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公开(公告)号：CN108291045B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201680070019.0
申请日：2016-11-04
Applicant: 积水化学工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
Abstract: 本发明提供一种改善油墨烧结所得的薄膜的密合性和涂布印刷性的氟类树脂膜。向电极21、11间的大气压附近的处理空间1a内通过氟类树脂膜9。将包含非活性气体的工艺气体供给至所述处理空间1a，将电压施加至所述电极间，在所述处理空间1a内产生放电；加热所述被处理面9a，使其比连续使用温度低100℃的温度以上且在所述连续使用温度以下。所述处理空间1a的氧气的体积浓度为1000ppm以下。
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公开(公告)号：CN110382045A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880016412.0
申请日：2018-08-31
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种容易且可靠地以无色活性气体喷射被喷射物的活性气体喷射装置。活性气体喷射装置(100)，其具备等离子体发生部(12)，喷嘴(1)，其喷出由所述等离子体发生部(12)发生的等离子体活化了的活性气体，以及光源部(50)，其朝向所述喷嘴前端的前方的任意位置发出光。所述活性气体喷射装置优选进一步具备控制部，所述控制部使所述等离子发生部的等离子体发生和所述光源部的发光同步。
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公开(公告)号：CN1938835B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200580009831.4
申请日：2005-03-25
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/318 , H01L21/31
CPC classification number: H01J37/32009 , C23C8/24 , C23C8/28 , C23C8/36 , H01J37/32532 , H01L21/02249 , H01L21/3145 , H01L21/3185
Abstract: 均匀氧氮化物和氮化物膜可通过不依赖于的氮化时间或氮化温度的低温和高速氮化反应而形成。将固体电介质在300(托)或更高的压强下提供在相互相对的一对电极的至少一个相对表面上，将包含等于或低于0.2％的氧化物的氮气引入所述一对相对电极之间的空间，将电场施加到氮气上，并将所得N2(第二p.s.)或N2(H.I.R)活性物质与待加工的物体加成，在待加工的物体的表面上形成氧氮化物膜/氮化物膜。
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公开(公告)号：CN110402115A
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201880018071.0
申请日：2018-06-15
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明设计一种医疗用治疗器具100，其产生等离子体，并从喷射口喷射通过产生的等离子体所生成的活性气体，其中，所述活性气体在位于从所述喷射口起1mm以上且10mm以下的距离处的被喷射面的温度为40℃以下，通过下述羟基自由基浓度的测定方法所求出的自由基浓度为0.1～300μmol/L。自由基浓度以下述方式求出。将从喷射口至液面的距离设为5.0mm，对0.4mL的DMPO(5,5-二甲基-1-吡咯啉-N-氧化物)0.2mol/L溶液喷射活性气体30秒钟，然后，对经过活性气体喷射后的所述溶液，通过电子自旋共振(ESR)法测定羟基自由基浓度，并将其作为自由基浓度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102362225A
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN201080012819.X
申请日：2010-03-25
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: G03F7/00 , G03F7/16 , G03F1/48 , H01L21/027
Abstract: 本发明是提供一种抗蚀剂图案的形成方法及设备。当在光致抗蚀剂等设备上形成抗蚀剂图案时，通过均匀化抗蚀剂层的厚度后进行曝光，从而得到良好的抗蚀剂图案。对基板(91)涂敷感光性的抗蚀剂而形成抗蚀剂层(93)(抗蚀剂涂敷工序)。然后，使灰化用处理气体通过压力接近大气压的放电空间(13)而喷出，并与抗蚀剂层(93)接触(大气压远程等离子灰化工序)。接着，对抗蚀剂层(93)局部地照射光(曝光工序)。然后，使抗蚀剂层(93)接触显影液(5)(显影工序)。
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公开(公告)号：CN102362224A
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN201080012795.8
申请日：2010-03-25
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: G03F7/00 , G03F7/16 , G03F1/48 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂图案的形成方法及设备。当在光致抗蚀剂等设备上形成抗蚀剂图案时，会提高抗蚀剂表面的湿润性，提高显影的均匀性。在基板(91)上涂敷感光性的抗蚀剂而形成抗蚀剂层(93)(抗蚀剂涂敷工序)。接着，对抗蚀剂层(93)局部地照射光(曝光工序)。然后，使亲液化用处理气体通过压力接近大气压的放电空间(23)而喷出，并与抗蚀剂层(93)接触(大气压远程等离子亲液化工序)。接着，使抗蚀剂层(93)接触显影液(5)(显影工序)。
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公开(公告)号：CN100553400C
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200480019798.9
申请日：2004-05-13
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , H01L21/3065 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32357 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 本发明提供一种制造等离子处理设备的方法，包括步骤：进行用于测量所述绝缘件和所述传导件之间的火花电压的实验；根据其中火花在比平均值低的水平出现的测量数据，获得所述火花电压相对于隔离距离，即形成于所述绝缘件和所述传导件之间的间隙的厚度的关系；设置所述绝缘件的介电常数和厚度，以使在所述绝缘件和所述传导件之间形成的间隙的厚度的变化可以被预想到的范围中，施加在所述绝缘件和所述传导件之间的电压变为小于基于所述测量数据的所述火花电压。
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公开(公告)号：CN101233602A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200680027937.1
申请日：2006-08-03
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/205 , C23C16/34 , C23C16/509
CPC classification number: C23C16/509 , C23C16/303 , C23C16/52 , C30B25/105 , C30B29/403 , H01L21/0237 , H01L21/0242 , H01L21/0254 , H01L21/0262
Abstract: 通过使用常压等离子体形成第III族氮化物如GaN的薄膜。将反应室(12)充满在约40kPa的接近常压下的纯氮。将c－面蓝宝石衬底(90)置于电极(14)上。通过加热器(15)使衬底温度达到650℃。在电极(13，14)之间施加电场以形成放电空间(11a)。在气体进料系统(20)中，将少量三甲基镓加到N2中，将生成物进料到放电空间(11a)中并且使其与蓝宝石衬底(90)接触。使衬底(90)上的V/III比率处于10－100,000的范围内。
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公开(公告)号：CN308257741S
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202130566053.0
申请日：2021-08-30
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：等离子治疗仪的主体。
2.本外观设计产品的用途：产品的整体用于牙科治疗，产品的局部用于治疗仪的主体。
3.本外观设计产品的设计要点：在于主体部的形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图１。
5.其他需要说明的情形其他说明：图中的虚线部分是不请求保护的内容。
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