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公开(公告)号：KR100341009B1
公开(公告)日：2002-11-29
申请号：KR1019970013042
申请日：1997-04-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: [청구범위에 속한 기술분야]
LCD기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판에 레지스트를 도포하여 현상하는 기판의 레지스트 처리장치 및 레지스트 처리방법에 관한 것이다.
[발명이 해결하려고 하는 기술적 과제]
기판을 유지한 스핀척 및 컵을 효율좋게 회전시키고 스루풋의 향상 및 제품수율의 향상을 도모하며, 장치의 소형화 및 제품수율의 향상을 도모한다.
[발명의 해결방법 및 요지]
본 발명의 기판의 레지스트 처리장치는, 기판을 수평유지하는 스핀척과, 이 스핀척을 가변으로 회전시키는 제 1 모터와, 스핀척에 유지된 기판의 윗면에 레지스트액을 뿌리는 노즐과, 기판을 내고들이기 위한 상부 개구 및 스핀척의 구동축이 지나는 하부개구를 구비하고, 스핀회전하는 기판으로 부터 원심분리된 액체를 받도록 스핀척에 유지된 기판을 둘러싸는 컵과, 컵의 상부개구에 씌워져서 기판 주위의 처리 스페이스를 규정하는 개폐덮개와, 컵을 스핀척과 독립적으로 가변으로 회전시키는 제 2 모터와, 서로 떨어진 상태에 있는 컵과 스핀척이 상호 접촉할 때까지 적어도 한쪽을 상대적으로 이동시키는 승강 실린더와, 이 승강 실린더에 의해 컵과 스핀척을 상호 접촉시켰을 때에, 컵과 스핀척과의 상호 접촉 부분을 기체밀폐적으로 시일하는 O-링 을 구비하며, 승강실린더에 의해 컵과 스핀척을 상호 접촉시켰을 때에, 컵의 하부개구가 스핀척에 의해 막혀서 기체 밀폐적인 처리 스페이스가 형성되고, 이 기체 밀폐적인 처리 스페이스를 유지하면서 제 1 및 제 2 모터에 의해 스핀척 및 컵을 동기회전시킨다.
[발명의 중요한 용도]
LCD기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판 레지스트 처리에 이용한다.-
公开(公告)号：KR100212023B1
公开(公告)日：1999-08-02
申请号：KR1019960017656
申请日：1996-05-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 레지스트 도포장치는, 승강가능하게 설치되고, 수취한 기판을 유지하고, 기판과 함께 스핀회전하는 스핀척과, 이 스핀척상의 기판에 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급원과, 스핀척상의 기판을 둘러싸고, 스핀척과 연동하여 회전되고, 기판으로 부터 원심분리되는 레지스트액을 받는 회전컵과, 이 회전컵 주위에 설치되고, 회전컵내로 부터 방출되는 폐기물을 받아내고, 받아낸 폐기물이 모이는 집합공간을 가지는 드레인컵과, 이 집합공간에 개구하는 배액구를 가지며, 이 배액구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 액체성분을 배출하는 배액통로와, 집합공간에 연이어 통하는 배기구를 가지며, 이 배기구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 가스성분을 배기하는 배기통로와, 가스성분을 집합공간로 부터 배기통로쪽으로 안내하기 위해서, 적 어도 배액구보다도 높은 위치에 설치된 배기안내통로와, 이 배기안내통로에 설치되고, 가스성분을 따라 가는 기류가 충돌하면, 이것에 포함되는 액체성분은 응측시키고, 액체성분이 배기통로쪽으로 가는 것을 저지하는 기액분리부재를 구비한다.
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公开(公告)号：KR1019980019188A
公开(公告)日：1998-06-05
申请号：KR1019970043254
申请日：1997-08-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
도포막 형성장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
균일한 두께의 얇은 도포막을 얻을 수 있는 반도체 처리용 도포막의 형성장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판을 유지하는 유지수단과, 유지수단에 의하여 유지된 기판의 한 주된 표면과 마주보도록 배치되며, 기판의 한 주된 표면상에 도포액을 공급하는 토출구가 마련되며, 도포액은 기판의 폭보다 적은 폭을 가지는 띠형상의 흐름을 형성하는 도포액 공급수단과, 기판의 한 주된 표면상에 도포영역 및 비도포영역을 형성하도록 유지수단에 의하여 유지된 기판에 상대적으로 평행하게 도포액 공급수단을 이동하기 위한 이동수단 및 기판의 한 주된 표면과 도포액 공급수단의 토출구 사이의 간격을 일정하게 유지하기 위한 간극 유지수단을 포함하여 구성되는 반도체처리용 도포막 형성장치가 개시된다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체 기판 또는 액정 표시(LCD) 장치의 기판과 같은 박판형상의 기판이, 기판상에 도포막을 형성하기 위한 포토레지스트 용액 또는 현상액과 같은 처리용액으로 도포되는 장치에 사용됨.-
公开(公告)号：KR1019970072021A
公开(公告)日：1997-11-07
申请号：KR1019970013042
申请日：1997-04-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 1. 청구범위에 속한 기술분야
LCD기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판에 레지스트를 도포하여 현상하는 기판의 레지스트 처리장치 및 레지스트 처리방법에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판을 유지한 스핀척 및 컵을 효율좋게 회전시키고, 스루풋의 향상 및 제품수율의 향상을 도모하여, 장치의 소형화 및 제품수율의 향상을 도모한다.
3. 발명의 해결방법 및 요지
본 발명의 기판의 레지스트 처리장치는, 기판을 수평유지하는 스핀척과, 이 스핀척을 가변으로 회전시키는 제1모터와, 스핀척에 유지된 기판의 윗면에 레지스트액을 뿌리는 노즐과, 기판을 내고들이기 위한 상부 개구 및 스핀척의 구동축이 지나는 하부개구를 구비하고, 스핀회전하는 기판으로부터 원심분리된 액체를 받도록 스핀척에 유지된 기판을 둘러싸는 컵과, 컵의 상부개구에 씌워져서 기판 주위의 처리 스페이스를 규정하는 개폐덮개와, 컵을 스핀척과 독립적으로 가변으로 회전시키는 제2모터와, 서로 떨어진 상태에 있는 컵과 스핀척이 상호 접촉할 때까지 적어도 한쪽을 상대적으로 이동시키는 승강 실린더와, 이 승강 실린더에 의해 컵과 스핀척을 상호 접촉시켰을 때에, 컵과 시핀척과의 상호 접촉 부분을 기체밀폐적으로 시일하는 O-링을 비하며, 승강실린더에 의해 컵과 스핀척을 상호 접촉시켰을 때에, 컵의 하부개구가 스핀척에 의해 막혀서 기체 밀폐적인 처리 스페이스가 형성되고, 이 기체 밀폐적인 처리 스페이스를 유지하면서 제1 및 제2모터에 의해 스핀척 및 컵을 동기회전시킨다.
4. 발명의 중요한 용도
LCD기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판 레지스트 처리에 이용한다.-
公开(公告)号：KR1019960010093A
公开(公告)日：1996-04-20
申请号：KR1019950029397
申请日：1995-09-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: B05C5/00
Abstract: 본 발명은, 회전되는 피처리 기판에 도포액을 도포하는 도포장치 및 그 방법에 관한 것으로, 위쪽 개구를 가지는 윗쪽과 이래쪽 개구를 가지는 바닥벽과, 위쪽 개구를 폐쇄하는 폐쇄부를 가지고 회전축을 중심으로 하여 회전가능한 회전용기와, 이 회전용기의 안에 승강 및 상기 회전축을 중심으로 하여 회전이 자유롭게 위치하고, 위에 피처리 기판을 지지하는 회전 얹어놓는대와, 피처리 기판위에 도포액을 도포하는 도포액 공급수단과, 상기 회전용기의 폐쇄부에 설치되고, 회전용기의 내면에 세정액을 뿜어 칠하기 위한 세정액 공급수단과, 상기 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이에, 상기 아래쪽 개구를 둘러싸도록 설치되고, 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이를 시일가능한 시일부재와, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대 를, 이들이 함께 회전하도록 접속하는 수단과, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를 회전시키는 수단을 구비하는 도포장치를 제공할 수가 있어 구조가 간단하고, 회전 얹어놓는대와 회전용기와의 사이의 시일부가 마모되는 일이 없는 특징이 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019960009054A
公开(公告)日：1996-03-22
申请号：KR1019950024425
申请日：1995-08-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/312 , H01L21/027 , G03F7/06
Abstract: 처리용기 내에 수용된 기판을, 처리용기와 함께 회전시키면서, 상기 기판의 면위에 도포액을 공급하여 도포막을 형성하는 도포막 형성방법은, 기판의 면위에 용제를 도포하는 공정과, 기판에 도포액을 공급하는 공정과, 기판 및 처리용기를 제1의 회전수로 회전시켜서, 도포액을 기판의 면위에서 확산시키는 공정과, 처리용기를 뚜껑체로 폐쇄하고, 기판을 처리용기내에 봉입하는 공정과, 뚜껑체가 구비된 처리용기 및 기판을 제2의 회전수로 회전시켜서, 도포막의 막두께를 조정하는 공정을 가진다.
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公开(公告)号：KR101760951B1
公开(公告)日：2017-07-24
申请号：KR1020110067927
申请日：2011-07-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: [과제] 기판폭 방향으로긴 슬릿형상의토출구를갖는노즐을구비한도포장치에있어서, 노즐내에침입한이물이나기포등을효과적으로배출시키는것. [해결수단] 도포장치(1)의일부에는, 메인터넌스스테이지(25)가구비되어있다. 이메인터넌스스테이지(25)에는, 노즐(10)의슬릿형상토출구에맞닿아상기토출구를밀봉할수 있는긴 형상의유연성을갖는소재에의해형성된밀봉부재(25c)가배치되어있다. 상기노즐(10)을메인터넌스스테이지(25)로이동시키고, 상기노즐(10)의토출구를상기밀봉부재(25c)에맞닿게한 상태로하는동시에, 상기노즐에구비된약액도입부및 약액도출부를각각이용하여, 노즐내로약액을흐르게하는동작이실행된다.
Abstract translation: 发明内容本发明的目的在于提供一种涂布装置，该涂布装置具有在基材宽度方向上具有长狭缝状的排出口的喷嘴，从而能够有效地将渗入到喷嘴内的水或气泡排出。 [解决问题的手段]涂布装置（1）的一部分配备有维护台（25）。 维护单元25设置有密封构件25c，密封构件25c由具有长形形状的柔性材料形成，该密封构件25c抵靠喷嘴10的狭缝状排出口并且可以密封排出口。 喷嘴10移动到维护台25，使得喷嘴10的排出口与密封构件25c接触，并且分别使用设置在喷嘴中的药液导入部和药液排出部 并且执行使药液流入喷嘴的操作。
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公开(公告)号：KR101603343B1
公开(公告)日：2016-03-14
申请号：KR1020090093227
申请日：2009-09-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/06 , B65G47/91 , G02F1/13
Abstract: 본발명은피처리기판에처리액을공급하여도포처리를실시하는기판반송처리장치에서, 기판반송정밀도를확보하고, 처리불량의발생을억제할수 있는기판반송처리장치를제공한다. 본발명은기체의분사또는분사와흡인에의해기판(G)을다른높이로부상시키는부상스테이지(22)와, 상기부상스테이지(22)의위쪽에배치되어, 기판폭방향에슬릿형상으로형성된노즐구로부터처리액을상기피처리기판위에공급하는처리액공급노즐(23)과, 상기부상스테이지(22)의좌우옆쪽에평행하게배치되는가이드레일(25)을따라서이동이가능하도록설치된기판캐리어(50)와, 상기기판캐리어(50)에설치되어, 전피처리기판(G)의측가장자리부를아래쪽으로부터자유로이탈착하도록흡인유지하는기판유지부재(24)와, 적어도기판반송방향에서상기처리액공급노즐(23)의노즐구와동일위치에배치되어, 상기기판유지부재(24)의바로아래위치에서상기기판캐리어(50)를지지하는지지부재(51)를구비한다.
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公开(公告)号：KR1020120005983A
公开(公告)日：2012-01-17
申请号：KR1020110067927
申请日：2011-07-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: PURPOSE: A liquid treating apparatus and a maintenance method for a nozzle are provided to accelerate the discharge of foreign materials or bubbles from the nozzle by sufficiently pressurizing chemical in a cavity. CONSTITUTION: A liquid treating apparatus includes a long shaped nozzle(10) and a relative moving unit. The nozzle discharges chemical with respect to a substrate(G) though a discharging hole. The relative moving unit relatively moves the substrate with respect to the nozzle. The nozzle includes a chemical introducing part and a chemical discharging part. A maintenance stage(25) with a sealing material(25c) is arranged at a part of the liquid treating apparatus. The sealing material seals the discharging hole by being contact with the discharging hole.
Abstract translation: 目的：提供一种用于喷嘴的液体处理装置和维护方法，以通过在空腔中充分加压化学品来加速从喷嘴排出异物或气泡。 构成：液体处理装置包括长形喷嘴（10）和相对移动单元。 喷嘴通过排出孔相对于基板（G）排出化学物质。 相对移动单元相对于喷嘴相对地移动基板。 喷嘴包括化学品引入部分和化学品排出部分。 具有密封材料（25c）的维护台（25）布置在液体处理设备的一部分。 密封材料通过与排放孔接触而密封排出孔。
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公开(公告)号：KR1020110066864A
公开(公告)日：2011-06-17
申请号：KR1020100125402
申请日：2010-12-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1303 , H01L21/67109 , H01L21/67703
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a recording medium for storing the program are provided to prevent the deviation of a film thickness of a coating film without increasing manufacturing costs. CONSTITUTION: A substrate processing apparatus comprises a substrate transferring path(34) which moves the substrate to a direction, an air current forming unit(110) which dries the substrate using an air current, a plurality of air jetting units(120) which jets air at the upper part of the substrate, a plurality of vacuum units(140) which absorb the jetted air, and a supply path(124) which connects an air outlet(122) with the air jetting units.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，基板处理方法和用于存储程序的记录介质，以防止涂膜的膜厚度的偏差而不增加制造成本。 构成：基板处理装置包括使基板向一个方向移动的基板传送路径（34），利用气流使基板干燥的气流形成单元（110），喷射多个喷射单元 在基板的上部的空气，吸收喷射空气的多个真空单元（140），以及将空气出口（122）与空气喷射单元连接的供给路径（124）。
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