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公开(公告)号：CN112567070B
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN201980052791.3
申请日：2019-08-05
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 尼克·拉伊·小林百格 , 柯蒂斯·W·贝利 , 伊斯瓦·斯里尼瓦桑 , 德文·佩尔基
IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/505
Abstract: 一种用于等离子体室的喷头包括：电阻式加热器，其被配置成接收功率以加热所述等离子体室的所述喷头；和电阻元件，其热接合至所述等离子体室的所述喷头。所述电阻元件响应于所述喷头的温度的改变而改变电阻。所述电阻元件被封装在绝缘材料中以使所述电阻元件与所述喷头电绝缘。所述绝缘材料是良好的热导体。基于所述电阻元件的所述电阻，接收至所述电阻式加热器的所述功率。
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公开(公告)号：CN114514602A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202080067825.9
申请日：2020-09-24
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 阿施施·索拉卜 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟 , 陈欣怡 , 穆克什·达米·辛格 , 特洛伊·戈姆 , 蒂莫西·斯科特·托马斯 , 柯蒂斯·W·贝利
IPC: H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32 , C23C16/458 , C23C16/50
Abstract: 一种用于衬底支撑件的台板的热屏包括本体和吸收‑反射‑传输区域。所述吸收‑反射‑传输区域与所述本体接触，并被配置成进行下列至少一者：影响或调整介于远端基准表面与所述台板之间的热流图案的至少一部分。所述吸收‑反射‑传输区域包括可调式方面以调整所述热流图案的所述至少一部分。
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公开(公告)号：CN119452468A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202380050873.0
申请日：2023-06-28
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 约吉斯·巴巴尔 , 萨姆·贾法里安-德黑兰尼 , 大卫·弗伦奇 , 崎山行则 , 程伟锋 , 基思·约瑟夫·马丁 , 安德鲁·H·布伦宁格 , 柯蒂斯·W·贝利
IPC: H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 一种被配置成抑制(或至少减少)在期望区域之外的寄生等离子体的产生的寄生等离子体抑制器，例如抑制在等离子体增强处理系统的处理室中的基座附近的区域中的寄生等离子体产生。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115698375A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180043441.8
申请日：2021-10-08
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 施瑞拉姆·瓦桑特·巴帕特 , 潘卡杰·甘希亚姆·拉姆纳尼 , 布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯 , 克里斯多夫·马修·琼斯 , 柯蒂斯·W·贝利 , 埃米尔·德拉佩 , 纳格拉杰·尚卡尔
IPC: C23C16/455 , C23C16/509
Abstract: 在一些示例中，无面板喷头包含：包括背板的主体，该主体没有面板或充气室；气体供应杆，其使得气体能进入喷头；以及阻流板，其被支撑在邻近背板或气体供应杆处。无面板喷头还可以包含用于在背板或气体供应杆中的阻流板空腔中支撑阻流板的至少一个支撑元件。
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公开(公告)号：CN115053015A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202180013050.1
申请日：2021-02-04
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 杰弗里·沃马克 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟 , 柯蒂斯·W·贝利 , 基思·约瑟夫·马丁 , 里格尔·马丁·布鲁宁 , 尼克·雷·小莱恩巴格
IPC: C23C16/44 , C23C16/505 , H01J37/32
Abstract: 一种反应器系统包括处理室、气体入口和分配器。分配器耦合到气体入口。分配器控制从管形瓶到气体入口的气流。管形瓶包括涂层材料，涂层材料当在反应系统的操作条件下在处理室内释放时，涂覆处理室的内壁。
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公开(公告)号：CN117660933A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202311341983.0
申请日：2019-08-05
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 尼克·拉伊·小林百格 , 柯蒂斯·W·贝利 , 伊斯瓦·斯里尼瓦桑 , 德文·佩尔基
IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/505 , C23C16/50 , H05B1/02 , H05B3/22
Abstract: 一种用于等离子体室的喷头包括：电阻式加热器，其被配置成接收功率以加热所述等离子体室的所述喷头；和电阻元件，其热接合至所述等离子体室的所述喷头。所述电阻元件响应于所述喷头的温度的改变而改变电阻。所述电阻元件被封装在绝缘材料中以使所述电阻元件与所述喷头电绝缘。所述绝缘材料是良好的热导体。基于所述电阻元件的所述电阻，接收至所述电阻式加热器的所述功率。
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公开(公告)号：CN113383109A
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202080011969.2
申请日：2020-01-23
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: C23C16/455
Abstract: 一种沉积工具包含处理室、用于在处理室内保持待处理衬底的衬底保持器、及具有用于将第一和/或第二气体和/或蒸气分配至处理室中的面板的喷头。喷头包含第一和第二充气部、各设置在面板的背侧后方的第一和第二室、以及都形成为穿过喷头的面板且分别与第一和第二室流体连通的第一和第二组孔。
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公开(公告)号：CN112567070A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201980052791.3
申请日：2019-08-05
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 尼克·拉伊·小林百格 , 柯蒂斯·W·贝利 , 伊斯瓦·斯里尼瓦桑 , 德文·佩尔基
IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/505
Abstract: 一种用于等离子体室的喷头包括：电阻式加热器，其被配置成接收功率以加热所述等离子体室的所述喷头；和电阻元件，其热接合至所述等离子体室的所述喷头。所述电阻元件响应于所述喷头的温度的改变而改变电阻。所述电阻元件被封装在绝缘材料中以使所述电阻元件与所述喷头电绝缘。所述绝缘材料是良好的热导体。基于所述电阻元件的所述电阻，接收至所述电阻式加热器的所述功率。
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