的二次污染，通过安装临时设置在盖的下表面上的吹嘴 晶圆。 构成：将晶片（110）放置在旋转器（120）上。 下身支撑旋转器。 旋转马达（124）驱动安装在下体内的旋转器。 清洁尖端（130）具有清洁喷嘴（132,134），其在旋转器上吹去去离子水，冲洗液体和气体。 盖（140）包括用于吸收和转移晶片的转移单元，在旋转器上垂直移动。 往复缸（150）垂直地驱动盖。 用于吹送气体的吹嘴（160）沿着盖的下表面临时设置。

公开(公告)号：KR100212289B1

公开(公告)日：1999-08-02

申请号：KR1019970007695

申请日：1997-03-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차기석 ,  오정민

IPC: G09G3/36

Abstract: 이 발명은 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(TFT LCD)의 데이터 구동 회로에 관한 것으로서, 종래의 싱글 뱅크(single bank) 도트 반전(dot inversion) 구동 회로에 반전 선택 회로를 포함시켜 라인 반전(line inversion) 구동이나 도트 반전(dot inversion) 구동을 선택할 수 있는 구동 회로의 구성에 관한 것이다.
또한 상기의 구동 회로를 듀얼 뱅크(dual bank)용 액정 표시 장치에 적용하는 경우에, 반전 선택 신호를 라인 반전으로 선택하고 상측 구동 회로와 하측 구동 회로의 출력 전압의 극성을 반대로 하여 패널(panel)에 인가함으로써 도트 반전 구동의 듀얼 뱅크용 액정 표시 장치를 실현할 수 있다.
상기한 구동 회로는 다수의 구동 방식을 적용할 수 있으므로 사용 범위가 확대되고, 개개의 구동 회로를 별도로 개발하는 것에 비하여 비용 절감의 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019980060012A

公开(公告)日：1998-10-07

申请号：KR1019960079360

申请日：1996-12-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오정민 ,  신혁상

IPC: G09G3/36 ,  G02F1/133

Abstract: 본 발명은 듀얼 포트(dual port) 데이터 구동 집적 회로를 이용한 4분주 구동을 위한 액정 표시 장치에 관한 것으로서, 각 데이터 구동 집적회로는 액정 패널 상의 두 개의 데이터 라인을 동시에 구동하며, 홀수번째 데이터 구동 집적회로 중 하나와 짝수번째 데이터 구동 집적회로 중 하나가 동시에 액정 패널을 구동함으로써, 액정 패널 상의 4개의 데이터 라인이 동시에 구동되도록 하여 4분주 구동을 실현하고, 이로인해 액정 패널의 구동 주파수를 1/4로 감소시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980017987A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019960058884

申请日：1996-11-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오정민 ,  신혁상

IPC: G09G3/20

Abstract: 이 발명은 액정 패널의 상부 또는 하부 중 어느 하나에 일렬로 배치된 홀수 데이타 구동 집적회로들과 짝수 데이타 구동 집적회로들을 가지는 액정 표시 장치의 타이밍 제어장치에 관한 것으로서,
색신호의 데이타를 구동회로의 채널 수만큼 번갈아 홀수 데이타와 짝수 데이타에서 나타나도록 변환하며, 상기 홀수 데이타와 짝수 데이타를 상기 홀수 데이타 구동 집적회로들과 상기 짝수 데이타 구동 집적회로들에 제공하며, 상기 홀수 데이타 구동 집적회로 중 하나와 상기 짝수 데이타 구동 집적회로 중 하나에 의해 동시에 액정 패널이 구동되도록 함으로써, 종래에 비해 구동 주파수를 감소시킬 수 있으며, 싱글 뱅크와 유사한 형식의 색신호 데이타를 제공함으로써 액정 패널의 상부 또는 하부에 데이타 구동 집적회로들이 배치될 수 있기 때문에 데이타 구동 집적회로의 콤팩트 설계를 가능하도록 한다.

公开(公告)号：KR1019970018728A

公开(公告)日：1997-04-30

申请号：KR1019950031084

申请日：1995-09-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오정민

IPC: H01L29/786

Abstract: 더블뱅크(Double Bank)용 데이터(Data)를 싱글뱅크(Single Bank)에서 사용 가능하도록 한 TFT-LCD 패널의 제작방법이 포함되어 있다.
본 발명은 데이터 라인 배선부의 데이터 라인중에서 홀수번째 데이터 라인을 게이트 메탈 공정으로 1층에 형성하고, 상기 1층의 데이터 라인 위에 상기 데이터 라인중에서 짝수번째 데이터 라인을 S/D 메탈 공정으로 2층에 형성함으로써, 기존의 더블뱅크 구조에서 구동회로의 변경없이 LCD 패널에서의 데이터 드라이버 IC의 본딩패드(Bonding pad) 배열순서를 바꾸어, 싱글뱅크 구조로 사용할 수 있다.
따라서 TFT-LCD를 경박 단소하게 제작할 수 있고, 또한 EMI 문제를 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR102254679B1

公开(公告)日：2021-05-21

申请号：KR1020140099100

申请日：2014-08-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김영관 ,  김택현 ,  김현창 ,  박찬욱 ,  오정민

IPC: G06T1/00 ,  G06T7/00

Abstract: 이미지처리방법및 이미지처리장치가제공된다. 이미지처리방법은, GPU(Graphic Processing Unit)가렌더링한제1 이미지를상기 GPU로부터수신하고, 상기제1 이미지와, 상기 GPU가상기제1 이미지보다먼저렌더링한제2 이미지를비교하고, 상기제1 이미지와상기제2 이미지의비교결과에따라상기 GPU의렌더링빈도를제어하는것을포함한다. 이미지처리장치는, GPU(Graphic Processing Unit)가렌더링한제1 이미지를상기 GPU로부터수신하는데이터모니터; 및상기데이터모니터로부터수신한상기제1 이미지와, 상기 GPU가상기제1 이미지보다먼저렌더링한제2 이미지를비교하고, 그비교결과에따라상기 GPU의렌더링빈도를제어하는렌더링빈도컨트롤러를포함한다.

公开(公告)号：KR1020170118996A

公开(公告)日：2017-10-26

申请号：KR1020160045911

申请日：2016-04-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김태홍 ,  오정민 ,  김석훈 ,  김채령 ,  박미현 ,  이효산

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC classification number: B24B37/20 ,  B05D1/60 ,  B08B3/024 ,  B08B3/08 ,  B24B37/005 ,  C23C16/4407 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67

Abstract: 본발명은세정장치및 그를포함하는기판처리시스템을개시한다. 그의장치는기판을수납하는척과, 상기기판상에제 1 세정수 또는제 1 유기용매를제 1 압력으로제공하는제 1 노즐과, 상기제 1 노즐에인접하여배치되고, 제 2 세정수와제 2 유기용매의세정용액을상기제 1 압력보다낮은제 2 압력으로제공하는제 2 노즐을포함한다.

Abstract translation: 本发明公开了一种清洁装置和包括该清洁装置的基板处理系统。 该设备包括用于容纳基板的卡盘，用于在基板上以第一压力供应第一冲洗溶液或第一有机溶剂的第一喷嘴以及与第一喷嘴相邻设置的第二喷嘴， 2有机溶剂在低于第一压力的第二压力下进行。

公开(公告)号：KR1020170044968A

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：KR1020150144740

申请日：2015-10-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박미현 ,  오정민 ,  김경환 ,  김인기 ,  이효산 ,  김경섭 ,  김석훈 ,  정지훈

IPC: H01L21/02 ,  C11D1/12

CPC classification number: H01L21/02057 ,  C11D1/146 ,  C11D1/22 ,  C11D1/29 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02068 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/67051 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/0847 ,  H01L29/1608 ,  H01L29/161 ,  H01L29/4966 ,  H01L29/517 ,  H01L29/66545 ,  H01L29/66636 ,  H01L29/66795 ,  H01L29/7851

Abstract: 본발명은기판의세정방법에관한것으로서, 금속물질막을포함하는기판을제공하는단계; 상기기판에대하여물리적세정을수행하는단계; 상기기판에대하여화학적세정을수행하는단계; 및상기기판의표면을건조시키는단계를포함하는기판의세정방법을제공한다. 본발명의세정방법을이용하면모든크기범위의파티클들을효과적으로제거할수 있으며, 기판상에형성된피처들의손상이최소화될수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于基板的清洁方法，包括：提供包含金属材料膜的基板; 在基材上进行物理清洁; 在基材上进行化学清洗; 并干燥基材的表面。 利用本发明的清洁方法，可以有效地去除所有尺寸的颗粒，并且可以使形成在基底上的特征的损伤最小化。

公开(公告)号：KR101728320B1

公开(公告)日：2017-04-20

申请号：KR1020110064867

申请日：2011-06-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 윤준호 ,  유영섭 ,  민경진 ,  최한메 ,  구봉진 ,  양상렬 ,  김기철 ,  우상윤 ,  한제우 ,  박태진 ,  오정민 ,  임종성 ,  장용문 ,  이지은

IPC: H01L21/8242 ,  H01L27/108

CPC classification number: H01L28/90 ,  H01L27/10852

Abstract: 반도체소자의제조방법이제공된다. 반도체소자의제조방법은기판상에제1 내지제n 희생층과제1 내지제n 지지층이번갈아순차로적층된복합막을형성하고, 복합막을관통하는복수의개구부를형성하고, 복수의개구부내에하부전극을형성하고, 제1 내지제n 지지층의일부와제1 내지제n 희생층의일부또는전부를제거하되, 제1 내지제n 지지층의일부와제1 내지제n 희생층의일부또는전부를제거하는것은, (a) 제k(단, k는 n에서 1까지순차로감소하는자연수) 지지층의일부를제거하여제k 희생층의일부를노출시키는단계; (b) 제k 희생층의노출면을통해제k 희생층을전부제거하는단계; (a) 단계와 (b) 단계를 2회이상반복하여하부전극을지지하는복수의지지대를형성하는것을포함하고, 하부전극상에유전막및 상부전극을형성하는것을포함한다.

公开(公告)号：KR1020160148798A

公开(公告)日：2016-12-27

申请号：KR1020150085217

申请日：2015-06-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김인기 ,  김경환 ,  김석훈 ,  배상원 ,  오정민 ,  이근택 ,  이효산

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L22/26 ,  B01F3/088 ,  B01F15/0022 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는, 공정챔버내 지지유닛에지지된기판으로제 1 액과제 2 액이혼합된약액을공급하는노즐유닛, 상기노즐유닛으로상기약액을공급하는약액공급장치, 그리고상기약액공급장치를제어하는제어기를포함하되, 상기약액공급장치는, 복수의케미컬들을혼합하여상기제 1 액을생성하는혼합탱크, 상기혼합탱크로부터상기제 1 액을공급받고상기약액을생성하는공급탱크, 상기혼합탱크와상기공급탱크를연결하는연결라인, 그리고상기연결라인상에설치된밸브및 펌프를포함하되, 상기공급탱크로상기제 1 액을공급할때, 스트로크당 설정공급량을공급하도록상기펌프를제어한다.

Abstract translation: 公开了一种基板处理系统，其包括：喷嘴，其将含有第一和第二溶液的混合物的化学溶液供给到负载在处理室的支撑体上的基板上;化学溶液供给系统，用于向喷嘴提供化学溶液;以及 控制器控制化学溶液供应系统。 化学溶液供给系统可以包括混合多种化学品以制备第一溶液的混合罐，从混合罐接收第一溶液并产生化学溶液的供应罐，将混合罐连接到供应罐的连接管线 ，以及连接线上的阀和泵。 控制泵以允许第一溶液以每冲程以预定的供给量供应到供应罐中。