-
公开(公告)号：KR102263542B1
公开(公告)日：2021-06-10
申请号：KR1020140187249
申请日：2014-12-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677
-
12.发明公开
公开(公告)号：KR1020160103511A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：KR1020160016976
申请日：2016-02-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 처리실의분위기조정용의가스의사용량의삭감. 기판처리장치는, 처리실(20) 내에분위기조정용의제1 가스예컨대드라이에어를공급하는가스공급부(80)와, 기판(W)을유지하는기판유지부(30)의주위를둘러싸는컵(50) 내의가스를배기하는컵 배기로(53)와, 컵밖의처리실내의가스를배기하는처리실배기로(55)와, 처리실로부터배기된컵 밖의처리실내의가스를처리실로복귀시키는복귀로(59)를갖는다. 처리실로부터배기된컵 밖의가스처리실배기로로부터배기되는제1 상태와, 처리실로부터배기된컵 밖의가스가복귀로를통하여처리실에복귀되는제2 상태를전환하는배기전환기구(60)가마련되어있다.
Abstract translation: 用于调节处理室气氛的废气量减少了。 衬底处理室包括：气体供应单元（80），其供应第一气体，例如用于调节处理室（20）中的气氛的干燥空气; 在包围保持基板（W）的基板保持单元（30）的杯（50）内排出气体的杯排出路径（53）。 处理室排出路径（55），其将处理室内的气体排出杯外; 以及返回路径（59），其将处理室中的处理室中的气体从处理室排出的杯子返回到处理室。 设置有排出切换机构60，其切换从处理室排出的杯外的气体处理室排出路径排出气体的第一状态，以及使从处理室排出的杯外的气体返回的第二状态， 通过返回路径到处理室。
-
公开(公告)号：KR1020160052346A
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：KR1020150149398
申请日：2015-10-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719
Abstract: 액처리부로부터의배기의기액분리성을향상시키는것. 실시형태에따른기판액처리장치는, 액처리부와, 제 1 배기관과, 제 2 배기관을구비한다. 액처리부는처리액을이용하여기판을처리한다. 제 1 배기관은적어도일부가액처리부보다상방에배치된다. 제 2 배기관은액처리부에일단측이접속되고, 배기기구에의해제 1 배기관을통하여액처리부를배기한다. 또한, 제 2 배기관은, 제 1 배기관의액처리부보다상방에배치되는부분에타단측이접속된다.
Abstract translation: 提供了一种用于处理具有液体的基板的装置，其改进了来自液体处理单元的废气的气液分离。 根据本发明的实施例，用液体处理衬底的装置包括：液体处理单元; 第一排气管; 和第二排气管。 液体处理单元通过使用处理液处理基板。 第一排气管的至少一部分位于液体处理单元上方。 第二排气管的一端连接到液体处理单元，第二排气管通过排气装置通过第一排气管排出液体处理单元。 此外，第二排气管的另一端连接到位于液体处理单元上方的第一排气管的一部分。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160052337A
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：KR1020150148621
申请日：2015-10-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67017 , B08B15/02 , H01L21/67028
Abstract: 기판에의파티클의부착을보다억제하는것이다. 실시형태에따른기판처리장치는, 반입반출실과반송실과전달실을구비한다. 반입반출실은캐리어로부터기판이반입반출된다. 반송실은, 기판에대하여정해진처리가실시되는기판처리실로의기판의반송로가형성된다. 전달실은, 반입반출실및 반송실의사이에배치되고, 반입반출실및 반송실간의기판의전달에이용된다. 또한, 전달실의내압은반입반출실의내압및 반송실의내압보다높다.
Abstract translation: 本发明是进一步防止颗粒附着在基材上。 根据实施例的基板处理装置包括入室/出室，运输室和转移室。 在进/出室中，将基板从载体中取出。 在运送室中，将基板的输送路径形成到进行规定处理的基板处理室。 转移室设置在进/出室和运输室之间，用于在取出室和运输室之间转移基板。 此外，转移室的内部压力高于进出室的内部压力和运输室的内部压力。
-
公开(公告)号：KR1020150077341A
公开(公告)日：2015-07-07
申请号：KR1020140187249
申请日：2014-12-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/67178 , H01L21/67754 , H01L21/67757 , H01L21/67718
Abstract: 스루풋의향상을도모할수 있다. 시예에따른기판처리장치는복수의처리유닛과기판반송장치를구비한다. 복수의처리유닛은수직방향으로배열되어배치되고, 기판을처리한다. 기판반송장치는수직방향으로이동가능하며, 처리유닛에대하여기판의반입출을행한다. 또한, 기판반송장치는수직방향으로배열되어배치되고, 또한수직방향으로의가동범위가서로중복되고, 독립하여수직방향으로이동하는제 1 반송암과제 2 반송암을구비한다.
Abstract translation: 本发明的目的是提高吞吐量。 根据本发明的实施例，基板处理装置包括多个处理单元和基板输送装置。 多个处理单元垂直布置以处理基板。 基板输送装置可以垂直地移动以相对于处理单元输入和输出基板。 此外，基板输送装置是垂直布置的，并且包括第一输送臂和第二输送臂，其垂直移动范围重叠，并且独立且垂直移动。
-
公开(公告)号：KR1020110049708A
公开(公告)日：2011-05-12
申请号：KR1020100108244
申请日：2010-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67196 , H01L21/67778
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to install a clean air flow unit for making clean air flow in a substrate returning chamber, thereby reducing the manufacturing costs of the substrate processing apparatus. CONSTITUTION: A substrate input/output unit transfers a substrate included in a carrier. Substrate returning chambers(14,25) are connected. A plurality of substrate processing chambers is arranged along with the substrate returning chambers. A substrate returning device is included in the substrate returning chambers. Clean air flow units(40,41) make clean air flow along with the substrate returning chambers.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于安装用于在基板返回室中形成清洁空气流动的清洁空气流动单元，从而降低基板处理装置的制造成本。 构成：衬底输入/输出单元传送载体中包含的衬底。 基板返回室（14,25）连接。 多个基板处理室与基板返回室一起布置。 衬底返回室包括衬底返回室。 清洁空气流动单元（40,41）与基板返回室一起使清洁空气流动。
-
公开(公告)号：KR100948220B1
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：KR1020030010986
申请日：2003-02-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G03F7/16
CPC classification number: H01L21/67253 , H01L21/6715
Abstract: 피처리기판에 도포액을 토출함과 동시에 피처리기판을 회전시켜, 도포액을 피처리기판의 지름방향 바깥쪽으로 전개시켜 도포막을 형성하는 도포처리방법은, 실제로 도포액 토출노즐로부터의 도포액의 토출이 개시된 것을 검출하는 공정과, 그 검출신호에 기초하여, 도포액 토출노즐로부터 도포액을 토출시키기 위한 펌프의 구동타이밍, 도포액 토출노즐에 도포액을 공급하는 배관에 설치된 밸브의 동작타이밍, 및 피처리기판의 회전개시 또는 정지타이밍의 적어도 하나를 제어하는 공정을 구비한다.
-
公开(公告)号：KR1020070112058A
公开(公告)日：2007-11-22
申请号：KR1020070048724
申请日：2007-05-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: G03D3/02 , Y10T137/3127
Abstract: A method and an apparatus for supplying a processing liquid and a storage medium for a control program for supplying the processing liquid are provided to improve a processing accuracy by maintaining pressure of a variable pressure adjuster constantly in a processing liquid container. A liquid pressure detector(10) is implemented on a first processing liquid supply path and detects a pressure in a processing liquid container. A first open/close valve(V1) is implemented on the first processing liquid supply path. A variable pressure adjuster(20) is implemented on a main pressure path which couples a processing liquid container with a pressing unit. A pressing open/close valve(V3) is implemented on an auxiliary pressing path and couples the temporary container with the pressing unit. A controller(30) receives a liquid pressure signal from the liquid pressure detector and adjusts the pressure based on a sensor signal, so that the liquid pressure is maintained at a constant value. The control selectively switches on/off the first open/close valve and the pressing open/close valve based on existence of the pressing liquid.
Abstract translation: 提供一种用于供给用于供给处理液的控制程序的处理液和存储介质的方法和装置，以通过将可变压力调节器的压力恒定地维持在处理液容器中来提高加工精度。 在第一处理液供给路径上实施液压检测器（10），检测处理液容器内的压力。 在第一处理液体供应路径上实施第一开/关阀（V1）。 可变压力调节器（20）实现在将处理液体容器与压制单元相连接的主压力路径上。 按压开/关阀（V3）在辅助按压路径上实现，并将临时容器与压制单元联接。 控制器（30）从液体压力检测器接收液体压力信号，并根据传感器信号调节压力，使得液体压力维持在恒定值。 该控制基于按压液体的存在选择性地打开/关闭第一开/关阀和按压开/关阀。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
18
records
(took 0.024 seconds)
