公开(公告)号：CN104871286A

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201380067226.7

申请日：2013-12-20

Applicant: 普莱克斯技术有限公司

Inventor： A.K.辛哈 ,  D.C.海德曼 ,  L.A.布朗 ,  S.M.坎珀 ,  R.施 ,  D.卢 ,  邱文斌 ,  高建纲

IPC: H01J37/32 ,  C23C14/34 ,  F17C13/04 ,  H01J37/08 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01L21/265 ,  C01B3/00 ,  C01B23/00 ,  C23C14/34 ,  F17C1/005 ,  F17C2201/0109 ,  F17C2201/0114 ,  F17C2201/035 ,  F17C2201/058 ,  F17C2203/0617 ,  F17C2205/0329 ,  F17C2205/0332 ,  F17C2205/0335 ,  F17C2205/0338 ,  F17C2205/035 ,  F17C2205/0385 ,  F17C2205/0391 ,  F17C2221/03 ,  F17C2223/0123 ,  F17C2225/038 ,  F17C2260/044 ,  F17C2270/0518 ,  F17C2270/0745 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/31701 ,  Y02E60/321 ,  Y02E60/324 ,  Y10T137/2012 ,  F17C13/04 ,  H01J37/08 ,  H01J37/32

Abstract: 提供用于输送含CO的掺杂物气体组合物的供应源。所述组合物包括控制量的稀释剂气体混合物例如氙气和氢气，其各自以控制的体积比率提供以确保最佳的碳离子注入性能。所述组合物可包装为由含CO的供应源和稀释剂混合物供应源组成的掺杂物气体套件。备选地，所述组合物可预先混合并从单一来源引入，所述单一来源可响应沿排流路径所达到的负压条件而启动以允许掺杂物混合物从所述装置的内部体积受控流入离子源设备中。

公开(公告)号：CN104795303A

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201510083714.8

申请日：2010-05-19

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： T.范德皮尤特 ,  M.J-J.维兰德

IPC: H01J37/317 ,  B82Y40/00 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/3026 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70475 ,  G06T1/20 ,  G06T1/60 ,  H01J37/045 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3175 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/3175 ,  H01J2237/31761 ,  H01J2237/31764 ,  H04N1/405

Abstract: 本发明提出一种使用带电粒子光刻机器根据图案数据将晶片曝光的方法，其中该带电粒子光刻机器生成用于将所述晶片曝光的多个带电粒子小束，该方法包括：提供所述图案数据作为向量格式的剂量映射；栅格化所述图案数据，所述栅格化包括渲染向量剂量映射以生成多级灰度数据和将所述多级灰度图案数据递色以生成两级黑/白数据；将所述两级黑/白图案数据供应给所述带电粒子光刻机器；和基于所述两级黑/白数据将所述带电粒子光刻机器生成的小束接通或切断；其中所述方法包括对所述向量剂量映射和/或所述多级灰度数据和/或所述两级黑/白数据作出修正调整，以修正小束位置、尺寸、电流或其他特性的变化。

公开(公告)号：CN104520961A

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201380042202.6

申请日：2013-05-20

Applicant: 焊接研究院

Inventor： C·黎布顿 ,  A·桑德森

IPC: H01J27/16 ,  H01J37/077

CPC classification number: H01J37/077 ,  H01J27/18 ,  H01J37/3002 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/0817 ,  H01J2237/083 ,  H01J2237/31 ,  H01J2237/3104

Abstract: 本发明公开一种用于生成带电粒子束的等离子源装置。该装置包括：等离子室，设有用于气体进入的入口和用于从该等离子室引出带电粒子的孔；射频(RF)等离子生成单元，用于在所述等离子室内部生成等离子，所述射频等离子生成单元包括第一谐振电路和第二谐振电路，每个谐振电路被调谐成在基本相同的谐振频率下谐振，所述第一谐振电路包括第一天线和适于在大体所述第一谐振电路的谐振频率下驱动所述第一谐振电路的第一RF电源，所述第二谐振电路包括第二天线，由此在使用时由于谐振耦合所述第一谐振电路在所述第二天线中感应出RF信号，所述第二谐振电路被配置成向所述等离子室施加感应的RF信号以在所述等离子室内生成等离子；和粒子加速单元，用于从所述等离子中引出带电粒子并使所述带电粒子加速以形成束，所述粒子加速单元包括被配置成在所述等离子室和加速电极之间施加电势的第二电源，所述等离子室和所述加速电极之间的区域构成加速管。所述第二电源适于输出相对于所述第一RF电源输出的电压高的电压。

公开(公告)号：CN104241067A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201410376713.8

申请日：2014-06-09

Applicant: FEI公司

Inventor： A·马丁 ,  M·托思

IPC: H01J37/30 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/3053 ,  C23F4/02 ,  H01J37/3002 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/24445 ,  H01J2237/2608 ,  H01J2237/31732 ,  H01J2237/31749 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/465

Abstract: 公开了一种电子束感应蚀刻。束感应蚀刻使用维持在接近前体材料的沸点的温度处的工件，但是该温度足够高以脱附反应副产物。在一个实施例中，NF3被用作用于在低于室温的温度下进行硅的电子束感应蚀刻的前体气体。

公开(公告)号：CN101896980B

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN200880116751.2

申请日：2008-09-26

Applicant: 离子束应用股份有限公司

Inventor： M·阿布斯 ,  S·扎雷姆巴 ,  W·克里文

IPC: G21K1/08 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  H05G2/00 ,  A61L2/00 ,  A61L2/08 ,  A61N5/10 ,  G01V5/00

CPC classification number: H01J37/10 ,  A61L2/087 ,  A61L2202/122 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087 ,  G21K1/08 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  H01J37/147 ,  H01J37/1474 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3005 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3045 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/103 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/2602 ,  H01J2237/30 ,  H01J2237/31701 ,  H05G2/00

Abstract: 本发明涉及一种用于传输带电粒子束的设备(10)。该设备包括：用于在靶(3)上扫描带电粒子束的装置(12)、被布置在用于扫描的装置上游的偶极磁体(15)、布置在偶极磁体与用于扫描的装置之间的至少三个四极透镜(17)和用于根据带电粒子束的扫描角来调整所述至少三个四极透镜的场强度的装置。可以使所述设备至少单消色差。

公开(公告)号：CN103959919A

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201280058528.3

申请日：2012-09-28

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： M.史密茨 ,  C.F.J.洛德维克

IPC: H05H1/30 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32082 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/32862 ,  H05H1/30 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4667 ,  H05H2001/4675 ,  H05H2001/4682

Abstract: 一种用以产生等离子的装置，该装置包括主等离子源(1)，其布置成产生等离子；中空导引本体(11)，其布置成将由主等离子源产生的等离子的至少一部分导引至副等离子源(25)；以及出口(14)，其用以自该装置发射出至少一部分由该等离子产生的原子基团。

公开(公告)号：CN102782811A

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN201180011189.9

申请日：2011-02-26

Applicant: 高级技术材料公司

Inventor： 罗伯特·凯姆 ,  约瑟夫·D·斯威尼 ,  安东尼·M·阿维拉 ,  理查德·S·雷

IPC: H01L21/265

CPC classification number: H01L21/2225 ,  F17C7/00 ,  H01J37/08 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/304 ,  H01L21/223 ,  H01L21/26506 ,  Y02E60/321 ,  Y10T428/13

Abstract: 一种离子注入系统和方法，其中，通过利用富含同位素的掺杂剂材料，来提高离子注入系统的离子源的性能和寿命，或通过利用具有可有效地提供这种提高的补充气体的掺杂剂材料来实现。

公开(公告)号：CN100468604C

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN01818486.3

申请日：2001-08-21

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： E·R·哈林顿 ,  V·M·本维尼斯特 ,  M·A·格拉夫 ,  R·D·拉斯梅尔

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/02 ,  H01J37/30 ,  H01J3/40

CPC classification number: H01J3/40 ,  H01J37/026 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/31705

Abstract: 一种用于禁止污染粒子与离子束(16)一起传输的系统包括一个电场发生器(12、14)，用于产生相对于离子束(16)的行进路径(20)的电场(28)。位于电场(28)的一个区域内并且位于离子束(16)中的粒子(66)充电至与离子束(16)相匹配的极性，以便使得电场(28)可以推动带电粒子(66)移出离子束(16)。

公开(公告)号：CN1311509C

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN01818276.3

申请日：2001-08-21

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： E·R·哈林顿 ,  V·M·本维尼斯特 ,  M·A·格拉夫 ,  R·D·拉斯梅尔

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/02 ,  H01J37/30 ,  H01J3/40

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J3/40 ,  H01J37/026 ,  H01J37/3002 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/31705

Abstract: 本发明提供一种用于抑制污染物微粒随离子束(44)的传输的系统(10)，所述系统(10)包括：一对电极(14、16)，所述电极(14、16)提供离子束(44)从中行进的相反的电场(26、28、30、32)。当微粒(60)行进过第一电场(26、28)时，离子束(44)中所携带的微粒(60)被带以与离子束(44)极性相匹配的电荷。下游电极(16)提供具有另一个电场(30、32)，以便于排斥带正电荷的微粒(60)远离射束行进方向的下游。

公开(公告)号：CN1182569C

公开(公告)日：2004-12-29

申请号：CN00128376.6

申请日：1996-07-17

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： J·G·布莱克

IPC: H01L21/265 ,  H01J37/317 ,  C30B31/22

CPC classification number: H01J37/3002 ,  H01J2237/0041 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/31701

Abstract: 本发明揭示一种原位除去附在离子束注入机(10)内表面上污物的方法。所述方法包括以下步骤：从源物质放出离子，并使离子形成离子束(14)，所述离子束通过一抽真空区，到达一离子注入室(17)；提供一个控制电子装置(11)，用于控制在所述抽真空区内离子束的轨迹；利用所述控制装置使离子束撞击与抽真空区相联系的所述注入机内表面，以使所述污物脱落；取走所述注入机的抽真空区的污物。