公开(公告)号：KR100324012B1

公开(公告)日：2002-03-08

申请号：KR1019980004712

申请日：1998-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다키미오 ,  오오타요시하루 ,  우찌히라노리오 ,  타테야마키요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 액정표시기(LCD)등의 피처리기판의 제조공정에 관한 것으로 특히 피처리기판의 이면의 세정장치 및 세정방법에 관한 것이다. 피처리기판의 표면뿐만 아니라 이면에 대한 세정이 필요하게 됨에 따라, 본 발명에서는 피처리기판의 외주부근을 이면에서 보지(保持)함과 동시에, 보지된 피처리기판의 이면세정면을 저부 측으로 노출시키는 개구부가 설치된 보지부재와, 보지부재의 마주보는 2변의 각 중앙부를 지지하는 지지부재와, 노출된 피처리기판의 이면세정면에 대해서 저부측에 서 접촉하는 세정용 브러쉬와, 세정용 브러쉬를 마주보는 2변에 따라서 이송하는 브러쉬구동기구와, 지지부재와 함께 보지부재를 회전구동하는 회전구동기구를 구비하고 이것에 의해 세정장치의 소공간화가 가능하게 되고, 피처리기판의 이면의 세 정을 효율적으로 실행할 수 있도록 하는 세정장치 및 세정방법이 제시되어 있다.

公开(公告)号：KR1020130052520A

公开(公告)日：2013-05-22

申请号：KR1020120126485

申请日：2012-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오타요시하루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/202

Abstract: PURPOSE: A light exposure device and a light exposure method are provided to prevent the deviation of a pitch and a linewidth of a wire pattern by improving the uniformity of a remaining resist layer after a developing process. CONSTITUTION: An exposure device(1) exposes a pattern of a disk and synchronously moves a substrate and the disk. A local exposure unit(20) is installed on the upper side of a substrate stage and locally irradiates light to the substrate. A control unit(40) controls the light emission of the local exposure unit. The local exposure unit includes a plurality of light emitting devices and a light emitting driving unit. The light emitting driving unit selectively drives the light emitting device with a light emitting control unit.

Abstract translation: 目的：提供曝光装置和曝光方法，通过提高显影处理后的剩余抗蚀剂层的均匀性来防止线图案的间距和线宽的偏差。 构成：曝光装置（1）暴露盘的图案并同步移动基板和盘。 局部曝光单元（20）安装在衬底台的上侧，并将光局部照射到衬底上。 控制单元（40）控制本地曝光单元的发光。 本地曝光单元包括多个发光装置和发光驱动单元。 发光驱动单元用发光控制单元选择性地驱动发光器件。

公开(公告)号：KR1020110131149A

公开(公告)日：2011-12-06

申请号：KR1020110108796

申请日：2011-10-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오타요시하루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F1/60 ,  G03F7/2041

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to form the coating film of processing liquid on a substrate at a uniform film thickness by including a resist coating unit with the stage divided into 5 areas. CONSTITUTION: A resist coating unit(CT,40) includes a stage(76) which is extended to a X direction. The stage is divided into 5 areas. A decompression drying unit(VD,42) includes the lower chamber(80) of a container shape and the upper chamber of a lid shape. A resist nozzle(78) is connected to a resist liquid supply pipe from a resist liquid supply source. A substrate carrier part(84) includes a pair of guide rails(96), a slider(98), and a carrier driving part.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，通过包括具有分为5个区域的平台的抗蚀剂涂布单元，以均匀的膜厚度在基板上形成处理液的涂膜。 构成：抗蚀涂层单元（CT，40）包括延伸到X方向的台（76）。 舞台分为5个区域。 减压干燥单元（VD，42）包括容器形状的下室（80）和盖形状的上室。 抗蚀剂喷嘴（78）从抗蚀剂液体供应源连接到抗蚀剂液体供应管。 基板载体部分（84）包括一对导轨（96），滑块（98）和载体驱动部分。

公开(公告)号：KR1020010039709A

公开(公告)日：2001-05-15

申请号：KR1020000038987

申请日：2000-07-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  오오타요시하루 ,  아라키시니치로 ,  이와사키타츠야 ,  아나이노리유키 ,  이와츠하루오

IPC: G02F1/13

Abstract: PURPOSE: A substrate transfer system is provided to reduce the costs for setting up a clean environment by removing the need for the formation of the clean environment in a transfer region of a substrate. CONSTITUTION: A substrate transfer system has a transfer directional mover(41) movable along an Y direction on a rail(35) installed along transfer paths. A rotating shaft(43) is installed on the transfer directional mover. A supporting member(44) is upwardly installed on the rotating shaft, and a receiving box(50) is supported by a side plate unit of the support member. Inside of the receiving box is divided into two rooms(51a,51b) by a horizontal partition(51), and substrate transmitting members(60) are installed in respective rooms. The substrate transmitting member has a pair of long pieces(62) and short pieces(63) installed on both ends of the long piece. Front end of a glass substrate(G) is aligned by pin members(62a) of the long pieces, and the side end of the glass substrate is aligned by pin members(63a) of the short pieces. In the rear portion of the receiving box, a filter member and a blower tool having a fan are prepared. With the blower tool, an airflow is formed toward the opening of the receiving box. Thus, infiltration of the exterior particles into the receiving box is avoided.

Abstract translation: 目的：提供一种基板转印系统，通过消除在基板的转印区域中形成清洁环境的需要来降低建立清洁环境的成本。 构成：衬底传送系统具有沿着沿传送路径安装的轨道（35）沿Y方向移动的传送定向移动器（41）。 旋转轴（43）安装在传送定向移动器上。 支撑构件（44）向上安装在旋转轴上，并且接收箱（50）由支撑构件的侧板单元支撑。 接收盒内部由水平隔板（51）分成两个房间（51a，51b），基板传送部件（60）安装在各自的房间内。 基板传送部件具有一对安装在长片的两端的长条（62）和短片（63）。 玻璃基板（G）的前端通过长片的销构件（62a）对准，玻璃基板的侧端由短片的销构件（63a）排列。 在接收箱的后部，准备具有风扇的过滤构件和鼓风机工具。 利用鼓风机工具，朝向接收箱的开口形成气流。 因此，避免了外部颗粒渗透到接收箱中。

公开(公告)号：KR1020000035354A

公开(公告)日：2000-06-26

申请号：KR1019990049533

申请日：1999-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  노무라마사후미 ,  오오타요시하루 ,  아라키신이치로 ,  야마키이쿠오 ,  시모후미오

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A process system is provided to reciprocate the processed between a region of a waiting stage and a region of a vacuum stage. CONSTITUTION: A process system comprises a plurality of guided units(11) each of which a main body(13), a base member(14), and upper and lower substrate support member(15a,15b). The main body(13) is able to be shifted along a guided path, and the base member(14) is able to execute an up and down shifting and a rotation shifting to the main body(13). The upper and lower substrate support member(15a,15b) are able to shift along a horizontal direction on the base member(14) independently. A center portion of the base member(14) and the main body(13) are connected by a connection portion(16). A glass substrate is guided by the up and down shifting and the rotation shifting of the base member(14) and by the horizontal shifting of the upper and lower substrate support member(15a,15b).

Abstract translation: 目的：提供一种处理系统，用于在等待阶段的区域和真空级的区域之间往复运动。 构成：处理系统包括多个引导单元（11），每个引导单元（11）分别具有主体（13），基座构件（14）以及上下基板支撑构件（15a，15b）。 主体（13）能够沿着导引路径移动，并且基部构件（14）能够执行上下移动和向主体（13）的移动。 上下基板支撑构件（15a，15b）能够独立地沿着基部构件（14）上的水平方向移动。 基部构件（14）和主体（13）的中心部分通过连接部分（16）连接。 玻璃基板通过上下移动和基部构件（14）的旋转移动以及上下基板支撑构件（15a，15b）的水平移动而被引导。

公开(公告)号：KR101154756B1

公开(公告)日：2012-06-08

申请号：KR1020060022159

申请日：2006-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오타요시하루

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명은기판처리장치및 기판처리방법및 기판처리프로그램에관한것으로서, 스테이지(76)은그 긴방향(X방향)에있어서 5개의반입영역(M), 천이영역(M), 도포영역(M), 천이영역(M), 반출영역(M)로분할되고있다. 도포영역(M)는정압의분출구(88)과부압의흡인구(90)을혼재시키고있고, 기판(G)의부상고도(H)를높은정밀도로설정값에유지할수 있다. 기판(G)는이 도포영역(M)를통과할때에윗쪽의레지스트노즐(78)로부터레지스트액(R)의공급을받는다. 레지스트노즐(78)은스테이지(76)상의기판(G)를일단으로부터타단까지커버할 수있는길이로 Y방향으로연장하는장척형상의노즐본체를갖고, 도포처리시에는기판(G)의반송방향과반대방향으로제 1의위치로부터제 2의위치까지이동한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种基板处理装置和基板处理方法以及基板处理程序，该级76在eungeu纵向方向（X方向）（M）5带来区域，所述过渡区域（M），所述涂层区域（M） ，过渡区域（M）以及搬出区域（M）。 涂层区域（M），混合neunjeong和空气出口88，压力寡妇的压力的吸入口90，将基板（G）继父图像高度也可以保持（H）以高精确度的设定值。 当通过施加区域M时，基板G从上部抗蚀剂喷嘴78供应有抗蚀剂溶液R. [ 抗蚀剂喷嘴78具有细长的喷嘴主体，该细长的喷嘴主体沿着Y方向延伸并具有从台76的一端到另一端覆盖台76上的基板G的长度， 并以相反的方向从第一个位置移动到第二个位置。

公开(公告)号：KR1020060097659A

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：KR1020060022159

申请日：2006-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오타요시하루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B1/005 ,  B05C11/10 ,  G03F7/70716

Abstract: 본 발명은 기판처리장치 및 기판처리방법 및 기판처리프로그램에 관한 것으로서 스테이지(76)은 그 긴 방향(X방향) 에 있어서 5개의 반입 영역 (M₁) ; 천이 영역 (M₂) ; 도포 영역 (M₃); 천이 영역 (M₄); 반출 영역 (M
5 )로 분할되고 있다. 도포 영역 (M₃)는 정압의 분출구 (88)과 부압의 흡인구 (90)을 혼재시키고 있고 기판 (G)의 부상 고도 (H
b )를 높은 정밀도로 설정값에 보지할 수 있다. 기판 (G)는 이 도포 영역 (M₃)를 통과할 때에 윗쪽의 레지스트 노즐 (78)로부터 레지스트액 (R)의 공급을 받는다. 레지스트 노즐 (78)은 스테이지 (76)상의 기판 (G)를 일단으로부터 타단까지 커버 할 수 있는 길이로 Y방향으로 연장하는 장척 형상의 노즐 본체를 갖고 도포 처리시에는 기판 (G)의 반송 방향과 반대 방향으로 제 1의 위치로부터 제 2의 위치까지 이동하는 스핀레스 방식에서 피처리 기판상에 처리액을 공급내지 도포하는 처리 동작의 택트 타임을 단축함과 동시에 피처리 기판상에 처리액의 도포막을 도포 얼룩짐이 없는 균일한 막두께로 형성하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种基板处理装置和76在纵向方向上带到五个区域（M 1）的基板处理方法及基板处理程序阶段（X方向）; 过渡区域M2; 涂层区域M3; 过渡区域M4; 出口区域M

公开(公告)号：KR1020060045531A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：KR1020050028560

申请日：2005-04-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카에리야마타케오 ,  오오타요시하루 ,  타테야마키요히사 ,  사카이미츠히로 ,  모토다키미오 ,  카지와라히로노부 ,  미야자키카즈히토

IPC: B05C5/02 ,  B05C5/00

CPC classification number: B05C5/0225 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027

Abstract: The coating film forming apparatus (resist coating device 23a) applies processing liquid (resist liquid R) to the surface of a processed substrate (substrate G) and forms a film on it. The coating film forming apparatus comprises the first stage (stage 50), the second stage (stage 59), a processing liquid supply nozzle 51, a nozzle moving means 86, a processing liquid supply means, and a priming processing means. The first stage and the second stage are put in order and arranged, and lay a processed substrate, respectively. The processing liquid supply nozzle 51 has the dispense port of the shape of a slit prolonged in the width direction of a processed substrate. The nozzle moving means 86 moves the processing liquid supply nozzle 51. The processing liquid supply means (resist liquid source of supply 95) supplies processing liquid to the processing liquid supply nozzle 51. The priming processing means carries out equalization process of the processing liquid adhering to dispense port by rotating the roller 52, to make the processing liquid from the dispense port supply on a surrounding field of the freely rotation roller 52. The processing liquid is applied to the surface of the processed substrate laid in the first stage and the second stage by the processing liquid supply nozzle 51.

Abstract translation: 涂膜形成装置（抗蚀剂涂敷装置23a）将处理液（抗蚀液R）施加到被处理基板（基板G）的表面，并在其上形成膜。 涂膜形成装置包括第一阶段（阶段50），第二阶段（阶段59），处理液供给喷嘴51，喷嘴移动装置86，处理液供给装置和启动处理装置。 对第一阶段和第二阶段进行排序和布置，分别铺设处理后的基板。 处理液供给喷嘴51具有沿被处理基板的宽度方向延长的狭缝形状的分注口。 喷嘴移动装置86使处理液供给喷嘴51移动。处理液供给装置（供给源95）向处理液供给喷嘴51供给处理液。起动处理装置进行附着处理液的均衡处理 通过旋转辊52来分配端口，使得来自分配端口的处理液体在自由旋转辊52的周围场上供应。处理液体被施加到布置在第一级中的处理基板的表面，第二层 通过处理液体供给喷嘴51进行分级。

公开(公告)号：KR101188077B1

公开(公告)日：2012-10-08

申请号：KR1020110108796

申请日：2011-10-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오타요시하루

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명의 과제는, 스핀레스 방식에서 피처리 기판상에 처리액을 공급내지 도포하는 처리 동작의 택트 타임을 단축함과 동시에 피처리 기판상에 처리액의 도포막을 도포 얼룩짐이 없는 균일한 막두께로 형성하는 기술을 제공하는 것이다.
본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 및 기판 처리 프로그램에 관한 것으로서, 스테이지(76)은 그 긴 방향(X방향)에 있어서 5개의 반입 영역(M
1 ), 천이 영역(M
2 ), 도포 영역(M
3 ), 천이 영역(M
4 ), 반출 영역(M
5 )로 분할되고 있다. 도포 영역(M
3 )는 정압의 분출구(88)과 부압의 흡인구(90)을 혼재시키고 있고, 기판(G)의 부상 고도(H
b )를 높은 정밀도로 설정값에 유지할 수 있다. 기판(G)는 이 도포 영역(M
3 )를 통과할 때에 윗쪽의 레지스트 노즐(78)로부터 레지스트액(R)의 공급을 받는다. 레지스트 노즐(78)은 스테이지(76)상의 기판(G)를 일단으로부터 타단까지 커버 할 수 있는 길이로 Y방향으로 연장하는 장척 형상의 노즐 본체를 갖고, 도포 처리시에는 기판(G)의 반송 방향과 반대 방향으로 제 1의 위치로부터 제 2의 위치까지 이동한다.

公开(公告)号：KR101069494B1

公开(公告)日：2011-09-30

申请号：KR1020050028560

申请日：2005-04-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카에리야마타케오 ,  오오타요시하루 ,  타테야마키요히사 ,  사카이미츠히로 ,  모토다키미오 ,  카지와라히로노부 ,  미야자키카즈히토

IPC: B05C5/02 ,  B05C5/00

Abstract: 본 발명은 도포막 형성장치에 관한 것으로서 피처리 기판(기판, G)의 표면에 처리액(레지스트액 R)을 도포해 막을 형성하는 도포막형성 장치(레지스트 도포 장치, 23a) 에 있어서 나열하여 배치되고 피처리 기판을 각각 재치하는 제 1의 스테이지(스테이지, 50) 및 제 ２의 스테이지(스테이지, 59)와 피처리 기판의 폭방향으로 연장하는 슬릿 형상의 토출구를 가지는 하나의 처리액 공급 노즐(51)과, 상기 처리액 공급 노즐(51)을 이동하는 노즐 이동 수단(86)과, 상기 처리액 공급 노즐(51)에 대해서 처리액을 공급하는 처리액 공급 수단(레지스트액 공급원, 95)과 상기 토출구로부터의 처리액을 회전 자재로 형성된 롤러(52)의 주위면에 토출시켜 상기 롤러(52)를 회전시키는 것에 의해 상기 토출구에 부착하는 처리액을 균일화 처리하는 프라이밍 처리 수단을 구비하고 상기 처리액 공급 노즐(51)에 의해 제 1의 스테이지 및 제 ２의 스테이지에 재치된 피처리 기판의 표면에 처리액을 도포한다. 풋 프린트 및 장치의 비용 증대를 매우 억제하면서 처리액을 피처리 기판에 도포해 막형성할 때에 막형성 처리의 수율을 향상시킴과 동시에 각 피처리 기판에 처리액을 균일하게 도포할 수 있는 도포막형성 장치를 제공한다.