干燥铜箔的方法和铜箔干燥设备

    公开(公告)号:CN1242504A

    公开(公告)日:2000-01-26

    申请号:CN99110487.0

    申请日:1999-07-16

    Abstract: 公开了一种用来对经过多种表面处理的铜箔进行干燥的方法,所述方法包括用近红外线照射铜箔的至少一个经表面处理的面来干燥铜箔,还公开了一种适用于该方法的设备。经过多种表面处理的铜箔的干燥可用简单的设备以较低电功率来完成,同时可控制对铜箔表面的加热使干燥温度保持在100℃或更高,在该温度条件下在铜箔表面上发生防锈金属和铜箔的低共熔合金化,如锌—铜合金化(形成黄铜)。

    薄膜电路的接合结构
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100417993C

    公开(公告)日:2008-09-10

    申请号:CN200580000295.1

    申请日:2005-03-22

    Abstract: 本发明的课题是提供具备透明电极层和Al合金电极层的薄膜电路中即使不具备所谓的覆盖层,也能够实现透明电极层和Al合金电极层的直接接合的接合结构。本发明的具备透明电极层和与该透明电极层直接接合的Al合金电极层的液晶显示元件的接合结构的特征是,Al合金电极层中分散了具有-1.2V~-0.6V的范围内的氧化还原电位的析出物。

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