公开(公告)号：KR1020120023534A

公开(公告)日：2012-03-13

申请号：KR1020110074464

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  도오끼유이찌 ,  미야따아끼라 ,  야마모또유우이찌 ,  요시하라고오스께 ,  마쯔오까노부아끼 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating-developing apparatus, a coating-developing method thereof, and a storage medium are provided to prevent degradation of a processing quantity by performing a process with the other side module when one side module is not available by a unit block of a liquid processing system. CONSTITUTION: A processing block(S20) is comprised of a front side heating system block(S2), a liquid processing block(S3), and a rear side heating block(S4). The front side heating system block is arranged toward a washing block(S5) side from a carrier block side. The liquid processing block comprises first to fifth liquid processing unit blocks(B1-B5) for performing a liquid process on a wafer. Each liquid processing unit block is partitioned by a partition wall. The rear side heating block comprises first to third heating processing unit blocks(C1,C2,C3). The wafer is returned to an interface block after exposure treatment.

Abstract translation: 目的：提供一种涂布显影装置，其涂布显影方法和存储介质，以通过在单面模块不可用单面模块获得时通过与另一侧模块进行处理来防止处理量的劣化 液体处理系统。 构成：处理块（S20）包括前侧加热系统块（S2），液体处理块（S3）和后侧加热块（S4）。 前侧加热系统块朝向从承载块侧的洗涤块（S5）侧配置。 液体处理块包括用于在晶片上进行液体处理的第一至第五液体处理单元块（B1-B5）。 每个液体处理单元块由分隔壁分隔。 后侧加热块包括第一至第三加热处理单元块（C1，C2，C3）。 曝光处理后晶片返回界面块。

公开(公告)号：KR101776964B1

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：KR1020110074464

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  도오끼유이찌 ,  미야따아끼라 ,  야마모또유우이찌 ,  요시하라고오스께 ,  마쯔오까노부아끼 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67745

Abstract: 본발명의과제는도포, 현상장치의처리량의저하를억제하는동시에, 장치의설치면적을억제할수 있는기술을제공하는것이다. 처리블록은캐리어블록측의가열계의블록과, 액처리계의단위블록군과, 인터페이스블록측의가열블록을캐리어블록측으로부터인터페이스블록측으로이 순서로배치하고, 상기액 처리계의단위블록군은반사방지막용의단위블록과, 레지스트막용의단위블록과, 상층막용의단위블록을이 순서로상측에적층한도포막용의단위블록군과, 이도포막용의단위블록군에대하여서로상하로적층된현상용의단위블록으로구성되고, 액처리계의각 단위블록에서액 처리모듈은기판의반송로의좌우양측에배치되도록장치를구성한다.

Abstract translation: 本发明要解决的问题是提供一种技术，该技术能够抑制涂布和显影设备的生产量的降低并且抑制设备的安装面积。 处理块从载体块侧向接口块侧依次包括载体块侧的加热块，液体处理系统上的单元块组和接口块侧的加热块， 在上侧依次层叠抗反射膜用单位块，抗蚀剂膜用单位块，上位膜用单位块，上位层用单位块组， 并且液体处理系统的每个单元块中的液体处理模块布置在基板的传送路径的右侧和左侧。

公开(公告)号：KR101861859B1

公开(公告)日：2018-05-28

申请号：KR1020120082243

申请日：2012-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가따구니에 ,  구로이와게이조오 ,  마쯔오까노부아끼 ,  다사끼노부유끼 ,  미야따아끼라 ,  도오끼유이찌

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027

Abstract: 본발명의과제는, 기판처리장치에이상이발생한경우의점검작업을, 신속하게오류없이행하는것이다. 복수의처리유닛과, 각처리유닛에서의이상발생을표시하는표시수단을구비한기판처리장치는, 이상발생의경보의내용과당해이상발생에의해점검이필요해지는부위를관련시킨정보와, 점검대상부위를, 이상이발생되어있지않은다른부위로부터아이솔레이트하기위해조작되는기기의정보와, 점검대상부위의배치및 아이솔레이트시의조작대상기기의배치와, 아이솔레이트시의조작대상기기의조작수순을기억하는기억수단과, 기억수단의정보에기초하여, 이상발생에의해점검이필요해지는부위를아이솔레이트하기위해조작되는기기를특정하고, 또한특정된기기의배치를특정하여표시수단에출력하는이상특정수단과, 기억수단의정보에기초하여, 이상특정수단에서특정된기기의조작수순을특정하여표시수단에출력하는조작수순특정수단을갖고있다.

公开(公告)号：KR1020130014405A

公开(公告)日：2013-02-07

申请号：KR1020120082243

申请日：2012-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가따구니에 ,  구로이와게이조오 ,  마쯔오까노부아끼 ,  다사끼노부유끼 ,  미야따아끼라 ,  도오끼유이찌

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/00 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/67721

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a computer readable medium, a method for displaying an alarm, and a method for checking the substrate processing apparatus are provided to rapidly check the substrate processing apparatus without errors by confirming the location and operation of each device displayed on a display unit. CONSTITUTION: A cassette station(2) includes a cassette input and output unit(10) and a wafer transfer unit(11). The wafer transfer unit includes a wafer transfer device(21) which moves on a transfer path(20). A process station(3) includes four blocks(G1,G2,G3,G4) with various units. A bottom antireflection forming unit(31), a resist coating unit(32), and a top antireflection forming unit(33) are installed in a first block. A plurality of heat treatment units(41-46) are installed in a second block. A wafer transfer part(90) transfers a wafer to each transmission unit in a third block.

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置，计算机可读介质，显示报警的方法以及检查基板处理装置的方法，通过确认显示在其上的每个设备的位置和操作来快速检查基板处理装置而没有错误 显示单元。 构成：盒式电台（2）包括盒输入和输出单元（10）和晶片传送单元（11）。 晶片传送单元包括在传送路径（20）上移动的晶片传送装置（21）。 处理站（3）包括具有各种单元的四个块（G1，G2，G3，G4）。 底部抗反射形成单元（31），抗蚀涂层单元（32）和顶部抗反射形成单元（33）安装在第一块中。 多个热处理单元（41-46）安装在第二块中。 晶片传送部件（90）在第三块中将晶片传送到每个传输单元。