公开(公告)号：WO1988009559A1

公开(公告)日：1988-12-01

申请号：PCT/US1988001694

申请日：1988-05-27

Applicant: MICROBEAM INC.

Inventor： MICROBEAM INC. ,  PARKER, Norman, William

IPC: H01J03/14

CPC classification number: H01J49/288 ,  H01J37/05

Abstract: A Wien filter for use in charged particle beam systems is disclosed, having two opposed resistive magnetic pole pieces (106, 108) separated from a set of excitation coils by an electrically insulating material. Two opposed electric pole pieces (114, 116) are positioned in orthogonal relationship to and in physical contact with the magnetic pole pieces to form a physical aperture through which the charged particles will pass. The resistivity of the magnetic pole pieces is such that sufficient current will flow through them between the electric pole pieces to establish a uniform electric field over the entire physical aperture.

公开(公告)号：WO2017126089A1

公开(公告)日：2017-07-27

申请号：PCT/JP2016/051742

申请日：2016-01-21

Applicant: 公益財団法人高輝度光科学研究センター

Inventor： 室　隆桂之 ,  松下　智裕

IPC: H01J49/46 ,  H01J37/244

CPC classification number: H01J49/488 ,  H01J37/05 ,  H01J37/244 ,  H01J49/022 ,  H01J2237/053 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/24485

Abstract: 前段グリッド電極（２１）、基準グリッド電極（２２）、及び後段グリッド電極（２３）を順に並べて配置し、基準グリッド電極（２２）と前段グリッド電極（２１）との間に所定の大きさの電位差を与えて上りの電位勾配を形成するとともに、基準グリッド電極（２２）と後段グリッド電極（２３）との間に電位差を与えて下りの電位勾配を形成する阻止電位型エネルギー分析器において、基準グリッド電極（２２）と前段グリッド電極（２１）の間の距離よりも基準グリッド電極（２２）と後段グリッド電極（２３）の間の距離が短くなるようにグリッド電極を配置する。あるいは、基準グリッド電極（２２）と前段グリッド電極（２１）の間の電位差よりも基準グリッド電極（２２）と後段グリッド電極（２３）の間の電位差を大きくする。

Abstract translation:

前栅极电极（21），一个参考栅格电极（22），和放置的顺序排列后级栅电极（23），所述参考栅格电极（22）和所述前格栅电极（21） 以形成高达阻挡电势和电势差，以形成所述参考栅格电极（22）和后级格栅电极之间的下行链路的电势梯度之间的预定尺寸的电位差（23）的电位梯度 在型能量分析仪，栅格电极的参考栅格电极（22），以使距离所述参考栅格电极（22）和比该前格栅电极之间的距离的后级栅电极（23）（21）之间的缩短 安排会。 或者，为了提高所述参考栅格电极（22）和比所述参考栅格电极（22）和所述前格栅电极（21）之间的电位差后级栅电极（23）之间的电位差。

公开(公告)号：WO2017010529A1

公开(公告)日：2017-01-19

申请号：PCT/JP2016/070744

申请日：2016-07-13

Applicant: 国立大学法人奈良先端科学技術大学院大学

Inventor： 松井　文彦 ,  松田　博之

IPC: H01J37/12 ,  H01J37/05 ,  H01J37/075 ,  H01J37/09 ,  H01J37/244 ,  H01J37/252 ,  H01J37/305 ,  H01J43/24

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/075 ,  H01J37/09 ,  H01J37/12 ,  H01J37/244 ,  H01J37/252 ,  H01J37/305 ,  H01J43/24

Abstract: 点源から放出される荷電粒子を広立体角範囲にわたり取り込み、荷電粒子の軌跡を平行化するコンパクトな装置を提供する。点源に対し凹面状を有する軸対称な非球面メッシュ（２）および軸対称な複数の電極（１０～１４）から成る静電レンズと、静電レンズと同軸に配置される平面コリメータプレート（３）とから構成される。点源（７）から発生した荷電粒子の取り込み角が±３０°以上で、荷電粒子の軌跡が静電レンズにより略平行化されるように、非球面メッシュ（２）の形状とアース電極（１０）と印加電極（１１～１５）の電位及び配置が調整されている。荷電粒子の軌跡が軸に対して略平行化された後で、荷電粒子が平面コリメータプレート（３）に対して略垂直に入射するように、静電レンズと平面コリメータプレートが共軸に配置されている。

Abstract translation: 提供了一种紧凑的装置，其在宽立体角范围内捕获从点源发射的带电粒子并使所述带电粒子的轨迹平行化。 本发明由以下构成：静电透镜，包括多个轴对称电极（10-14）和轴对称非球面网（2），其具有远离点源的凹面; 以及与静电透镜同轴设置的平坦准直板（3）。 从点源（7）产生的带电粒子的接受角为±30°或更大。 调整非球面形状（2）以及接地电极（10）和施加电极（11-15）的电位和位置，使得带电粒子的轨迹基本上与静电透镜平行。 静电透镜和平面准直板位于公共轴上，使得在带电粒子的轨迹相对于轴线基本平行化之后，带电粒子以入射角进入平坦准直板（3） 基本上垂直于其。

公开(公告)号：WO2016145337A1

公开(公告)日：2016-09-15

申请号：PCT/US2016/022058

申请日：2016-03-11

Applicant: EXOGENESIS CORPORATION ,  KIRKPATRICK, Sean, R. ,  SVRLUGA, Richard, C.

Inventor： KIRKPATRICK, Sean, R. ,  SVRLUGA, Richard, C.

IPC: C23C14/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/321 ,  C03C15/00 ,  C03C23/0055 ,  C03C2218/335 ,  C23C14/042 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/5826 ,  H01J37/05 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/0812 ,  H01L21/02115 ,  H01L21/02238 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/31105 ,  H01L21/31116

Abstract: A method of forming a patterned hard mask on a surface of a substrate uses an accelerated neutral beam with carbon atoms. The objects set forth above as well as further and other objects and advantages of the present invention are achieved by the various embodiment's of the invention described herein below.

Abstract translation: 在基板的表面上形成图案化硬掩模的方法使用具有碳原子的加速中性束。 上述目的以及本发明的其他目的和优点通过下面描述的本发明的各种实施例来实现。

公开(公告)号：WO2016121009A1

公开(公告)日：2016-08-04

申请号：PCT/JP2015/052250

申请日：2015-01-28

Applicant: 株式会社 日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 横須賀　俊之 ,  数見　秀之 ,  水原　譲 ,  川野　源

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/05

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J37/292

Abstract: 　視野内に二次電子の放出条件が異なる領域が複数含まれる場合であっても、その各領域に応じた適正なエネルギーフィルタ条件の設定を可能とする荷電粒子線装置を提供する。　荷電粒子源（５０１）から放出される荷電粒子ビーム（５０２）の試料（５０６）上の走査に基づいて得られる荷電粒子（５０７）を検出する検出器（５０８）と、前記試料（５０６）から放出される荷電粒子（５０７）をエネルギーフィルタリングするエネルギーフィルタ（５０９）を備えた荷電粒子線装置において、前記荷電粒子ビーム（５０２）の走査領域に含まれる複数の領域の指標値を求め、当該複数の指標値と、前記複数の領域のそれぞれに設定されている基準指標値との差分演算を、複数のエネルギーフィルタ条件毎に実行する。

Abstract translation: 提供了一种带电粒子束装置，即使其中包括具有不同二次电子发射条件的多个区域的视野，也可以设置适合于这些区域中的每一个的适当的能量过滤条件。 带电粒子束装置配备有检测器（508），用于检测从样品（506）上扫描得到的带电粒子（507），从带电粒子源（501）发射的带电粒子束（502） ，以及用于通过能量过滤从所述样品（506）发射的带电粒子（507）的能量过滤器（509）。 为包含在带电粒子束（502）的扫描区域内的多个区域确定索引值，并且对于多个能量过滤条件中的每一个，在多个索引值和参考索引值之间计算差异， 已经为多个区域中的每一个设置了。

公开(公告)号：WO2016092642A1

公开(公告)日：2016-06-16

申请号：PCT/JP2014/082611

申请日：2014-12-10

Applicant: 株式会社 日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 水原　譲 ,  横須賀　俊之 ,  数見　秀之 ,  黒澤　浩一 ,  明珍　健一

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/05 ,  H01J37/12

CPC classification number: H01J37/12 ,  H01J37/05 ,  H01J37/244

Abstract: 　本発明は、荷電粒子線装置のカラム内部に衝突して失われてしまう荷電粒子の量を抑制し、高効率に荷電粒子検出を行うことを目的とするものである。この目的を達成するために、荷電粒子ビームを集束する対物レンズ（８）と、当該対物レンズと前記荷電粒子源との間に配置される検出器（１５）と、前記試料から放出された荷電粒子を前記荷電粒子ビームより離軸するように偏向する偏向器（１６）と、当該偏向器と前記対物レンズとの間に配置され、前記偏向器の偏向点に向かって、前記試料から放出された荷電粒子を集束する複数の静電レンズを形成する複数の電極（１９）を備えた荷電粒子線装置を提案する。

Abstract translation: 本发明的目的是减少与带电粒子束装置的柱的内部碰撞而损失的带电粒子的量，并以高效率检测带电粒子。 为了实现该目的，提出了一种带电粒子束装置，其设置有：聚焦带电粒子束的物镜（8）; 设置在物镜和带电粒子源之间的检测器（15）; 偏转器（16），其使从样品发射的带电粒子偏转，使得带电粒子与带电粒子束的轴线分离; 以及设置在偏转器和物镜之间并且形成多个静电透镜的多个电极（19），用于将从样品发射的带电粒子聚焦在偏转器的偏转点上。

公开(公告)号：WO2015200649A2

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：PCT/US2015/037712

申请日：2015-06-25

Applicant: GATAN, INC.

Inventor： GUBBENS, Alexander, Jozef ,  TREVOR, Colin ,  TWESTEN, Ray, Dudley ,  BARFELS, Melanie

IPC: H01J37/05 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/12 ,  H01J37/147 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/053 ,  H01J2237/055 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/24485 ,  H01J2237/2802

Abstract: An electron energy loss spectrometer for electron microscopy is disclosed having an electrically isolated drift tube extending through the bending magnet and through subsequent optics that focus and magnify the spectrum. An electrostatic or magnetic lens is located either before or after or both before and after the drift tube and the lens or lenses are adjusted as a function of the bending magnet drift tube voltage to maintain a constant net focal length and to avoid defocusing. An energy selecting slit is included in certain embodiments to cleanly cut off electrons dispersed outside the energy range incident on the detector, thereby eliminating artifacts caused by unwanted electrons scattering back into the spectrum.

Abstract translation: 公开了一种用于电子显微镜的电子能量损失光谱仪，其具有延伸穿过弯曲磁体的电隔离漂移管，以及聚焦和放大光谱的后续光学器件。 静电或磁性透镜位于漂移管之前或之后或两者之间，并且透镜或透镜作为弯曲磁体漂移管电压的函数进行调节，以保持恒定的净焦距并避免散焦。 在某些实施例中包括能量选择狭缝，以清洁地切断分散在入射到检测器上的能量范围之外的电子，从而消除由不想要的电子散射回到光谱中引起的假象。

公开(公告)号：WO2014034277A1

公开(公告)日：2014-03-06

申请号：PCT/JP2013/068590

申请日：2013-07-08

Applicant: 株式会社 日立製作所

Inventor： 腰越　悠香 ,  寺田　尚平

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/05 ,  H01J2237/2449

Abstract: 　本発明の目的は、走査透過電子顕微鏡を用いて軽元素で構成される試料の電子顕微鏡像の像コントラストを高く取得する際に、電子顕微鏡像の最適取得条件を高効率、高精度に調整することである。　複数個のレンズ（４，７，９）、電子線を制限する絞り（６）、検出器（１０）を有し、電子顕微鏡像を取得する走査透過電子顕微鏡（１）にあって、前記電子顕微鏡像の取得条件を算出する取得条件算出システム（１３）と、前記電子線透過方向の試料膜厚を算出する試料膜厚条件算出システム（１４）とを有することを特徴とする走査透過電子顕微鏡（１）。

Abstract translation: 本发明的目的是在采用扫描透射电子显微镜图像的情况下，以电子显微镜的最佳采集条件，高精度，最佳的采集条件来调整样品的电子显微镜图像的高图像对比度 光元素。 获取电子显微镜图像的扫描透射电子显微镜（1）包括：多个透镜（4,7,9）; 限制电子束的虹膜（6）; 检测器（10）; 计算电子显微镜图像的获取条件的获取条件计算系统（13） 以及计算电子束传播方向的样品膜厚度的样品膜厚度条件计算系统（14）。

公开(公告)号：WO2012091851A3

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：PCT/US2011063095

申请日：2011-12-02

Applicant: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ,  BENVENISTE VICTOR M ,  SINCLAIR FRANK ,  RADOVANOV SVETLANA ,  KOO BON WOONG

Inventor： BENVENISTE VICTOR M ,  SINCLAIR FRANK ,  RADOVANOV SVETLANA ,  KOO BON WOONG

IPC: H01J37/317 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J37/20 ,  H01J49/30 ,  H01J2237/055 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/20221

Abstract: An implantation system (100) includes an ion extraction plate (106) having a set of apertures configured to extract ions from an ion source (102) to form a plurality of beamlets (112). A magnetic analyzer (114) is configured to provide a magnetic field to deflect ions in the beamlets in a first direction x that is generally perpendicular to a principal axis zof the beamlets. A mass analysis plate (120) includes a set of apertures (122) wherein first ion species (118) having a first mass/charge ratio are transmitted through the mass analysis plate and second ion species (116) having a second mass/charge ratio are blocked by the mass analysis plate. Optionally, a workpiece holder (130) is configured to move with, respect to the mass analysis plate in a second direction y perpendicular to the first direction, wherein a pattern of ions (112a) transmitted through the mass analysis plate forms a continuous ion beam current along the first direction at the substrate (132).

Abstract translation: 植入系统（100）包括具有一组孔的离子提取板（106），所述一组孔被配置成从离子源（102）提取离子以形成多个子束（112）。 磁分析器（114）被配置为提供磁场以沿着大致垂直于子束的主轴z的第一方向x偏转子束中的离子。 质量分析板（120）包括一组孔（122），其中具有第一质量/荷重比的第一离子种类（118）通过质量分析板和第二离子种类（116）具有第二质量/加料比 被质谱仪屏蔽。 可选地，工件保持器（130）构造成在与第一方向垂直的第二方向y上相对于质量分析板移动，其中透过质量分析板的离子（112a）图案形成连续的离子束 沿着基板（132）的第一方向的电流。

公开(公告)号：WO2012027330A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：PCT/US2011/048754

申请日：2011-08-23

Applicant: EXOGENESIS CORPORATION ,  KIRKPATRICK, Sean, R. ,  KIRKPATRICK, Allen, R.

Inventor： KIRKPATRICK, Sean, R. ,  KIRKPATRICK, Allen, R.

IPC: B01D59/00

CPC classification number: G03F1/80 ,  B24B37/04 ,  G03F1/82 ,  H01J37/05 ,  H01J37/147 ,  H01J37/317 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0041 ,  H01J2237/0812 ,  H01J2237/15 ,  H01L21/02115 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/26506 ,  H01L21/26513 ,  H01L21/26566 ,  H01L21/31105 ,  H01L21/31111 ,  H01L29/36 ,  H05H3/02 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/30

Abstract: An apparatus, method and products thereof provide an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam for processing materials.

Abstract translation: 其装置，方法和产品提供从用于加工材料的加速气体簇离子束衍生的加速中性束。