반도체 소자 그리고 반도체 소자를 제조하기 위한 방법
    1.
    发明公开
    반도체 소자 그리고 반도체 소자를 제조하기 위한 방법 审中-公开
    半导体组件和生产半导体组件的方法

    公开(公告)号:KR20180006515A

    公开(公告)日:2018-01-17

    申请号:KR20187001042

    申请日:2011-07-01

    Abstract: 본발명은적어도하나의광전자반도체칩(2)을구비하고, 그리고상기반도체칩(2)이그 위에배치되어있는연결면(53)을갖는연결캐리어(5)를구비하는반도체소자(1)와관련이있다. 상기연결캐리어(5) 상에는반사기층(4) 및제한구조물(3)이형성되어있으며, 이경우상기제한구조물(3)은상기반도체칩(2)을가로방향으로적어도국부적으로둘러싸고, 상기반사기층(4)은상기반도체칩(2)의한 측면(21)과상기제한구조물(3) 사이에서가로방향으로적어도국부적으로뻗는다. 본발명은또한반도체소자를제조하기위한방법과도관련이있다.

    Abstract translation: 半导体元件包括至少一个光电子半导体芯片和具有其上设置有半导体芯片的连接表面的连接载体。 在连接载体上形成反射涂层和限制结构。 该限制结构在横向方向上至少部分地包围半导体芯片,并且反射涂层至少部分地在半导体芯片的侧表面与限制结构之间的横向方向上延伸。

    Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements

    公开(公告)号:DE102010031945A1

    公开(公告)日:2012-01-26

    申请号:DE102010031945

    申请日:2010-07-22

    Abstract: Es wird ein Halbleiterbauelement (1) angegeben, das zumindest einen optoelektronischen Halbleiterchip (2) und einen Anschlussträger (5) mit einer Anschlussfläche (53), auf der der Halbleiterchip (2) angeordnet ist, aufweist. Auf dem Anschlussträger (5) ist eine Reflektorschicht (4) und eine Begrenzungsstruktur (3) ausgebildet ist, wobei die Begrenzungsstruktur (3) den Halbleiterchip (2) in lateraler Richtung zumindest bereichsweise umläuft und die Reflektorschicht (4) in lateraler Richtung zumindest bereichsweise zwischen einer Seitenfläche (21) des Halbleiterchips und der Begrenzungsstruktur (3) verläuft. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements angegeben.

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