公开(公告)号：KR100230692B1

公开(公告)日：1999-11-15

申请号：KR1019940008171

申请日：1994-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  마쓰시타미치아키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B11/02 ,  Y10S134/902 ,  Y10T279/18

Abstract: 반도체 웨이퍼의 세정장치에는, 회전반을 가지는 스핀척이 배치된다.
회전반을 지지하는 샤프트에는, 웨이퍼의 이면에 공급되는 보호가스의 공급로가 형성된다. 샤프트의 단부를 덮도록 원추형상의 가동부재가 배치되며, 보호가스 공급압력에 따라서 상하로 이동가능하게 되어 있다. 가동부재의 외면에는, 회전반에 지지되고 또 반경방향으로 뻗는 3개의 왕복아암의 내단이 스프링 탄력상태로 맞닿는다. 회전반 상에는, 웨이퍼의 바깥 테두리를 따르는 등간격으로 3개소에 고정핀이 설치되며, 고정핀 사이에 요동레버가 배치된다. 요동레버의 일단은 왕복아암의 외단에 접속되고, 타단에는 웨이퍼의 바깥 테두리에 맞닿는 핀이 배치된다. 보호가스가 공급되면, 가동부재가 윗 쪽의 작동위치로 이동하고, 왕복아암이 가동부재에 눌리어 바깥방향으로 이동한다. 이것에 의하여 요동레버가 작동하여 핀을 웨이퍼의 바깥 테두리에 맞닿고 3개의 핀 사이에 웨이퍼를 집어서 클램프한다.

公开(公告)号：KR1019990066684A

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019980017563

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은 세정유니트 내에 설치된 반송로보트와의 사이에서 세정 전후의 복수의 피처리기판을 주고받는 반송척과, 이 반송척기구를 내부에서 세정하여 건조하는 세정·건조처리부를 구비하고, 상기 반송척은 복수의 피처리기판을 파지하는 좌우의 가로로드 및 각각을 수평으로 지지하는 세로로드를 가지며, 상기 세정·건조처리부는 세정액을 토출하는 수단 및 건조용 가스를 공급하는 수단을 구비하는 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 가스공급수단은, 상기 각 세로로드의 좌우 양측에 그 하단으로부터 기초부에 걸쳐 각각 세워 설치된 2쌍의 가스배관과, 이들 가스배관의 전체 길이에 걸쳐 여러개씩 형성된 가스분사구멍과, 이들 가스분사구멍을 가지는 상기 각 가스배관을 상기 각 가로로드를 따라 일체적으로 이동시키는 구동수단을 가진다.

公开(公告)号：KR100190539B1

公开(公告)日：1999-06-01

申请号：KR1019930003653

申请日：1993-03-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유우지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B3/06 ,  Y10S134/902

Abstract: 인접하는 처리실을 서로 구획하는 격벽의 하부에 연통구를 형성하여 양 처리실을 서로 이어지도록 하고, 양 처리실 내부에 처리액을 수용하는 가동처리탱크를 이동가능하게 배설한다.
가동처리탱크에 수용되는 처리액과 격벽을 접속시켜서 양 처리실을 차폐한다. 이것에 의해 양 처리실의 분위기가 서로 격리되므로, 양 처리실 내부의 가동처리탱크를 겸용으로 사용할 수 있어, 장치 전체를 소형화로 함과 동시에, 처리액의 소비량을 저감시킬 수 있다. 또 웨이퍼의 반송수단이 불필요하기 때문에, 수율을 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100175071B1

公开(公告)日：1999-04-01

申请号：KR1019920013314

申请日：1992-07-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다케구마타카시

IPC: H01L21/30

Abstract: 도포장치는, 반도체웨이퍼를 흡착하는 척과, 반도체웨이퍼에 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급계와, 반도체웨이퍼를 회전시켜서 반도체웨이퍼에 공급된 레지스트액을 반도체웨이퍼의 전체면으로 펴기 위한 모우터와, 반도체웨이퍼가 얹어놓이고 이것에 온도분포를 형성하기 위한 플레이트를 구비한다.

公开(公告)号：KR100164605B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019920023980

申请日：1992-12-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 기무라요시오

IPC: H01L21/31

Abstract: 현상액 공급장치는, 현상액 공급노즐과, 웨이퍼를 지지하기 위한 회전척과, 공급노즐이 대기하기 위한 홀더를 구비한다. 공급노즐은, 반송부재에 의하여, 척상방의 공급위치와, 홀더상의 대기위치와의 사이를 반송한다. 공급노즐은, 현상액의 수납공간과 연결되어 통하는 여러 개의 구멍이 형성된 노즐팁을 가진다. 홀더는, 상기 구멍열을 따라서 연장되는 통을 가진다. 통은 노즐팁으로부터 떨어지는 현상액 방울과 접하여, 이것을 제거하도록 배치된다. 통의 저부에는 현상액을 배제하기 위한 여러 개의 구멍이 배열 형성된다.

公开(公告)号：KR100155994B1

公开(公告)日：1998-12-01

申请号：KR1019900008898

申请日：1990-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 마쓰무라키미하루 ,  사카이히로시 ,  무라카이마사아키 ,  오오타테쓰야 ,  야마구치지미쓰

IPC: H01L21/20

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR100151150B1

公开(公告)日：1998-12-01

申请号：KR1019900004397

申请日：1990-03-31

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 시라카와에이이치 ,  노무라마사후미 ,  마쓰무라키미하루

IPC: G01J5/60

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR100148371B1

公开(公告)日：1998-12-01

申请号：KR1019900001934

申请日：1990-02-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 하야시다야스시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70725

Abstract: 내용 없음.

Abstract translation: 本发明的曝光装置用于半导体和LCD装置的曝光处理。 曝光装置包括其上放置有半导体晶片的台，用于旋转台的旋转机构，布置成与舞台的支撑表面相对的辐射单元，用于使辐射单元沿着穿过 舞台的支撑表面的中心，用于输入晶片的期望曝光范围的曝光范围输入单元，用于存储输入曝光范围的曝光范围存储单元，用于检测晶片的参考位置的CCD图像传感器， 相对位置检测器，用于检测检测到的基准位置和辐射单元之间的相对位置，控制器，用于根据相对位置和曝光范围来控制滑动机构;以及光量控制机构，用于控制从 对应于相对位置和曝光范围的到晶片的照射机构。

公开(公告)号：KR1019960015840A

公开(公告)日：1996-05-22

申请号：KR1019950034071

申请日：1995-10-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 우에다잇세이 ,  아키모토마사미 ,  구도히로유키

IPC: H01L21/68

Abstract: 복수의 처리위치에서 피반송기판의 받음 및 받아넘김을 하며, 이들 처리위치 사이에서 피반송기판을 반송하는 반송장치는, 장치본체와; 동일평면 내의 서로 다른 위치에서 기판을 지지하는 복수의 지지부를 가지며, 장치본체에 이동가능하게 설치되어 피반송기판을 지지하고 반송하는 반송부재와; 반송부재에 대한 상기 기판의 받고 받아넘김 동작을 하기 위해 반송부재를 이동하는 이동기구와; 반송부재의 위치를, 상기 각 지지부로 상기 기판의 받음 및 받아넘김을 하기 위한 복수의 위치 사이에서 전환하는 전환기구를 구비한다.

公开(公告)号：KR1019960015710A

公开(公告)日：1996-05-22

申请号：KR1019950037308

申请日：1995-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  히로세오사무

IPC: H01L21/08

Abstract: 본 발명은, 피처리체를 얹어놓는 얹어놓는대와, 얹어놓는대를 개재하여 피처리체를 가열하는 가열수단과, 얹어놓는대 표면으로부터 돌출함으로써 피처리체와 얹어놓는대와의 사이에 간격을 마련하여서 피처리체를 지지하는 북수의 지지부재를 구비하고, 각 지지부재의 높이는, 피처리체의 표면의 처리중의 온도분포에 따라서 가변인 기판처리장치이다.
또, 본 발명은. 피처리체를 얹어놓는 얹어놓는대와, 얹어놓는대를 개재하여 피처리체를 가열하는 가열수단을 구비하고, 얹어놓는대의 표면은, 피처리체의 표면의 처리중의 온도분포에 따라서 다른 방사상태인 영역을 가지는 기판처리장치이다.