Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epitaxial substrate that achieves a peeling technology even in a arseniuretted-gallium-based material, has a sacrifice layer deposited on a wafer substrate, and has a group III-V semiconductor. SOLUTION: The epitaxial substrate has the sacrifice layer deposited on the wafer substrate, and the group III-V semiconductor. In this case, the band gap of the sacrifice layer is smaller than that of a peripheral substrate. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
Abstract:
Es wird eine Leuchtstoffkombination (10) angegeben, die einen ersten Leuchtstoff (1) und einen zweiten Leuchtstoff (2) umfasst, wobei es sich bei dem zweiten Leuchtstoff um einen rot emittierenden Quantenpunkt-Leuchtstoff handelt. Außerdem wird ein Konversionselement (20) und eine optoelektronische Vorrichtung (30) angegeben, die jeweils die Leuchtstoffkombination (10) umfassen.
Abstract:
The component has n- and p-doped confinement layers (14,22) and n active, photon emitting layer (18) between them. The n-doped confinement layer is doped with a first n-doping material to produce high active doping and/or a sharp doping profile and the active layer is doped with a second different doping material to improve the layer quality of the active layer.
Abstract:
Disclosed is a radiation receptor (1) comprising a semiconductor body (2) that has a first active region (210) and a second active region (220) which are used for detecting radiation. The first active region (210) and the second active region (220) are located at a distance from each other in a vertical direction. A tunnel region (24) is arranged between the first active region (210) and the second active region (220). The tunnel region (24) is connected in an electrically conducting manner to a connecting surface (31) which is used for externally contacting the semiconductor body (2) in an electrical manner between the first active region (210) and the second active region (220). A method for producing a radiation receptor is also disclosed.
Abstract:
The invention relates to a radiation-emitting semi-conductor element provided with a layered structure, comprising an n-doped confinement layer (14), a p-doped confinement layer (22), and an active layer (18) emitting photons, said layer being arranged between the n-doped confinement layer (14) and the p-doped confinement layer (22). According to the invention, the n-doped confinement layer (14) is doped with a first n-dopant (or two n-dopants which are different from each other) in order to produce a high active doping and a precise doping profile, and the active layer (18) is doped with exclusively one second n dopant, which is different form the first dopant, in order to improve the layer quality of the active layer (18).
Abstract:
Es wird eine Leuchtstoffmischung umfassend:- einen ersten Leuchtstoff (1), der ein Emissionsspektrum (2) mit einer FWHM-Breite (3) zwischen einschließlich 70 Nanometer und einschließlich 150 Nanometer aufweist und elektromagnetische Strahlung aus dem grünen Spektralbereich aussendet,- einen zweiten Leuchtstoff (4), der ein Emissionsspektrum (5) mit einer FWHM-Breite (6) zwischen einschließlich 1 Nanometer und einschließlich 40 Nanometer aufweist und elektromagnetische Strahlung aus dem roten Spektralbereich aussendet, und- einen dritten Leuchtstoff (7), der ein Emissionsspektrum (13) mit einer FWHM-Breite (8) zwischen einschließlich 25 Nanometer und einschließlich 100 Nanometer aufweist und elektromagnetische Strahlung aus dem orange-roten Spektralbereich aussendet,angegeben.Weiterhin werden eine weitere Leuchtstoffmischung, ein Konversionselement und ein optoelektronisches Bauelement angegeben.
Abstract:
In einer Ausführungsform umfasst die Lichtquelle (1) einen ersten Halbleiteremitter (21) zur Erzeugung von erstem Licht und einen zweiten Halbleiteremitter (22) zur Erzeugung von zweitem Licht, das eine andere Farbe aufweist. In einem Lichtmischkörper (3) werden das erste und das zweite Licht durchmischt, sodass ein Mischlicht entsteht. Ein Detektor (4) befindet sich an dem Lichtmischkörper (3) und ist zur Bestimmung eines Farbort des Mischlichts eingerichtet. Die Halbleiteremitter (21, 22) sind entlang einer Linie (L) angeordnet und weisen unterschiedliche Abstände zu dem Detektor (4) auf. Der Lichtmischkörper (3) ist an Seitenflächen (25) der Halbleiteremitter (21, 22) angeordnet und bedeckt jede der Seitenflächen (25) mindestens teilweise, gesehen in Projektion auf die entsprechende Seitenfläche (25), sodass der Detektor (4) von jedem der Halbleiteremitter (21, 22), vermittelt durch den Lichtmischkörper (3) und/oder durch den Lichtmischkörper (3) hindurch, gleich viel Licht empfängt.
Abstract:
Es ist das Verfahren zum Betreiben einer Halbleiterlichtquelle (1) eingerichtet. Die Halbleiterlichtquelle (1) weist eine erste Lichtquelle (21) zur Erzeugung von blauem Licht, eine zweite Lichtquelle (22) zur Erzeugung vom bläulich-weißem Licht, eine dritte Lichtquelle (23) zur Erzeugung von grünlich-weißem Licht und eine vierte Lichtquelle (24) zur Erzeugung von rotem Licht sowie optional eine Ansteuereinheit (3) auf. Die Lichtquellen (21, 22, 23, 24) sind unabhängig voneinander ansteuerbar und die Halbleiterlichtquelle (1) wird so betrieben, sodass insgesamt weißes Mischlicht mit einer abstimmbaren korrelierten Farbtemperatur erzeugt wird und jede der Lichtquellen (21, 22, 23, 24) im eingeschalteten Zustand der Halbleiterlichtquelle mit mindestens 5 %, besonders bevorzugt mit mindestens 10 %, eines bestimmungsgemäßen zugehörigen Maximalstroms betrieben wird.