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1.发明专利
公开(公告)号：KR102232755B1
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：KR1020150049075A
申请日：2015-04-07
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: H01L29/772 , H01L27/04 , H01L29/78681 , C01B19/04 , H01L21/467 , H01L29/04 , H01L29/045 , H01L29/0665 , H01L29/1029 , H01L29/1033 , H01L29/1606 , H01L29/24 , H01L29/66409 , H01L29/66477 , H01L29/66742 , H01L29/66969 , H01L29/778 , H01L29/78 , H01L29/78684 , H01L29/78687 , H01L29/78696
Abstract: 2차원 물질을 이용한 전자소자 및 그 제조 방법이 개시된다. 개시된 전자소자는 밴드갭을 갖는 2차원 물질층을 포함할 수 있다. 여기서, 2차원 물질층은 2개의 다층 2차원 물질 영역과 그 사이에 배치된 채널 영역을 포함할 수 있다. 전자소자의 전극은 다층 2차원 물질 영역에 전기적으로 접촉할 수 있다.
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公开(公告)号：KR101827124B1
公开(公告)日：2018-02-07
申请号：KR1020160073164
申请日：2016-06-13
Applicant: 현대자동차주식회사 , 기아자동차주식회사 , 성균관대학교산학협력단
Abstract: 본발명은차량에서제공하는차량데이터를이용하여운전자의패턴을다중트리유전프로그래밍알고리즘방법에적용하여학습및 분류하고, 학습된운전자모델의주행성향을분석함으로써운전자의위험도를정의할수 있으며, 학습되지않은데이터의위험도에대한실시간처리가가능한운전자의주행패턴인식시스템및 방법을제공한다. 본발명의일실시예에따른운전자의주행패턴인식시스템은차량의운행데이터를수집하는데이터수집부, 상기차량의운행데이터를분석하여운전자의운전패턴에대한영향을많이미치는주요센서들을선별하는데이터축소부, 기계학습알고리즘을통해상기수신된차량의운행데이터에서각각의운전자의운전패턴에대한모델을생성하는데이터학습부및 상기생성된운전자의운전패턴에대한모델을이용하여서비스를실행하는서비스실행부를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020170140625A
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：KR1020160073164
申请日：2016-06-13
Applicant: 현대자동차주식회사 , 기아자동차주식회사 , 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: B60W40/09 , B60K28/02 , B60W50/08 , B60W2050/0029 , B60W2540/30 , B60Y2400/30
Abstract: 본발명은차량에서제공하는차량데이터를이용하여운전자의패턴을다중트리유전프로그래밍알고리즘방법에적용하여학습및 분류하고, 학습된운전자모델의주행성향을분석함으로써운전자의위험도를정의할수 있으며, 학습되지않은데이터의위험도에대한실시간처리가가능한운전자의주행패턴인식시스템및 방법을제공한다. 본발명의일실시예에따른운전자의주행패턴인식시스템은차량의운행데이터를수집하는데이터수집부, 상기차량의운행데이터를분석하여운전자의운전패턴에대한영향을많이미치는주요센서들을선별하는데이터축소부, 기계학습알고리즘을통해상기수신된차량의운행데이터에서각각의운전자의운전패턴에대한모델을생성하는데이터학습부및 상기생성된운전자의운전패턴에대한모델을이용하여서비스를실행하는서비스실행부를포함한다.
Abstract translation: 本发明的学习和分类通过使用由所述车辆中的多个树遗传规划算法方法提供的车辆数据施加所述驱动器的模式，通过分析得知驾驶者模型的驾驶倾向，并且可以限定驱动器的危险，不学习 本发明提供了一种能够实时处理不存在数据风险的驾驶员的驾驶模式识别系统和方法。 识别驾驶者的驾驶模式，根据用于通过分析从数据获取单元，车辆操作数据从车辆收集的操作数据排序上的大量的对驾驶员的驾驶模式影响键传感器的本发明系统中的数据的一个实施例 还原单元，通过使用所述数据学习单元的操作模式的模型的机器学习算法，以及用于在接收到的车辆服务正在运行的服务的站数据生成各驾驶者的操作模式的模型所生成的驱动 还有一个执行单元。
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公开(公告)号：KR101500389B1
公开(公告)日：2015-03-10
申请号：KR1020140032290
申请日：2014-03-19
Applicant: 현대자동차주식회사 , 기아자동차주식회사 , 서울대학교산학협력단
CPC classification number: B60W20/40 , B60K6/442 , B60K2006/4825 , B60W10/02 , B60W10/06 , B60W10/08 , B60W30/18027 , B60W2050/0087 , B60W2710/022 , F16D48/066 , F16D2500/1026 , F16D2500/10412 , F16D2500/1045 , F16D2500/1066 , F16D2500/1107 , F16D2500/3024 , F16D2500/30803 , F16D2500/3127 , F16D2500/3144 , F16D2500/50224 , F16D2500/50266 , F16D2500/5102 , F16D2500/5108 , F16D2500/70217 , F16D2500/7027 , F16D2500/70282 , F16D2500/70406 , F16D2500/7041 , F16D2500/70448 , F16D2500/70605 , Y10S903/93
Abstract: 본 발명은 엔진클러치의 유압 특성과 마찰 특성이 변화하는 상황에서 유압지령을 학습 보정하여 엔진클러치의 결합이 목표시간과 목표속도를 추종할 수 있도록 하는 하이브리드 차량의 유압지령 학습방법이 개시된다.
본 발명은 런치 제어 발진이 요구되면 엔진을 시동 온 시켜 아이들로 제어하고, 가속페달의 입력량으로 차량의 가속도를 결정하는 과정; 가속도를 변속비로 환산하여 변속기의 입력축 목표속도를 결정하고, 목표 속도를 추종하는 유압지령을 결정하여 엔진클러치의 결합을 제어하는 과정; 엔진클러치의 출력속도와 변속기의 입력축 목표속도를 비교하여 설정된 허용범위를 초과하는 성능 오차가 발생되는지 판단하는 과정; 성능오차가 발생되면 성능오차를 2차원 함수로 근사화하여 성분별로 분리하고, 분리된 각 성분을 유압지령의 보상지점으로 결정하는 과정; 유압지령 보상지점별로 유압지령을 조정하여 엔진클러치의 출력성능 변화를 분석하고, 엔진클러치의 출력성능이 변속기의 입력축 목표속도를 추종하면 해당 유압지령을 학습값으로 저장하는 과정을 포함한다.Abstract translation: 公开了一种用于学习混合动力车辆中的液压指令的装置和方法，其能够通过在液压特性和摩擦力的状态下学习和校正液压指令来允许发动机离合器的组合跟随目标时间和目标速度 发动机离合器的特点发生变化。 用于在混合动力车辆中学习液压指令的方法包括启动发动机并且在需要发动控制振荡时控制发动机处于怠速状态，并且确定推动了加速踏板量的车辆的加速度; 将加速度转换为速比以确定变速器的输入轴的目标速度，并且确定跟随目标速度的液压指令以控制发动机离合器的组合; 将发动机离合器的输出速度与变速器的输入轴的目标速度进行比较，以确定是否发生超过预定公差的性能误差; 将性能误差近似为二维函数，以将性能误差分解为分量，如果确定出现性能错误，并将分割的分量确定为液压命令的校正点; 并且在每个校正点处调整液压指令以分析发动机离合器的输出性能的变化，并且如果发动机离合器的输出性能跟随所述发动机离合器的输入轴的目标速度，则存储作为学习值的液压指令 传输。
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公开(公告)号：KR102232755B1
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：KR1020150049075
申请日：2015-04-07
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L29/66 , H01L29/778 , H01L29/24 , H01L29/786 , H01L29/04 , H01L29/06 , H01L29/16
Abstract: 2차원물질을이용한전자소자및 그제조방법이개시된다. 개시된전자소자는밴드갭을갖는 2차원물질층을포함할수 있다. 여기서, 2차원물질층은 2개의다층 2차원물질영역과그 사이에배치된채널영역을포함할수 있다. 전자소자의전극은다층 2차원물질영역에전기적으로접촉할수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101368050B1
公开(公告)日：2014-02-28
申请号：KR1020120052677
申请日：2012-05-17
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: G05F3/26
Abstract: 본 발명은 저항 변화를 보상한 밴드갭 기준전압 발생기를 공개한다. 이 장치는 전원 전압을 인가받아 공정 변화에 대하여 보상된 이미터 전류를 생성하여 저항 변화에 무관한 베이스-이미터 전압을 출력하는 베이스-이미터 전압 발생부; 상기 전원 전압을 인가받아 상기 공정 변화에 무관한 베이스-이미터 전압의 변화량을 생성하여 출력하는 베이스-이미터 전압 변화량 발생부; 및 상기 베이스-이미터 전압 및 상기 베이스-이미터 전압의 변화량을 인가받아 합산하여 기준 전압을 출력하는 전압 합산부;를 구비하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의할 경우, 공정 후 보정 방식 없이 저항의 변화를 보상하여 밴드갭 기준전압 발생기의 정확도를 향상시킬 수 있어 공정 비용 및 실리콘 면적, 입출력 핀을 절약하여 제조 원가를 절감할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020130129322A
公开(公告)日：2013-11-28
申请号：KR1020120052677
申请日：2012-05-17
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: G05F3/26
Abstract: A band gap reference voltage generator compensating for a resistance variation is disclosed. The apparatus comprises: a base-emitter voltage generator receiving a voltage from a power source, generating an emitter current compensated for regarding a process variation and outputting a base-emitter voltage independent of resistance variations; a base-emitter voltage variation generator receiving a voltage from the power source and generating and outputting a variation of the base-emitter voltage independent of process variations; and a voltage adder receiving and adding the variation of the base-emitter, and outputting a reference voltage. The present invention can improve the accuracy of the band gap reference voltage generator by compensating for the resistance variations without a method of compensation posterior to process, thereby saving production costs by reducing process costs, a silicon area and the number of IO pins. [Reference numerals] (150) Emitter current generator compensating for process
Abstract translation: 公开了补偿电阻变化的带隙基准电压发生器。 该装置包括：基极 - 发射极电压发生器，其从电源接收电压，产生针对工艺变化补偿的发射极电流，并输出与电阻变化无关的基极 - 发射极电压; 接收来自所述电源的电压的基极 - 发射极电压变化发生器，并且独立于过程变化产生并输出所述基极 - 发射极电压的变化; 以及电压加法器，接收并相加基极 - 发射极的变化，并输出参考电压。 本发明可以通过补偿电阻变化来提高带隙基准电压发生器的精度，而不需要后处理的补偿方法，从而通过降低工艺成本，硅面积和IO引脚数来节省生产成本。 （附图标记）（150）发射器电流发生器补偿过程
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公开(公告)号：KR100736229B1
公开(公告)日：2007-07-06
申请号：KR1020060035644
申请日：2006-04-20
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: G01B9/02
Abstract: A system for compensating error of laser interferometer and a method thereof are provided to measure displacement similar to resolution of a corresponding interferometer without an expensive measuring circumstance. A system for compensating error of laser interferometer includes an interferometer(50) using a single path heterodyne laser(51), a measuring unit(60) to measure a displacement using the interferometer, and a correcting unit(70) to correct an error of the measurement measured by the measuring unit using double Kalman filter algorithm. The correcting unit models measurement noise due to environmental error and reduces the measurement noise to increase measuring precision. The interferometer includes a laser to output a laser beam with a first frequency(f1) and a second frequency(f2), a beam splitter(52) installed on an optical path of the laser to split the first frequency and the second frequency, a first quarter plate installed on an optical path of the first frequency, a movable mirror(54) installed in a driving unit, a second quarter plate(55) installed on an optical path of the second frequency, and a fixed mirror(56) fixed on the optical path of the second frequency.
Abstract translation: 提供了一种用于补偿激光干涉仪误差的系统及其方法，以测量与相应干涉仪的分辨率相似的位移，而无需昂贵的测量环境。 用于补偿激光干涉仪误差的系统包括使用单路外差激光器（51）的干涉仪（50），使用干涉仪测量位移的测量单元（60），以及校正单元（70） 由测量单元使用双卡尔曼滤波器算法测量的测量。 校正单元模拟由于环境误差引起的测量噪声，并降低测量噪声以提高测量精度。 干涉仪包括：激光器，用于输出具有第一频率（f1）和第二频率（f2）的激光束;分光器（52），其安装在激光器的光路上以分裂第一频率和第二频率; 在安装在第一频率的光路上的第一四分之一板，安装在驱动单元中的可移动反射镜（54），安装在第二频率的光路上的第二四分之一板（55）以及固定的反射镜（56） 在第二频率的光路上。
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公开(公告)号：KR1020150089841A
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：KR1020140010889
申请日：2014-01-28
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L21/265 , H01L21/84
CPC classification number: H01L51/002 , H01L21/225 , H01L21/2253 , H01L21/76251 , H01L29/1606 , H01L29/24 , H01L51/0558
Abstract: 2차원반도체의도핑방법이개시된다. 개시된 2차원반도체의도핑방법은기판상에반도체층을형성하는단계와, 상기반도체층에이온을주입하는단계와, 상기반도체층상에 2차원반도체또는유기물반도체로이루어진도프층을형성하는단계와상기기판을열처리하여상기반도체층의상기이온을상기도프층으로확산시켜서상기도프층을도핑하는단계를포함한다.
Abstract translation: 公开了掺杂二维半导体的方法。 掺杂二维半导体的方法包括在衬底上形成半导体层的步骤，将离子注入到半导体层中的步骤，在半导体层上形成由二维半导体或有机半导体制成的掺杂层的步骤，以及 通过加热衬底并将半导体层的离子扩散到掺杂层中，在掺杂层上进行掺杂过程的步骤。
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公开(公告)号：KR102257243B1
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：KR1020140010721
申请日：2014-01-28
Applicant: 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L29/16 , H01L29/772 , H01L21/335
Abstract: 튜너블배리어를구비한그래핀트랜지스터가개시된다. 개시된그래핀트랜지스터는반도체기판상에배치된절연박막과, 상기절연박막상의그래핀층과, 상기그래핀층의일단부와연결된제1전극과, 상기그래핀층의타단부로부터이격되며상기반도체기판과접촉하는제2전극과, 상기그래핀층상의게이트전극을포함한다. 상기반도체기판및 상기그래핀층사이에튜너블에너지배리어가형성된다.
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