처리장치 및 처리방법
    2.
    发明公开
    처리장치 및 처리방법 失效
    处理装置和处理方法

    公开(公告)号:KR1019960008976A

    公开(公告)日:1996-03-22

    申请号:KR1019950023817

    申请日:1995-08-02

    Abstract: 피처리체를현상액으로현상하는현상액처리장치는, 피처리체를회전가능하게유지하는유지부재와, 피처리체에현상액을공급하는현상액공급노즐과, 피처리체로공급된현상액을흡인하는현상액흡인노즐과, 현상액공급노즐을피처리체위쪽으로이동시키는현상액공급노즐이동기구와, 현상액흡인노즐을피처리체위쪽으로이동시키는현상액흡인노즐이동기구를구비하고, 현상액공급노즐을이동시켜서현상액을피처리체에공급한후, 현상액흡인노즐을이동시켜서피처리체상의현상액을흡인한다.

    Abstract translation: 用于开发与显影溶液在加工对象物的显影剂装置被保持,其旋转地保持加工对象部件,以及一个显影液吸嘴和显影液供给喷嘴供给的显影液被处理,抽吸供给显影剂体被处理,并且 具有用于显影液供给喷嘴移动机构为显影液供给喷嘴移动到目标位置,移动显影溶液吸引喷嘴朝向目标位置并且,通过移动显影液供给喷嘴的显影剂吸嘴移动机构后供给显影液的待处理 ,显影剂吸嘴移动以吸引待处理物体上的显影剂。

    처리장치및처리방법
    3.
    发明授权
    처리장치및처리방법 失效
    用于半导体处理的装置和方法

    公开(公告)号:KR100230693B1

    公开(公告)日:1999-11-15

    申请号:KR1019940001584

    申请日:1994-01-28

    CPC classification number: C23C16/4485 C23C16/4412 Y10S427/101

    Abstract: 반도체 웨이퍼의 소수화 처리를 하기 위한 소수화 처리장치는, 액상상태의 HMDS를 저장하는 탱크와, 웨이퍼 처리를 하는 처리실과, 탱크로부터 처리실로 액상상태의 HMDS를 필요한 때에 필요한 양만큼 송출하는 기구를 구비한다. 처리실은 배기관을 통하여 접속된 에젝터에 의하여 감압 상태로 설정가능하게 된다. 처리실 내에는 웨이퍼를 재치하기 위한 재치대가 배치되며, 이것은 히터를 내장한다. 재치대의 주위에는 링이 배치되며 링에는 2군데에 오목형상의 액받이부가 형성된다. HMDS를 공급하는 2개의 배관이 액받이부 바로 위까지 뻗어 있다. HMDS는 액상상태로 처리실에 공급되며 여기에서 기화한다. 처리실에 있어서의 HMDS의 농도는 액상상태의 HMDS의 공급량을 조정함으로써 제어된다.

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