転写構造体の製造方法及びそれに用いる母型
    98.
    发明申请
    転写構造体の製造方法及びそれに用いる母型 审中-公开
    用于生产转移结构的方法和母体用于该方法

    公开(公告)号:WO2010027076A1

    公开(公告)日:2010-03-11

    申请号:PCT/JP2009/065612

    申请日:2009-09-07

    Abstract:  微細パターンを破壊せずに被転写材料と母型との剥離を容易に行うことができ、母型の転写パターンが被転写材料に良好に転写され、しかも繰り返しの転写において母型の耐久性を長期間にわたって維持して転写構造体を製造する方法およびそれに用いる母型を提供する。  表面に転写パターンが形成された母型の表面に下記(I)で表されるシランカップリング剤の膜を形成し、被転写材料を付与して母型の表面のパターンを転写させ、被転写材料を母型から剥離させて被転写材料からなる転写構造体を得る。式(I)中、nは8、10、12、又は14の整数を示し、mは3又は4の整数を示し、X、Y、Zは、それぞれ独立してメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、又はハロゲン原子を表す加水分解性基である。

    Abstract translation: 公开了一种转印结构的制造方法,其中转印微细图案的材料可以从母模容易地分离而不破坏微细图案,母模上的转印图案可以令人满意地转印到材料上, 并且当重复进行图案的转印时,可以长时间保持母模的耐久性。 还公开了一种用于该方法的母模。 在具有形成在其表面上的转印图案的母模的表面上形成由式(I)表示的硅烷偶联剂的膜,将转印图案转印到其上的材料施加到膜上以转印 形成在母模表面上的图案到材料上,并且将材料从母模上拆下,从而产生包括该材料的转印结构。 在式(I)中,n表示8,10,12或14的整数; m表示3或4的整数; 并且X,Y和Z独立地表示选自甲氧基,乙氧基,丙氧基,异丙氧基和卤素原子的可水解基团。

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