PROCEDE DE CONNEXION ELECTRIQUE ENTRE DES ELEMENTS D'UNE STRUCTURE INTEGREE TRIDIMENSIONNELLE, ET DISPOSITIF CORRESPONDANT

    公开(公告)号:FR2976720A1

    公开(公告)日:2012-12-21

    申请号:FR1155193

    申请日:2011-06-15

    Abstract: Dispositif de liaison pour structure intégrée tridimensionnelle, comprenant au moins un module (MD) ayant une première face d'extrémité (FAX1) destinée à être en regard d'un premier élément de la structure et une deuxième face d'extrémité (FAX2) destinée à être placée en regard d'un deuxième élément de la structure, les deux faces d'extrémité étant sensiblement parallèles et le module comportant au moins un substrat (SB1, SB2, SB3) ayant une face (FS1, FS2, FS3) sensiblement perpendiculaire auxdites deux faces d'extrémité et supportant un motif électriquement conducteur formé dans au moins un niveau de métallisation au dessus de ladite face et enrobé dans une région isolante, ledit motif électriquement conducteur (MTF1, MTF2, MTF3) comportant au moins une première partie d'extrémité débouchant sur la première face d'extrémité et au moins une deuxième partie d'extrémité débouchant sur la deuxième face d'extrémité et reliée à ladite première partie d'extrémité.

    LIGNE DE TRANSMISSION POUR CIRCUITS ELECTRONIQUES

    公开(公告)号:FR2966982A1

    公开(公告)日:2012-05-04

    申请号:FR1058826

    申请日:2010-10-27

    Abstract: L'invention concerne une ligne de transmission formée dans un dispositif comprenant un empilement de première (C1) et seconde (C2) puces accolées par leurs faces avant et dans lequel une couche (29) en un matériau de remplissage sépare la face avant de la première puce de la face avant de la seconde puce, cette ligne comprenant : un ruban conducteur (8) formé du côté de la face avant de la première puce dans au moins un niveau de métallisation de la première puce ; et un plan de masse (7) en un matériau conducteur formé du côté de la face avant de la seconde puce dans au moins un niveau de métallisation de la seconde puce.

    STRUCTURE D'INTERCONNEXION ELECTRIQUE POUR CIRCUITS INTEGRES, ET PROCEDE DE FABRICATION CORRESPONDANT

    公开(公告)号:FR2976402A1

    公开(公告)日:2012-12-14

    申请号:FR1154916

    申请日:2011-06-07

    Abstract: Structure d'interconnexion électrique pour circuit intégré, comprenant au moins un substrat (1) ayant des première et deuxième faces (10, 11) opposées et comprenant au moins : - une cavité (2) ouverte vers ladite première face (10) définissant au moins une première région (12) située sous la cavité (2) et une deuxième région (13) d'épaisseur (E2) supérieure à celle (E1) de la première région (12) ; - une liaison électrique d'un premier type (3) traversant l'épaisseur (E1) de la première région (12) et débouchant sur la deuxième face (11) du substrat (1) ; et - une liaison électrique d'un deuxième type (4) s'étendant le long de la surface interne de la cavité (2), et reliant la liaison électrique du premier type (3) à la deuxième région (13) au niveau d'une zone d'accueil (130) d'au moins un circuit intégré (5) située sur la première face (10) du substrat (1).

    EMETTEUR-RECEPTEUR INTEGRE EN ONDES MILLIMETRIQUES

    公开(公告)号:FR2969398A1

    公开(公告)日:2012-06-22

    申请号:FR1060851

    申请日:2010-12-20

    Abstract: L'invention concerne un émetteur/récepteur à ondes millimétriques comprenant une plaque formant interposeur (3) dont la face supérieure porte un réseau d'interconnexions (4) et dont la face inférieure est destinée à être montée sur une carte de circuit imprimé (25) par des billes (21) ; une puce de circuit intégré (1) montée sur la face supérieure de l interposeur ; des antennes (30) constituées de pistes formées sur la face supérieure de l'interposeur ; et des réflecteurs (32) sur la face supérieure de la carte de circuit imprimé en regard de chacune des antennes, la distance effective entre chaque antenne et la plaque de réflecteur étant de l'ordre du quart de la longueur d'onde (λ/4), en tenant compte des constantes diélectriques des matériaux interposés.

    CIRCUIT INTEGRE PROTEGE CONTRE LES RAYONNEMENTS HF

    公开(公告)号:FR2968456A1

    公开(公告)日:2012-06-08

    申请号:FR1060193

    申请日:2010-12-07

    Abstract: L'invention concerne un circuit intégré protégé contre les rayonnements HF comprenant une puce de circuit intégré (11) dont une première face comprend un réseau de métallisation (12) ; un cadre isolant (14) solidaire de la puce et de même épaisseur que celle-ci ; une couche métallique (16) revêtant l'ensemble de la puce et du cadre du côté de la deuxième face de la puce ; et des vias conducteurs (17) régulièrement répartis connectant la couche métallique (16) à des plots conducteurs (22) formés à la périphérie du cadre, du côté de la première face.

    DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR COMPRENANT UN CONDENSATEUR ET UN VIA DE CONNEXION ÉLECTRIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION

    公开(公告)号:FR2968129A1

    公开(公告)日:2012-06-01

    申请号:FR1059917

    申请日:2010-11-30

    Abstract: Dispositif semi-conducteur et procédé pour sa fabrication, dans lesquels une plaquette diélectrique (17) est munie, au-dessus d'une face avant (10a), d'un moyen de connexion électrique avant (13) comprenant une portion de connexion électrique (14) parallèle à cette face avant, un trou borgne (21) traversant la plaquette et découvrant au moins partiellement une face arrière de la portion de connexion électrique (14) étant aménagé. Un condensateur traversant (30) est formé dans le trou borgne (21) et comprend une couche conductrice (24) couvrant la paroi latérale et la portion de connexion électrique (14) et formant une électrode externe (32), une couche intermédiaire diélectrique (27) couvrant la couche conductrice ci-dessus (24) et formant une membrane diélectrique (33), et un matériau conducteur de remplissage (28a, 29a), remplissant au moins partiellement la couche intermédiaire diélectrique (27) et formant une électrode interne (34). Un moyen de connexion électrique arrière (35) est relié à l'électrode interne (34).

    PROCEDE DE FABRICATION DE RESONATEURS BAW SUR UNE TRANCHE SEMICONDUCTRICE

    公开(公告)号:FR2951026A1

    公开(公告)日:2011-04-08

    申请号:FR0956868

    申请日:2009-10-01

    Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'une tranche sur laquelle sont formés des résonateurs (11), chaque résonateur comportant, au dessus d'un substrat semiconducteur (3), un empilement de couches comprenant, dans l'ordre à partir de la surface du substrat : un miroir de Bragg (7) ; une couche de compensation (13) en un matériau ayant un coefficient de température de la vitesse acoustique de signe opposé à celui de l'ensemble des autres couches de l'empilement ; et un résonateur piézoélectrique (5), ce procédé comportant les étapes successives suivantes : a) déposer la couche de compensation (13) ; et b) réduire les inégalités d'épaisseur de la couche de compensation liées au procédé de dépôt, de sorte que cette couche présente une même épaisseur à mieux que 2 % près, et de préférence à mieux que 1 % près, au niveau de chaque résonateur BAW.

    PROCEDE DE FABRICATION DE RESONATEUR BAW A FACTEUR DE QUALITE ELEVE

    公开(公告)号:FR2951024A1

    公开(公告)日:2011-04-08

    申请号:FR0956858

    申请日:2009-10-01

    Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'une tranche sur laquelle sont formés des résonateurs BAW (31), chaque résonateur comportant : au dessus d'un substrat (3), un résonateur piézoélectrique (5), et à côté du résonateur piézoélectrique, un plot de contact relié à une électrode du résonateur piézoélectrique ; et entre le résonateur piézoélectrique et le substrat, un miroir de Bragg (37), comportant au moins une couche conductrice (37b) s'étendant entre ledit au moins un plot et le substrat (3), et au moins une couche d'oxyde de silicium (37a) s'étendant entre le plot et le substrat, ce procédé comportant les étapes suivantes : déposer la couche d'oxyde de silicium (37a) ; et réduire les inégalités d'épaisseur de cette couche (37a) liées au procédé de dépôt, de sorte qu' elle présente une même épaisseur à mieux que 2 % près, et de préférence à mieux que 1 % près, au niveau de chaque plot.

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