公开(公告)号：FR2959866A1

公开(公告)日：2011-11-11

申请号：FR1053527

申请日：2010-05-06

Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2 ,  ST MICROELECTRONICS SA

Inventor： GUYADER FRANCOIS ,  SANCHEZ YANNICK ,  HOTELLIER NICOLAS ,  BERGER THIERRY

IPC: H01L21/768 ,  H01L23/48

Abstract: Lors de la gravure de l'oxyde de champ (RIS) de façon à prolonger l'orifice (OR) de la future liaison traversante (TSV) jusqu'au niveau de métal (M1), on protège au moins une partie de cet oxyde de champ avec une résine (MP) qui peut être sacrificielle ou non.

公开(公告)号：FR2970117B1

公开(公告)日：2013-09-20

申请号：FR1061329

申请日：2010-12-29

Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2

Inventor： SANCHEZ YANNICK ,  FOUREL MICKAEL ,  INARD ALAIN

IPC: H01L21/60 ,  G06K19/077

公开(公告)号：FR2970117A1

公开(公告)日：2012-07-06

申请号：FR1061329

申请日：2010-12-29

Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2

Inventor： SANCHEZ YANNICK ,  FOUREL MICKAEL ,  INARD ALAIN

IPC: H01L21/60 ,  G06K19/077

Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'une puce (1) de circuit intégré comprenant, du côté de sa face arrière, des plages métalliques (3, 7) destinées à assurer des connexions vers l'extérieur, ce procédé comportant les étapes suivantes : a) former lesdites plages par dépôt électrolytique localisé de cuivre (33) ; et b) revêtir au moins certaines (3, 7) desdites plages, par dépôt électrolytique localisé, d'une couche (51) en un métal non oxydable du groupe comprenant le nickel, les alliages à base d'étain et d'argent, et l'or.

公开(公告)号：FR2902236B1

公开(公告)日：2008-12-05

申请号：FR0652068

申请日：2006-06-08

Applicant: ST MICROELECTRONICS SA

Inventor： HOTELLIER NICOLAS ,  FELLOUS CYRIL ,  COWACHE CHRISTOPHE ,  SANCHEZ YANNICK

IPC: H01L27/146

Abstract: A microelectronic device includes a color filter equipped with a plurality of filtering elements, including several filtering elements. The device includes at least one first zone located inside a cavity and includes a first group of filtering elements having a first critical dimension, and at least one second zone at the periphery of the cavity, including a second group of filtering elements having a second critical dimension that is different from the first critical dimension.

公开(公告)号：FR2910715B1

公开(公告)日：2009-06-26

申请号：FR0655813

申请日：2006-12-21

Applicant: ST MICROELECTRONICS SA

Inventor： SANCHEZ YANNICK ,  HOTELLIER NICOLAS ,  INARD ALAIN

IPC: H01L31/18 ,  G02B3/00 ,  H01L27/146 ,  H01L31/0232

公开(公告)号：FR2910715A1

公开(公告)日：2008-06-27

申请号：FR0655813

申请日：2006-12-21

Applicant: ST MICROELECTRONICS SA

Inventor： SANCHEZ YANNICK ,  HOTELLIER NICOLAS ,  INARD ALAIN

IPC: H01L31/18 ,  G02B3/00 ,  H01L27/146 ,  H01L31/0232

Abstract: Procédé et appareillage pour réaliser des micro-lentilles optiques (5) sur une couche antérieure (3) d'un dispositif semi-conducteur, dans lequel on dépose une ultime couche en un matériau adapté ; on réalise des rainures croisées dans ladite couche ultime, jusqu'à ladite couche antérieure, de façon à constituer des plots espacés ; et on effectue un traitement de façon à provoquer un ramollissement desdits plots générant un fluage de ces derniers leur conférant une forme bombée et on provoque leur durcissement, dans lesquels, pour effectuer ledit traitement, on place le dispositif semi-conducteur dans la chambre d'une enceinte, à une température basse ; et on fait fonctionner des moyens de chauffage de ladite chambre, des moyens pour générer un rayonnement ultra-violet vers lesdits plots et des moyens pour générer dans ladite chambre un plasma de façon que, lors dudit fluage et dudit durcissement, les bords voisins desdits plots ne fusionnent pas.Dispositif semi-conducteur à micro-lentilles optiques comprenant des moyens anti-fusion (7) de ces micro-lentilles.

公开(公告)号：FR2902236A1

公开(公告)日：2007-12-14

申请号：FR0652068

申请日：2006-06-08

Applicant: ST MICROELECTRONICS SA

Inventor： HOTELLIER NICOLAS ,  FELLOUS CYRIL ,  COWACHE CHRISTOPHE ,  SANCHEZ YANNICK

IPC: H01L27/146

Abstract: L'invention concerne un dispositif microélectronique comprenant un dispositif de filtre de couleurs doté d'une pluralité d'éléments de filtrage dont plusieurs éléments de filtrage aptes respectivement à filtrer une première gamme de longueurs d'ondes du spectre lumineux visible, plusieurs éléments de filtrage aptes respectivement à filtrer une deuxième gamme de longueurs d'ondes du spectre lumineux visible, plusieurs éléments de filtrage aptes respectivement à filtrer une troisième gamme de longueurs d'ondes du spectre lumineux visible, le dispositif comprenant au moins une première zone située dans une cavité (150) et comportant un premier groupement d'éléments de filtrage ayant une première dimension critique (dc1), et au moins une deuxième zone en périphérie de ladite cavité (150), comportant un deuxième groupement d'éléments de filtrage ayant une deuxième dimension critique (dc2), différente de la première dimension critique. L'invention concerne également un procédé de réalisation en couches minces d'un tel dispositif.