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公开(公告)号:CN108291045B
公开(公告)日:2020-07-28
申请号:CN201680070019.0
申请日:2016-11-04
Applicant: 积水化学工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
Abstract: 本发明提供一种改善油墨烧结所得的薄膜的密合性和涂布印刷性的氟类树脂膜。向电极21、11间的大气压附近的处理空间1a内通过氟类树脂膜9。将包含非活性气体的工艺气体供给至所述处理空间1a,将电压施加至所述电极间,在所述处理空间1a内产生放电;加热所述被处理面9a,使其比连续使用温度低100℃的温度以上且在所述连续使用温度以下。所述处理空间1a的氧气的体积浓度为1000ppm以下。
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公开(公告)号:CN108291045A
公开(公告)日:2018-07-17
申请号:CN201680070019.0
申请日:2016-11-04
Applicant: 积水化学工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
Abstract: 本发明提供一种改善油墨烧结所得的薄膜的密合性和涂布印刷性的氟类树脂膜。向电极21、11间的大气压附近的处理空间1a内通过氟类树脂膜9。将包含非活性气体的工艺气体供给至所述处理空间1a,将电压施加至所述电极间,在所述处理空间1a内产生放电;加热所述被处理面9a,使其比连续使用温度低100℃的温度以上且在所述连续使用温度以下。所述处理空间1a的氧气的体积浓度为1000ppm以下。
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公开(公告)号:CN1826843A
公开(公告)日:2006-08-30
申请号:CN200480020800.4
申请日:2004-07-22
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , H01L21/3065 , H01L21/31
Abstract: 为了解决电极的库仑力所导致的弯曲量并在用于具有较大区域的工件的等离子处理装置中获得均匀的表面处理。本发明提供的等离子处理装置的电极结构(30X)包括左右延伸的一对电极排(31X、32X)并在前后方向上彼此相对。各电极排包括侧向以并排关系安置的多个电极部件(31A-32C)。侧向安置在基本相同的位置中的两个电极排的电极部件具有相反的极性并在其间形成排间部分间隙(33p)。彼此相邻的电极部件设置成具有彼此相反的极性。
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公开(公告)号:CN1823554A
公开(公告)日:2006-08-23
申请号:CN200480019798.9
申请日:2004-05-13
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , H01L21/3065 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32357 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 一种等离子处理设备,通过绝缘件(41)设置在朝向具有传导件(51)的电极(31、32)的工件W的侧面上。绝缘件(41)夹在电极(31、32)和传导件(51)之间。绝缘件(41)的介电常数和厚度设置为以便施加到绝缘件(41)和传导件(51)之间形成的间隙(40b)的电压变为小于火花电压。由于此设置,可以防止在间隙(40b)中出现放电,因此,可以提高处理质量。
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公开(公告)号:CN110402115B
公开(公告)日:2023-05-23
申请号:CN201880018071.0
申请日:2018-06-15
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明设计一种医疗用治疗器具100,其产生等离子体,并从喷射口喷射通过产生的等离子体所生成的活性气体,其中,所述活性气体在位于从所述喷射口起1mm以上且10mm以下的距离处的被喷射面的温度为40℃以下,通过下述羟基自由基浓度的测定方法所求出的自由基浓度为0.1~300μmol/L。自由基浓度以下述方式求出。将从喷射口至液面的距离设为5.0mm,对0.4mL的DMPO(5,5‑二甲基‑1‑吡咯啉‑N‑氧化物)0.2mol/L溶液喷射活性气体30秒钟,然后,对经过活性气体喷射后的所述溶液,通过电子自旋共振(ESR)法测定羟基自由基浓度,并将其作为自由基浓度。
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公开(公告)号:CN100589229C
公开(公告)日:2010-02-10
申请号:CN200680027937.1
申请日:2006-08-03
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/205 , C23C16/34 , C23C16/509
CPC classification number: C23C16/509 , C23C16/303 , C23C16/52 , C30B25/105 , C30B29/403 , H01L21/0237 , H01L21/0242 , H01L21/0254 , H01L21/0262
Abstract: [问题]通过使用常压等离子体形成第III族氮化物如GaN的薄膜。[解决问题的手段]将反应室(12)充满在约40kPa的接近常压下的纯氮。将c-面蓝宝石衬底(90)置于电极(14)上。通过加热器(15)使衬底温度达到650℃。在电极(13,14)之间施加电场以形成放电空间(11a)。在气体进料系统(20)中,将少量三甲基镓加到N2中,将生成物进料到放电空间(11a)中并且使其与蓝宝石衬底(90)接触。使衬底(90)上的V/III比率处于10-100,000的范围内。
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公开(公告)号:CN1938835A
公开(公告)日:2007-03-28
申请号:CN200580009831.4
申请日:2005-03-25
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/318 , H01L21/31
CPC classification number: H01J37/32009 , C23C8/24 , C23C8/28 , C23C8/36 , H01J37/32532 , H01L21/02249 , H01L21/3145 , H01L21/3185
Abstract: 均匀氧氮化物和氮化物膜可通过不依赖于的氮化时间或氮化温度的低温和高速氮化反应而形成。将固体电介质在300(托)或更高的压力下提供在相互相对的一对电极的至少一个相对表面上,将包含等于或低于0.2%的氧化物的氮气引入所述一对相对电极之间的空间,将电场施加到氮气上,并将所得N2(第二p.s.)或N2(H.I.R)活性物质与待加工的物体加成,在待加工的物体的表面上形成氧氮化物膜/氮化物膜。
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公开(公告)号:CN110662577A
公开(公告)日:2020-01-07
申请号:CN201880031730.4
申请日:2018-06-15
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种活性气体喷射装置,其具备仪器(10),所述仪器(10)具备等离子体产生部(12)和将由等离子体活化而得的活性气体喷出的喷射口(1a),所述装置中,所述等离子体产生部(12)具备:导入产生等离子体的气体的管状电介质(3);设置在所述管状电介质(3)的内部,沿着所述管状电介质(3)的管轴(O1)方向延伸的内部电极(4);以及,设置在所述管状电介质(3)的外侧,与所述内部电极(4)对置的外部电极(5),所述内部电极(4)具备:沿着所述管轴方向延伸的轴部;和形成在所述轴部的外周表面上的螺旋状的凸条。
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公开(公告)号:CN101296549B
公开(公告)日:2012-07-11
申请号:CN200810094984.9
申请日:2004-05-13
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32357 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 本发明公开了一种等离子处理设备,包括:由用于形成等离子化空间的一对电极组成的电极结构;设置成以遮蔽所述电极结构的朝向所述物体的侧面的电接地的传导件;以及介于所述电极结构和所述传导件之间并设置成以使其彼此绝缘的绝缘装置,所述绝缘装置分成包括用于形成连接到所述等离子化空间的下游的处理气体引出路径的表面的第一绝缘部分,以及分离设置在所述第一绝缘部分的所述引出路径侧的相反侧上并彼此分离的第二绝缘部分。
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公开(公告)号:CN101296549A
公开(公告)日:2008-10-29
申请号:CN200810094984.9
申请日:2004-05-13
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32357 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 本发明涉及等离子处理设备及其制作方法,其中传导元件51相对电极结构30设置在与物体W相对的边上。传导元件51电接地。绝缘装置45插在电极结构30和传导元件51之间。绝缘装置45分为第一绝缘部分41和第二绝缘部分42。第一绝缘部分41形成与电极之间的所述等离子化空间30a的下游相连的引出路径40a,第二绝缘部分42相对第一绝缘部分41被分离设置在与引出路径40a相对的边上,第一和第二绝缘部分41、42可彼此分离,如果第一绝缘部分41被损坏,只简单的对第一绝缘部分41进行更换,而没有必要更换整个绝缘装置45,只有第一绝缘部分41由等离子电阻高于第二绝缘部分42的材料构成,其结果是可大大降低材料成本。
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