一种半球谐振子金属膜层镀制装置和方法

    公开(公告)号:CN113913773B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202111062039.2

    申请日:2021-09-10

    Abstract: 本发明提供了一种半球谐振子金属膜层镀制装置和方法,该镀制装置包括公转平台、自转机构、两个镀膜组件;自转机构安装在公转平台上,与公转平台中心轴线保持一定距离;自转机构上设置装配半球谐振子的凹槽;两个镀膜组件安装在公转平台上方、并与公转平台中心轴线保持一定距离;两个镀膜组件均包括靶材,靶材朝向公转平台、与公转平台中心轴线形成夹角;公转平台、自转机构同时进行公转、自转,两个镀膜组件与公转平台中心轴线形成不同角度、互相配合进行镀膜。本发明采用双金属靶多角度同时镀制同种膜层材料,两个靶材与谐振子角度不同,避免出现盲区,可有效提升膜层镀制效率,另外双靶位同时溅射,明显改善膜层致密性、膜层应力等性能指标。

    一种半球谐振子高品质因数膜层设计、镀制装置及方法

    公开(公告)号:CN117660906A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311523449.1

    申请日:2023-11-15

    Abstract: 本发明公开了一种半球谐振子高品质因数膜层设计、镀制装置及方法,所述膜层设计方法,靠近唇沿设置偏厚膜层,靠近支撑柱底端设置偏薄膜层,唇沿、支撑柱底端膜层厚度比例大于3:1,支撑柱膜层设置偏厚膜层。所述膜层镀制装置包括公转平台、半球谐振子自转装置、金属靶,半球谐振子自转装置距离公转平台中心轴线之间的距离为30mm~35mm,金属靶与公转平台轴线之间的角度为θ,金属靶距离公转平台的距离为300mm,距离公转平台轴线的水平距离为110mm~120mm。所述镀制方法分层控制唇沿位置金属膜层的镀制,并控制不同膜层镀制过程中的腔室内温度。本发明显著提升了半球谐振子品质因数水平。

    半球谐振陀螺高真空封装保持装置和方法

    公开(公告)号:CN117168427A

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202310935715.5

    申请日:2023-07-27

    Abstract: 本发明公开了半球谐振陀螺高真空封装保持装置和方法。所述装置的上层加热装置、上层温度传感器和半球谐振陀螺精密组件位于真空腔室上层,所述上层加热装置用于夹持固定半球谐振陀螺精密组件并加热;下层加热装置、下层温度传感器和半球谐振陀螺外壳位于真空腔室下层,所述下层加热装置用于固定半球谐振陀螺外壳并加热;隔热板可在真空腔室内移动,用来实现真空腔室上层与下层的温度阻隔;升降机构连接上层加热装置,当下层装置加热,吸气剂激活时,上层加热装置上升,当吸气剂激活完毕,升降机构带动上层加热装置下降,半球谐振陀螺精密组件与半球谐振陀螺外壳贴合,进行焊接。本发明实现了半球谐振陀螺小型化的目标。

    基于飞秒激光的半球谐振子精密修调装置及方法

    公开(公告)号:CN119618258A

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202411529228.X

    申请日:2024-10-30

    Abstract: 本发明提供了一种基于飞秒激光的半球谐振子精密修调装置及方法,包括:真空系统、飞秒激光修调系统、夹具、工件运动系统和质量不平衡测试系统;飞秒激光修调系统包含聚焦模块、激光光路、飞秒激光器、飞秒激光能量连续调控模块和飞秒激光图形化与控制系统;工件运动系统包括工件自转机构和工件平移机构,工件自转机构用于实现夹具及半球谐振子的自转运动;工件平移机构与工件自转机构连接,用于实现半球谐振子和工件自转机构的三方向平移运动;质量不平衡测试系统包含谐振子激励模块和测试模块;谐振子激励模块用于激励半球谐振子;测试模块用于检测已激励的半球谐振子的振动。本发明有效减少了大修调坑对谐振子驻波的稳定性和陀螺精度的影响。

    半球谐振子曲面膜层均匀性测试工装及方法

    公开(公告)号:CN117091549A

    公开(公告)日:2023-11-21

    申请号:CN202311153304.7

    申请日:2023-09-07

    Abstract: 本发明公开了一种半球谐振子曲面膜层均匀性测试工装及方法,所述测试工装内部尺寸与谐振子半球内球面尺寸相同,内表面设有若干列卡槽,且各卡槽间夹角均等,每列卡槽从球体唇缘贯穿至球顶,槽宽和槽高分别与贴片的宽度和厚度相等,每列卡槽设置相同个数的贴片定位槽用于安放贴片,每个卡槽中贴片定位槽以相同方式标号,标号相同的贴片定位槽与球体中心轴间的距离完全相等。本发明有效解决了类似半球谐振子的异形结构内部膜层厚度测量难度大的问题,为膜层均匀性提升提供了基础表征手段。

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