Halbleitervorrichtung
    72.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102014103049A1

    公开(公告)日:2014-09-18

    申请号:DE102014103049

    申请日:2014-03-07

    Abstract: Eine Transistorvorrichtung (1000) in einem Halbleitersubstrat (100) umfasst eine erste Hauptoberfläche (110) und eine Transistorzelle. Die Transistorzelle umfasst einen Driftbereich (120) eines ersten Leitfähigkeitstyps, einen Bodybereich (130) eines zweiten Leitfähigkeitstyps zwischen dem Driftbereich (120) und der ersten Hauptoberfläche (110), einen aktiven Trench (1100) in der ersten Hauptoberfläche (110), der sich in den Driftbereich (120) erstreckt, einen Sourcebereich (140) des ersten Leitfähigkeitstyps in dem Bodybereich (130) benachbart zu dem aktiven Trench (1100) und einen Bodytrench (1200) an der ersten Hauptoberfläche (110), der sich in den Driftbereich (120) erstreckt und benachbart zu dem Bodybereich (130) und dem Driftbereich (120) ist. Der aktive Trench (1100) umfasst eine Gateisolierschicht (1130) an Seitenwänden (1110) und an einer Bodenseite (1120) sowie eine Gateleiterschicht (1140). Der Bodytrench (1200) umfasst eine leitende Schicht (1260) und eine isolierende Schicht (1250) an Seitenwänden (1210) und einer Bodenseite (1240) asymmetrisch zu einer senkrechten Achse der ersten Hauptoberfläche (110) und der Bodytrenchmitte.

    BIPOLARER HALBLEITERSCHALTER UND EIN HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR

    公开(公告)号:DE102014101239A1

    公开(公告)日:2014-08-07

    申请号:DE102014101239

    申请日:2014-01-31

    Abstract: Es ist ein bipolarer Halbleiterschalter (100) mit einem Halbleiterkörper (40) angegeben. Der Halbleiterkörper (40) enthält ein erstes p-dotiertes Halbleitergebiet (2), ein zweites p-dotiertes Halbleitergebiet (4) und ein erstes n-dotiertes Halbleitergebiet (1), das einen pn-Übergang (14) mit dem ersten p-dotierten Halbleitergebiet (2) und eine zweiten pn-Übergang (16) mit dem zweiten p-dotierten Halbleitergebiet (4) bildet. Auf einem kürzesten Weg (s) durch das erste n-dotierte Halbleitergebiet (1) zwischen dem ersten pn-Übergang (14) und dem zweiten pn-Übergang (16) variieren eine Konzentration von Ladungsrekombinationszentren und eine Konzentration von n-Dotierstoffen. Die Konzentration der Ladungsrekombinationszentren weist ein Maximum an einem Punkt entlang des kürzesten Wegs (s) auf, an dem die Konzentration von n-Dotierstoffen mindestens nahe an einer maximalen Dotierstoffkombination liegt. Ferner wird ein Herstellungsverfahren für den bipolaren Halbleiterschalter (100) angegeben.

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