公开(公告)号：CN102760649B

公开(公告)日：2017-07-11

申请号：CN201210239469.1

申请日：2012-04-23

Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司

Inventor： F·佩雷斯-维拉德

IPC: H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3178 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/31744

Abstract: 一种处理系统包括：围绕在聚焦透镜和相互作用区域之间的束通道环形延伸的环形管道，特别是以圆环形的形式延伸；其中环形管道在面向相互作用区域的侧部上包括朝向相互作用区域的多个用于气体的出口；并且其中环形管道包括保持器装置，其配置成绕着枢轴枢转环形管道，其中该枢轴平行于物体保持器的倾斜轴。

公开(公告)号：CN105874556A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201480071827.X

申请日：2014-11-14

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： W.H.乌尔巴努斯 ,  M.J-J.维兰德

IPC: H01J37/065 ,  H01J37/317 ,  H01J37/12

CPC classification number: G21K1/02 ,  G21K5/04 ,  H01J37/026 ,  H01J37/065 ,  H01J37/12 ,  H01J37/16 ,  H01J37/24 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3175 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/0216 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/04 ,  H01J2237/1215 ,  H01J2237/16 ,  H01J2237/1825 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/30472

Abstract: 本发明涉及一种电极堆叠(70)，其包括用于操纵沿着光轴(A)的带电粒子束的堆叠的电极(71?80)。每个电极包括电极主体，该电极主体具有用于所述带电粒子束的孔。电极主体相互间隔开并且电极孔沿着光轴同轴地对准。电极堆叠包括介于每一对相邻的电极之间的电绝缘间隔结构(89)，电绝缘间隔结构(89)用于沿着轴向方向(Z)以预定相互距离来定位电极(71?80)。第一电极和第二电极各自包括具有一个或多个支撑部分(86)的电极主体，其中每个支撑部分被配置为容纳至少一个间隔结构(89)。电极堆叠具有至少一个夹紧构件(91?91c)，夹紧构件(91?91c)被配置为将第一电极和第二电极的支撑部分(86)以及中间间隔结构(89)保持在一起。

公开(公告)号：CN105023822A

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201510148755.0

申请日：2015-03-31

Applicant: 斯伊恩股份有限公司

Inventor： 黑濑猛 ,  井门德安 ,  狩谷宏行

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/304 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/24514 ,  H01J2237/30455 ,  H01J2237/30488 ,  H01J2237/31703

Abstract: 本发明提供一种控制离子照射量分布及每单位时间的离子照射量这二者的技术。离子注入装置(10)具备：射束扫描器(26)；射束测量部，能够测定晶片位置上的射束扫描方向的离子照射量分布；及控制部(60)，将用于往复扫描离子束的控制波形输出到射束扫描器(26)。控制部(60)包括：输出部，将基准控制波形输出到射束扫描器(26)；获取部，从射束测量部(50)获取对根据基准控制波形进行往复扫描的离子束而测定出的离子照射量分布；及生成部，利用所获取的离子照射量分布生成补正控制波形。控制部(60)输出被调整为离子照射量分布为目标分布且每单位时间的离子照射量分布为目标值的补正控制波形。

公开(公告)号：CN104810231A

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：CN201410808396.2

申请日：2014-12-22

Applicant: 斯伊恩股份有限公司

Inventor： 大浦正英 ,  今井大辅 ,  二宫史郎

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/3002 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/18 ,  H01J2237/304 ,  H01J2237/30472 ,  H01J37/3007 ,  H01J2237/04 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/31701

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置以及离子注入装置的控制方法，其课题在于提供一种保护电源以避免因负载电流的产生而产生的过电流的技术。在本发明的离子注入装置(10)中，切断机构在射束线的中途切断离子束(B)。等离子体淋浴装置(40)设置于比切断机构更靠射束线的下游侧。控制部(60)在等离子体淋浴装置(40)的点火开始期间，使切断机构切断离子束(B)。切断机构可以设置于比高电压电场式电极部更靠射束线的上游侧，所述高电压电场式电极部至少设置一个以上。气体供给机构可以向等离子体淋浴装置(40)供给源气体。控制部(60)可以在使切断机构切断离子束(B)之后，使气体供给机构开始供给源气体。

公开(公告)号：CN103620695A

公开(公告)日：2014-03-05

申请号：CN201280030590.1

申请日：2012-06-27

Applicant: 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司

Inventor： 汉斯·罗西 ,  托妮·瓦贝尔

IPC: G21K5/02

CPC classification number: H01J37/3002 ,  G21K5/02

Abstract: 为了改善电子束装置的性能，阴极壳体（112）的端部设置有圆顶形帽（118）。

公开(公告)号：CN101896980A

公开(公告)日：2010-11-24

申请号：CN200880116751.2

申请日：2008-09-26

Applicant: 离子束应用股份有限公司

Inventor： M·阿布斯 ,  S·扎雷姆巴 ,  W·克里文

IPC: G21K1/08 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  H05G2/00 ,  A61L2/00 ,  A61L2/08 ,  A61N5/10 ,  G01V5/00

CPC classification number: H01J37/10 ,  A61L2/087 ,  A61L2202/122 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087 ,  G21K1/08 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  H01J37/147 ,  H01J37/1474 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3005 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3045 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/103 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/2602 ,  H01J2237/30 ,  H01J2237/31701 ,  H05G2/00

Abstract: 本发明涉及一种用于传输带电粒子束的设备(10)。该设备包括：用于在靶(3)上扫描带电粒子束的装置(12)、被布置在用于扫描的装置上游的偶极磁体(15)、布置在偶极磁体与用于扫描的装置之间的至少三个四极透镜(17)和用于根据带电粒子束的扫描角来调整所述至少三个四极透镜的场强度的装置。可以使所述设备至少单消色差。

公开(公告)号：CN1473349A

公开(公告)日：2004-02-04

申请号：CN01818500.2

申请日：2001-08-17

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： V·M·本维尼斯特 ,  M·A·格拉夫 ,  E·R·哈林顿 ,  R·D·拉斯梅尔

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/02 ,  H01J37/30

CPC classification number: H01J37/026 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/31705

Abstract: 一种用于禁止污染粒子与离子束(16)一起传输的系统包括一个粒子充电系统(12)，用于在离子束通过的区域中对粒子充电。在充电区域的下游处产生一个电场(50)以便促使带电粒子离开离子束(16)的行进方向(18)。

公开(公告)号：CN1158494A

公开(公告)日：1997-09-03

申请号：CN96116703.3

申请日：1996-12-18

Applicant: 易通公司

Inventor： J·G·布莱克 ,  R·贝克 ,  D·奇曼 ,  M·琼斯 ,  L·曼恩 ,  F·辛克莱 ,  D·K·史东

IPC: H01L21/265

CPC classification number: H01J37/3002 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/022

Abstract: 俘获和清除在抽真空的离子注入器内部运动的不纯粒子的方法包括步骤：提供具有不纯粒子容易粘附的表面的粒子收集器；把粒子收集器固定到注入器，使粒子粘附表面处在与在内部区域运动的不纯粒子的流体交流中；在预定时间周期以后，把粒子收集器从注入器中取出。在与粒子收集器结合的离子注入器中，收集器包括不纯粒子容易粘附的表面和固定件，后者把粒子收集器可拆卸地固定到注入器，使粒子粘附表面处在与注入器的抽真空的内部的流体交流中。

公开(公告)号：CN109411321A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201811282216.6

申请日：2018-10-29

Applicant: 中国船舶重工集团公司第七0七研究所

Inventor： 郑林 ,  石慧 ,  王殿良 ,  崔云涛 ,  吴洪文 ,  王得信

IPC: H01J37/30 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/3002 ,  H01J37/3053

Abstract: 本发明涉及一种应用于离子束刻蚀溅射防护的装置和方法，该装置主要包括正面支架上的圆柱形屏蔽筒和底座支架。该装置整体置于真空室舱门内，工件台的正前方，通过底座支架和正面支架可以调节圆柱形屏蔽筒的位置，使之与工件台止推板处于同一水平面。在止推板安装到工件台靶位之后，对止推板进行溅射防护，从而减小了离子束刻蚀过程中由离子溅射引起的刻蚀止推板槽深超差，满足了陀螺仪精度的要求。

公开(公告)号：CN109148249A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201811166539.9

申请日：2018-10-08

Applicant: 江苏英锐半导体有限公司

Inventor： 王昌华

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/30

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/3002

Abstract: 本发明涉及晶圆加工设备附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产离子注入的控制装置，其可以通过提高筒体的盛放腔内的制备气体的控制精度；并且可以提高筒体盛放腔的制备气体的利用率；包括筒体和四组支腿，筒体的内部设置有盛放腔，盛放腔的顶端左侧连通设置有输入孔，盛放腔的顶端中部区域连通设置有输出孔；还包括左挂杆、右挂杆、支撑环、密封环、升降杆、螺纹杆、限位板和调节活塞，升降杆的中下部区域内部设置有伸缩腔；还包括横板、两组支撑架、挤压弹簧、密封塞、充气缸、恢复弹簧、左固定块、右固定块、左挡块、右挡块、动力活塞、推动杆、挑杆、固定杆、限位弹簧和转动杆，筒体的内部设置有工作腔。