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公开(公告)号：KR100268526B1
公开(公告)日：2000-11-01
申请号：KR1019940006976
申请日：1994-04-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤
IPC: H01L21/30
Abstract: 종형 열처리장치는 반도체 웨이퍼에 가스를 사용하는 열처리를 하는 열처리부와, 이 열처리부에 가스를 공급하는 가스공급부를 구비하고 있다. 가스공급부는 복수의 가스 유량제어장치를 포함하는 복수의 가스제어기기와, 이들 가스 제어기기를 수납하는 가스제어기기 수납용이와, 이 수납용기 바깥에 설치되고 가스 제어기기에 부속하는 복수의 전기부품과, 복수의 전기부품을 수납하는 전기부품용기를 가지고 있고, 복수의 가스유량제어장치는 블록 이음매에 의하여 일체화되어 있다.
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公开(公告)号：KR1019940024909A
公开(公告)日：1994-11-19
申请号：KR1019940006976
申请日：1994-04-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤
IPC: H01L21/30
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公开(公告)号：KR1019940027103A
公开(公告)日：1994-12-10
申请号：KR1019940012115
申请日：1994-05-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/324
Abstract: 열처리로내의 압력이 소정치가 되었을 때에 출력신호를 발하는 압력검출부와, 제1의 밸브 및 체크밸브를 갖춘 대기개방관과, 제2의 밸브에 의하여 열처리로내로부터 압력적으로 차단된 차압계와, 제3의 밸브를 갖춘 통기관에 의하여 구성되어 있다. 그리고, 대기개방관 및 통기관의 일단을 각각 열처리로에 접속하고, 이들의 다른 일단을 대기에 개방한다.
이와같은 구성에 의하여, 처리가스를 열처리로로부터 진공배출한 후, 불활성가스로 치환하고, 노내압이 대기압 부근이 되었을 때에 압력검출부의 출력신호에 의하여 제1밸브를 열어 열처리로내를 대기압 보다도 약간 높은 압력으로 하며, 차압계의 차압검출기가 설정치 이하일 때에는 제3의 밸브를 열어서 열처리로내를 통기관을 통해서 대기로 개방한 후, 노의 입구를 막고 있는 덮개체를 열도록 한다. 또, 노의 반응용기 아래의 개구부 공간에 파티클 수집수단과 파티클 측정판별수단을 설치하여서 파티클 수가 소정치 이내인가 여부를 판별하여, 장치의 메인티넌스 시기를 판단하다. 이에 의하여 제품의 수율향상을 도모할 수 있다.-
公开(公告)号：KR100280691B1
公开(公告)日：2001-04-02
申请号：KR1019940012115
申请日：1994-05-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/324
Abstract: 열처리로 내부의 압력이 소정치가 되었을 때에 출력신호를 발하는 압력검출부와, 제 1 의 밸브 및 체크밸브를 갖춘 대기개방관과, 제 2 의 밸브에 의해 열처리로의 내부로부터 압력적으로 차단된 차압계와, 제 3 의 밸브를 갖춘 통기관에 의해 구성되어 있다. 그리고 대기개방관 및 통기관의 한끝단을 각각 열처리로에 접속하고, 이들의 다른끝단을 대기에 개방시킨다.
이러한 구성에 의해, 처리가스를 열처리로에서 진공배출한 후, 불활성가스로 치환하고, 노의 내압이 대기압 부근이 되었을 때에 압력검출부의 출력신호에 의해 제 1 밸브를 열어 열처리로의 내부를 대기압 보다도 약간 높은 압력으로 하며, 차압계의 차압검출치가 설정치 이하일 때에는 제 3 밸브를 열고 열처리로의 내부를 통기관을 통해 대기로 개방시킨 후, 노의 입구를 막고 있는 덮개체를 열도록 한다. 또 노의 반응용기 아래의 개구부 공간에 파티클 수집수단과 파티클 측정판별수단을 설치하고 파티클수가 소정치 이내인가 여부를 판별하여, 장치의 유지관리 시기를 판단한다. 이에 따라 제품의 수율향상을 도모할 수 있다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019930022167A
公开(公告)日：1993-11-23
申请号：KR1019930007071
申请日：1993-04-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G05D7/06
Abstract: 가스유량제어장치는, 기초체블록과, 기초체블록내에 설치되고, 그 안에 가스를 통류시키기 위한 제1및 제2가스유로와, 제1및 제2의 가스유로를 접속하도록 설치되고, 이들을 통류하는 가스유량을 조절하는 가스유량조절기구와, 가스유량조절수단에 유량제어신호를 출력하여 제1 또는 제2가스유로내의 가스유량을 제어하는 가스유량제어부를 가지고 있다. 이 장치에서, 기초체블록내에는 상기 제1및 제2가스유로를 접속하는 바이패스통로가 설치되고, 또한, 상기 바이패스통로를 개폐하는 밸브기구가 설치되어 있으며, 이 장치에 트러블이 발생한 경우에, 밸브기구를 열도록 하여 바이패스유로에 퍼지가스를 흐르게 하여 그속의 가연성가스 또는 유독가스를 퍼지하여, 가스유량제어장치를 떼어내어 점검 및 보수를 실시한다.
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公开(公告)号：KR100229606B1
公开(公告)日：1999-11-15
申请号：KR1019930027318
申请日：1993-12-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/87885 , Y10T137/9029
Abstract: 유체의 입구, 출구 및 이들에 연결되어 통하는 유로를 가지는 기체와; 이 기체의 유로 속의 유체의 유량을 조절하는 유량조절수단과; 상기 유로 내의 유체의 유량을 검출하는 유량검출수단과; 이 유량검출수단의 검출결과에 의거하여 상기 유량조절수단에 유량제어신호를 출력하여 유체의 유량을 소정값으로 제어하는 유량제어 수단을 구비한 유량제어장치가 개시된다. 유체의 입구 또는 출구의 적어도 한 쪽이 그곳에 있어서의 유체의 흐름방향이 상기 유로에 대하여 직교하는 방향으로 되도록 위치된다.
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公开(公告)号：KR100284559B1
公开(公告)日：2001-04-02
申请号：KR1019950007866
申请日：1995-04-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 직사각형기판의 레지스트처리방법은, 기판을 스핀 회전시키면서 기판에 레지스트액을 공급하고, 기판의 적어도 한쪽면에 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포공정과, 레지스트를 용해할 수 있는 제거액을 기판양면의 둘레영역에 분사하고, 기판양면의 둘레영역으로 부터 레지스트막을 제거하는 레지스트 제거공정을 가진다.
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公开(公告)号：KR1019950034475A
公开(公告)日：1995-12-28
申请号：KR1019950007866
申请日：1995-04-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 직사각형기판의 레지스트처리방법은, 기판을 스핀 회전시키면서 기판에 레지스트액을 공급하고, 기판의 적어도 한쪽면에 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포공정과, 레지스트를 용해할 수 있는 제거액을 기판양면의 둘레영역에 분사하고, 기판양면의 둘레영역으로 부터 레지스트막을 제거하는 레지스트 제거공정을 가진다.
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公开(公告)号：KR1019940016545A
公开(公告)日：1994-07-23
申请号：KR1019930027318
申请日：1993-12-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 유체의 입구, 출구 및 이들에 연결되어 통하는 유로를 가지는 기체와; 이 기체의 유로 속의 유체를 유량을 조절하는 유량조절수단과; 상기 유로 내의 유체의 유량을 검출하는 유량검출수단과; 이 유량검출수단의 검출결과에 의거하여 상기 유량조절수단에 유량제어신호를 출력하여 유체의 유량을 소정값으로 제어하는 유량제어수단을 구비한 유량제어장치가 개시된다. 유체의 입구 또는 출구의 적어도 한쪽이 그곳에 있어서의 유체의 흐름방향이 상기 유로에 대하여 직교하는 방향으로 되도록 위치된다.
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