Optoelektronisches Halbleiterbauteil und Verfahren zur Herstellung eines anorganischen optoelektronischen Halbleiterbauteils

    公开(公告)号:DE102009033686A1

    公开(公告)日:2011-01-20

    申请号:DE102009033686

    申请日:2009-07-17

    Abstract: In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterbauteils (1) beinhaltet dieses einen Träger (2) und mindestens eine Halbleiterschichtenfolge (3). Die Halbleiterschichtenfolge (3) weist zumindest eine aktive Schicht (30) auf. Die Halbleiterschichtenfolge (3) ist ferner an dem Träger (2) angebracht. Weiterhin beinhaltet das Halbleiterbauteil (1) einen Metallspiegel (4), der sich zwischen dem Träger (2) und der Halbleiterschichtenfolge (3) befindet. Der Träger (2) und die Halbleiterschichtenfolge (3) überragen den Metallspiegel (4) in lateraler Richtung. Außerdem ist der Metallspiegel (4) in lateraler Richtung unmittelbar von einer strahlungsdurchlässigen und elektrisch isolierenden Verkapselungsschicht (5) umgeben.

    9.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE102008052405A1

    公开(公告)日:2010-04-22

    申请号:DE102008052405

    申请日:2008-10-21

    Abstract: An optoelectronic semiconductor component comprising a semiconductor layer sequence (3) based on a nitride compound semiconductor and containing an n-doped region (4), a p-doped region (8) and an active zone (5) arranged between the n-doped region (4) and the p-doped region (8) is specified. The p-doped region (8) comprises a p-type contact layer (7) composed of InxAlyGa1-x-yN where 0≦̸x≦̸1, 0≦̸y≦̸1 and x+y≦̸1. The p-type contact layer (7) adjoins a connection layer (9) composed of a metal, a metal alloy or a transparent conductive oxide, wherein the p-type contact layer (7) has first domains (1) having a Ga-face orientation and second domains (2) having an N-face orientation at an interface with the connection layer (9).

    10.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE102008035110A1

    公开(公告)日:2010-02-11

    申请号:DE102008035110

    申请日:2008-07-28

    Abstract: A description is given of an optoelectronic semiconductor chip (1) comprising a semiconductor layer sequence (2), which has an active zone (4) for generating electromagnetic radiation, and comprising a structured current spreading layer (6), which contains a transparent conductive oxide and is arranged on a main area (12) of the semiconductor layer sequence (2), wherein the current spreading layer (6) covers at least 30% and at most 60% of the main area (12).

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