公开(公告)号：KR100937082B1

公开(公告)日：2010-01-15

申请号：KR1020030001573

申请日：2003-01-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 센바노리오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67276 ,  Y10S414/135

Abstract: 레지스트 도포/현상처리 시스템은, 카세트 스테이션과, 처리 스테이션과, 검사 스테이션을 구비한다. 검사 스테이션은, 결함검사 유니트와, 더미검사 유니트와, 바이패스검사 유니트와, 주웨이퍼 반송장치를 가진다. 처리 스테이션에서의 처리를 끝낸 웨이퍼(W)의 무작위추출 검사를 하는 경우에, 결함검사 유니트가 고장났을 때는, 검사용 웨이퍼를 바이패스검사 유니트에 얹어 놓고, 검사용 웨이퍼를 제외한 나머지 웨이퍼를 검사 스테이션에 반송된 순서에 따라서 더미검사 유니트에 얹어 놓고, 처리 스테이션에서 검사 스테이션으로 반입된 순서로 웨이퍼(W)를 검사 스테이션에서 카세트 스테이션으로 반출한다.

公开(公告)号：KR100935291B1

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：KR1020057009171

申请日：2003-11-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67276

Abstract: 반도체 웨이퍼 등의 기판에 레지스트막을 형성하고, 노광장치에서 노광되어 노광후의 기판을 현상하는 도포 현상 장치에 있어서, 노광장치로부터 반출되고 나서 가열 유닛(PEB)으로 가열을 시작할 때까지의 시간을 기판사이에서 조정함과 동시에, 레지스트의 도포 현상을 행하는 영역과 노광장치와의 사이에 개재하는 인터페이스부에서의 노광후 웨이퍼의 체류를 방지하는 것이다. 레지스트의 도포 현상을 행하는 영역에는, 웨이퍼의 처리의 흐름에 있어서의 상류측의 모듈로부터 차례로 하류측의 모듈로 웨이퍼를 1매씩 차례로 뒤로 보내어 하나의 반송 사이클을 실행하고, 계속해서 다음의 반송 사이클로 이행하는 제 1 반송 수단이 설치되고 있다. 가열 유닛(PEB)은 n개 예를 들면 5개 설치되어, 여기에 반입된 노광후 웨이퍼는, 그 때에 제 1 반송 수단이 실행하고 있는 반송 사이클을 포함하여 (n-1) 사이클 후에 제 1 반송 수단에 의해 반출된다.

公开(公告)号：KR100877472B1

公开(公告)日：2009-01-07

申请号：KR1020030003977

申请日：2003-01-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야타아키라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  B05B15/555 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67276

Abstract: 본 발명은, 기판에 대하여 노즐로부터 처리액을 공급함에 따른 처리가, 복수의 기판에 대하여 차례로 이루어지는 기판의 처리방법에 있어서, 처리가 잇달아 이루어지는 동안, 처리액에 대한 목적이 다른 복수의 프리디스펜스가 처리의 중간에 이루어지며, 각 프리디스펜스마다, 적어도 프리디스펜스하고자 하는 처리액의 레시피 또는 프리디스펜스의 개시조건이 정해져 있다. 본 발명에 의하면, 필요충분한 빈도로 프리디스펜스를 할 수 있기 때문에, 프리디스펜스에 의한 기판처리의 중단시간을 단축할 수 있고, 그 결과 스루풋이 향상하여, 프리디스펜스의 횟수를 줄여 처리액의 소비량을 저감할 수 있다.

公开(公告)号：KR100800642B1

公开(公告)日：2008-02-01

申请号：KR1020010078792

申请日：2001-12-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마마사노리 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67276

Abstract: 기판처리시스템은 수개의 처리유닛, 각 유닛에서 처리된 웨이퍼를 반출하고, 또한 각 유닛으로부터 처리되어진 웨이퍼(W)를 반송하는 로드/언로드부와, 상기 로드/언로드부에서 기판을 주고 받음하여 각 유닛에 기판을 순차 반송하는 서브아암기구를 구비한다. 상기 처리유닛 및 서브아암기구는 컨트롤러에 의해 제어되며, 각 유닛은 상기 소요시간 t1 내지 tn을 각 처리 유닛의 대수 m으로 나눔으로써 얻어진 소요시간 t1/m 내지 tn/m 중 최대의 소요시간을 1 사이클시간으로서 기판을 순서대로 처리한다. 상기 컨트롤러는 각 처리유닛에 전대기시간(전(前) 처리)을 설정한다.

公开(公告)号：KR1020070049629A

公开(公告)日：2007-05-11

申请号：KR1020077000241

申请日：2005-06-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67201 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67253 ,  Y10S414/135 ,  H01L21/67715

Abstract: 본 발명은 기판의 회수 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것으로서 도포 현상 처리 장치내에 있어서 트러블이 발생했을 때에, 도포 현상 처리 장치내의 모든 기판을 장치내의 반송 유니트를 이용해 반입출부에 회수한다. 이 때, 각 반송 유니트는 기판을 트러블 발생시의 각 위치로부터 반입출부의 방향을 향해 반송해 회수한다. 또 트러블이 발생했을 때에 처리 유니트내에 있어서 처리중의 기판에 대해서는 해당 처리가 종료하고 나서 회수하는 기판 처리 장치에 트러블이 발생했을 때에, 기판 처리 장치내에 잔존하는 기판을 다음의 기판 처리에 악영향을 주지 않게 신속하게 회수해 조기에 기판 처리를 재개하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101900771B1

公开(公告)日：2018-09-20

申请号：KR1020137017552

申请日：2011-12-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구로이와게이조오 ,  오가타구니에 ,  마츠오카노부아키 ,  다사키노부유키 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67742

Abstract: 본발명은처리블록에서기판에도포막을형성한후, 이기판을노광장치에전달하고, 노광후의기판에대하여처리블록에서현상처리를행하고, 그후 캐리어에전달하도록구성되며, 동일시간당기판의처리매수가노광장치보다도많은도포현상장치에있어서, 노광전의기판을일단임시적재하는임시적재부와, 기판의반송경로에서의, 기판이놓이는모듈에대하여메인터넌스를행하기위해서, 당해상류측의기판의반송을정지하는시간의길이를설정하기위한정지시간설정부와, 임시적재부에놓인기판의매수가정지시간의길이에따른, 처리블록에의한기판의처리매수에도달했는지여부를감시하고, 소정의처리매수에도달한후에임시적재부의상류측의기판의반송을정지하도록제어신호를출력하는제어부를구비하고있다.

公开(公告)号：KR101676049B1

公开(公告)日：2016-11-14

申请号：KR1020110075194

申请日：2011-07-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야타아키라 ,  마츠야마겐이치로우 ,  오가타구니에

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67126 ,  B05D5/12 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/6723

Abstract: 본발명은멀티모듈을구성하는모듈이사용불가모듈이되었을때에, 작업처리량의저하를억제하는것을과제로한다. 사용불가모듈이발생한이후에는, 복수의단위블록에있어서가장빠르게배치가능해진반입모듈에기판을지급하고, 상기복수의단위블록의각각에서는, 기판이반입모듈에지급된순서에따라, 반송수단에의해기판을모듈군에순차반송하여반출모듈에전달한다. 그리고, 기판이반입모듈에지급된순서에따라, 기판을반출모듈로부터추출하고, 후단모듈또는기판배치부에반송한다. 이후, 통상시에기판이반입모듈에지급되는일정한순서에따라, 반출모듈또는기판배치부로부터후단모듈에기판을반송한다.

Abstract translation: 在本发明中，当构成多模块的模块变为不可用模块时，有必要抑制工作吞吐量的降低。 在产生了不能使用的模块之后，将基板供给到能够配置在多个单元块中最快的位置的搬入模块，并且在多个单元块的每一个中，基板被搬送到搬入模块， 衬底被顺序地传送到模块组并被传送到取出模块。 然后，根据将基板供应到输入模块的顺序，将基板从输出模块中取出并传送到后端模块或基板放置部分。 之后，将基板从基板通常送入搬入模块的规定顺序从搬出模块或基板载置部搬送到后端模块。

公开(公告)号：KR1020140002697A

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：KR1020137017552

申请日：2011-12-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구로이와게이조오 ,  오가타구니에 ,  마츠오카노부아키 ,  다사키노부유키 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67742 ,  G03F7/26 ,  G03F7/30

Abstract: 본 발명은 처리 블록에서 기판에 도포막을 형성한 후, 이 기판을 노광 장치에 전달하고, 노광 후의 기판에 대하여 처리 블록에서 현상 처리를 행하고, 그 후 캐리어에 전달하도록 구성되며, 동일 시간당 기판의 처리 매수가 노광 장치보다도 많은 도포 현상 장치에 있어서, 노광 전의 기판을 일단 임시 적재하는 임시 적재부와, 기판의 반송 경로에서의, 기판이 놓이는 모듈에 대하여 메인터넌스를 행하기 위해서, 당해 상류측의 기판의 반송을 정지하는 시간의 길이를 설정하기 위한 정지 시간 설정부와, 임시 적재부에 놓인 기판의 매수가 정지 시간의 길이에 따른, 처리 블록에 의한 기판의 처리 매수에 도달했는지 여부를 감시하고, 소정의 처리 매수에 도달한 후에 임시 적재부의 상류측의 기판의 반송을 정지하도록 제어 신호를 출력하는 제어부를 구� �하고 있다.

公开(公告)号：KR101348007B1

公开(公告)日：2014-01-07

申请号：KR1020080069618

申请日：2008-07-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카네코토모히로 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/32

Abstract: 본 발명은 도포, 현상 장치 및 도포, 현상 장치의 운전 방법 및 기억 매체에 관한 것으로서 캐리어 블럭의 수수 수단 및 검사 블럭의 기판 반송 수단을 제어하기 위한 제어 수단이 처리 블럭에서 기판을 기판 반송 수단에 의해 검사 모듈을 개재하여 또는 개재하지 않고 제3또는 제4의 스테이지에 반송해 상기 캐리어 블럭에 반입된 캐리어로부터 검사 전용의 기판을 수수 수단에 의해 제2의 스테이지에 수수함과 동시에 기판을 기판 반송 수단에 의해 검사 모듈에 주고 수취하고,기판을 검사 종료후에 제3의 스테이지 또는 제4의 스테이지에 반송시킨다. 그리고 처리 블럭으로부터의 기판과 캐리어로부터의 기판을 병행해 검사 모듈에 취입시켜 검사후의 기판의 수수처를 1개에 한정시키지 않게 하여 기판에 도포, 현상 처리를 행하기 위한 반송 경로와 기판에 검사만을 실시하는 반송 경로가 병존하는 도포, 현상 장치에 대해, 검사 모듈에 기판이 필요없이 체재하는 시간을 삭감하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020120026491A

公开(公告)日：2012-03-19

申请号：KR1020117026678

申请日：2010-06-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가리노겐타로 ,  고자와세이지 ,  미야타아키라 ,  간바야시아키라 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67248 ,  G03F7/26 ,  H01L21/0274

Abstract: 본 발명의 기판을 처리하는 기판 처리 시스템의 복수의 가열 장치는, 처리 레시피에 설정된 기판의 처리 순서로 가열 장치를 승온하는 룰, 상하 방향으로 적층하여 배치된 가열 장치의 아래에서부터 위의 순으로 승온하는 룰, 승온 시작에서 승온 완료까지의 제정 시간이 짧은 가열 장치에서부터, 제정 시간이 긴 가열 장치의 순으로 승온하는 룰 중의 적어도 어느 하나 또는 2개 이상을 조합시킨 룰에 따라서 승온된다. 가열 장치의 승온은, 하나의 가열 장치가 승온됨에 따라 그 하나의 가열 장치로부터 방산되는 열을, 다른 가열 장치에 전달시키면서 이루어진다.