Abstract:
PURPOSE: A field effect transistor and a method for fabrication the same are provided to improve productivity and stability by not using a lithography process. CONSTITUTION: An active layer(31), a cap layer(32), an ohmic metal layer(33) and an insulating layer(34) are formed on a substrate(30). An insulating layer is etched by using a photoresist pattern as an etching mask. A metal is deposited on a gate recess region(37c) and the insulating layer to form a gate-electric field electrode layer(39).
Abstract:
본 발명은 전계 효과 트랜지스터의 제조 방법을 개시한다. 이 방법은 기판 상에 활성 층과 캡핑 층을 형성하고, 상기 캡핑 층 상에 소스 전극과 드레인 전극을 형성한다. 이후, 기판 상에 층간 절연막을 형성하고, 소스 전극과 드레인 전극 사이의 층간 절연막 상에서 비대칭적인 깊이의 제 1 개구부와 제 2 개구부를 갖는 레지스트 층들을 형성한다. 제 1 개구부는 층간 절연막을 노출시키고, 제 2 개구부는 상기 레지스트 층들 중 최하부 레지스트 층을 노출시킨다. 다음으로, 제 1 개구부 바닥의 층간 절연막과 제 2 개구부 바닥의 최하부 레지스트 층을 동시에 제거하여 상기 제 1 개구부 내에 캡핑 층을 노출시키고, 상기 제 2 개구부 내에 층간 절연막을 노출시킨다. 그리고, 제 1 개구부의 캡핑 층을 제거하여 활성 층을 노출 시킨 후, 기판 상에 금속 층을 증착하여 제 1 개구부와 제 2 개구부 내에 게이트 전극과 전계 전극을 동시에 형성할 수 있기 때문에 생산성을 향상시킬 수 있다. 마지막으로 레지스트 층들을 제거하여 상기 레지스트 층들 상의 금속 층을 리프트 오프 시킬 수 있다. 활성, 캡핑(capping), 개구부, 절연막, 리프트 오프(lift-off)
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a transistor is provided to reduce resistance and parasitic capacitance by controlling the height of a Y-shaped gate electrode according to the thickness of a mold oxide layer with a trench and a depressed part. CONSTITUTION: A source electrode(11) and a drain electrode(12) are formed on a substrate(10). A mold oxide layer is formed on the substrate. A depressed part is formed on the upper side of the mold oxide layer between the source electrode and the drain electrode. A trench which exposes the substrate is formed by removing the mold oxide layer in the depressed part. A recess(26) is formed by removing the substrate exposed by the trench with a preset depth. A Y shaped gate electrode(30) is connected from the recess to the depressed part.
Abstract:
PURPOSE: A semiconductor device and a forming method thereof are provided to improve the low noise property by reducing the parasitic capacitance among the gate electrode, the source electrode, and the drain electrode. CONSTITUTION: An active layer is formed on the top of the substrate. The capping layer is formed on the active layer. A source and a drain electrode are formed on the capping layer. A gate electrode(140) is formed on the active layer. A first void region(155) is formed on the first side wall of the gate electrode. A second void region(156) is formed on the second side wall facing the first side wall.
Abstract:
본 발명은 밀리미터파 대역 스위치 회로에 관한 것으로서, 신호 포트 경로 상에 배치되어 관심 주파수에 정합되고, 입출력 전송선로와 수직으로 연결되는 트랜지스터 및 상기 입출력 전송선로의 상부 및 하부에 대칭적으로 배치되는 다수의 접지 비아홀을 포함하는 제1, 제2 스위치 셀; 상기 제1, 제2 스위치 셀의 바이어스 안정화를 위한 제1, 제2 캐패시터; 상기 제1, 제2 캐패시터와 각각 병렬 연결되어 상기 제1, 제2 스위치 셀을 제어하기 위한 제1, 제2 바이어스 패드; 및 특정 임피던스 값을 가지며, 터미널 포트를 경유하여 공통포트와 상기 제1 스위치 셀 또는 상기 공통포트와 상기 제2 스위치 셀을 연결하는 터미널 전송회로를 포함하며, 이에 따라 별도의 다른 스위치 소자를 사용하지 않고도 최적화 스위치 셀의 대칭 구조에 의해 회로 설계 및 레이아웃(layout)을 간단하게 함으로써, 격리도를 향상시킬 수 있으며, 저삽입손실과 함께 집적회로의 칩 사이즈를 줄일 수 있으므로 제조 공정의 수율과 집적도의 향상을 통해 제조비용을 감소시킬 수 있다. 밀리미터파 대역, 스위치 회로, 스위치 셀, 트랜지스터, 전송선로, 공통 포트, 비아홀, 컨트롤 바이어스 패드, 캐패시터.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a pseudomorphic high electron mobility transistor device is provided to satisfy wideband characteristics and unconditionally stable conditions by including a negative feedback circuit. CONSTITUTION: In a method for manufacturing a pseudomorphic high electron mobility transistor device, an epitaxial substrate is provided(101). A source and a drain are formed on a substrate. The epitaxial substrate is processed by a gate recess etching including a dry and wet method to form a recess region. The gate(180) is formed in the recess region.
Abstract:
PURPOSE: A super high frequency amplifier and a bias circuit for the same are provided to optimize performance by adjusting a source voltage, regardless of a change in the properties of a depletion-type FET(Field Effect Transistor) due to the process change. CONSTITUTION: An amplifier circuit amplifies a high frequency signal through a depletion-type FET(30). An input matching circuit(20) matches the inputted high frequency signal in the depletion-type FET. An output matching circuit(40) matches the amplified signal, and thereby outputs the matched signal. A bias circuit(80) gives a negative value to a voltage between a gate and a source of the depletion-type FET by applying a positive voltage to the source of the depletion-type FET. The bias circuit tunes the voltage between the gate and the source by changing the positive voltage applied to the source.
Abstract:
A gold bump structure which can reduce defective proportion generated due to causes such as lead opening and the like in a process of bonding the gold bump to semiconductor chips and so on by improving non-uniformity of the gold bump with respect to thickness of a gold bump formed by a plating process, and a fabrication method of the gold bump structure are provided. A gold bump comprises: a seed metal layer formed on a substrate; a plating bump layer formed on an upper portion of the seed metal layer; and a domed gold-rich process alloy formed on an upper portion of the plating bump layer and made from a metal with a low melting point. A fabrication method of a gold bump comprises the steps of: forming a seed metal layer(23) on a substrate(21); plating and forming a gold bump layer(25) on the seed metal layer; forming a metal layer with a low melting point on the gold bump layer; and forming a domed gold-rich process alloy(27) on an upper portion of the low melting point metal layer-formed gold bump layer. The method further comprises the steps of: forming an adhesion layer(22) between the seed metal layer and the substrate; removing the exposed seed metal layer and the adhesion layer under the exposed seed metal layer; and forming a photosensitive film for forming patterns of the gold bump layer.
Abstract:
A method for manufacturing a pseudo morphic high electro mobility transistor is provided to improve the electric property and to increase breakdown voltage by forming a passivation layer having double recess structure. A cap layer(24) and a channel layer(22) are formed on a substrate(20). A source/drain(26) is formed on the cap layer. A first passivation layer(27) is formed, and then patterned to expose the cap layer in a channel region. A first recess structure is formed by removing the exposed cap layer. A second passivation layer is formed on the entire surface of the resultant structure. A second recess structure is formed by patterning the second passivation layer(29) to expose the substrate of the first recess structure. A multi-layered photosensitive film is formed, and then patterned to have an opening of gate shape and to expose the substrate through the second recess structure. A gate is formed to connect to the substrate through the second recess structure by removing the multi-layered photosensitive film, after depositing a metal on the resultant structure.
Abstract:
본 발명은 안정화 회로가 구비된 고주파 증폭기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 소정의 고주파 신호를 증폭하기 위한 트랜지스터를 포함하는 고주파 증폭기에 있어서, 상기 트랜지스터의 입력단에 입력된 고주파 신호의 이득 손실을 방지함과 아울러 이득 안정도를 증가시키기 위한 저항과 캐패시터가 병렬로 구성된 안정화 회로가 직렬로 연결됨으로써, 고주파 증폭기의 이득 손실 없이 안정도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 고주파 증폭기, 안정화 회로, 저항, 캐패시터, 임피던스, 트랜지스터, 입력 임피던스 정합부, 출력 임피던스 정합부, 바이어스 회로부