公开(公告)号：KR101717879B1

公开(公告)日：2017-03-17

申请号：KR1020160058239

申请日：2016-05-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  G03F7/20

Abstract: 본발명은소수화처리모듈또는도포막형성용의단위블록에이상이발생하거나, 메인터넌스를행할때에도포, 현상장치의가동효율의저하를억제할수 있고, 기판의반송수단의동작의복잡화를방지하는기술을제공하는것이다. 서로동일한도포막이형성되는 N중화된도포용의단위블록과, 상기캐리어블록과처리블록사이의승강반송블록에있어서, 상기도포막을형성하기전의기판에대해소수화처리하기위한 N그룹의소수화모듈과, 상기 N그룹의소수화모듈로부터각각대응하는도포용의단위블록에기판을전달하도록제어되는전달기구를구비하도록도포, 현상장치를구성한다.

公开(公告)号：KR101667433B1

公开(公告)日：2016-10-18

申请号：KR1020110074341

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/16 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184

Abstract: 도포, 현상장치의처리량의저하를억제하는동시에장치의설치면적을줄인다. 처리블록은, 캐리어블록측에배치되는액처리계의단위블록군과, 이액처리계의단위블록군의인터페이스블록측에배치된가열계의블록을구비하고, 액처리계의단위블록군은, 제1 단위블록과제2 단위블록을이 순서대로상측에적층한적층체와, 이적층체에대해서로상하로적층되고, 노광후의기판을현상하기위한현상용의단위블록을서로상하로적층한적층체로구성되고, 상기제1 단위블록은, 반사방지막모듈과레지스트모듈을기판의반송로의좌우에구비하고, 상기제2 단위블록은, 상층막모듈과경화모듈을기판의반송로의좌우에구비한다.

公开(公告)号：KR101657721B1

公开(公告)日：2016-09-19

申请号：KR1020110061419

申请日：2011-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/708 ,  H01L21/6715

Abstract: 본발명의과제는처리블록의설치면적을억제하는동시에장치의가동효율의저하를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 전단처리용의단위블록을제1 전단처리용의단위블록및 제2 전단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여서로적층하고, 후단처리용의단위블록을제1 후단처리용의단위블록및 제2 후단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하고, 또한현상처리용의단위블록을제1 현상처리용의단위블록및 제2 현상처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하여처리블록을구성하고, 전단처리용의단위블록으로부터후단처리용의각 단위블록에기판을배분하여전달하는제1 전달기구와, 노광후의기판을현상처리용의단위블록에배분하여전달하는제2 전달기구를구비하도록도포, 현상장치를구성한다.

公开(公告)号：KR101485297B1

公开(公告)日：2015-01-22

申请号：KR1020140108223

申请日：2014-08-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도오끼유우이찌 ,  하야시도꾸따로오 ,  이이다나루아끼 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/681 ,  H01L21/68707 ,  H01L22/10 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 본 발명의 과제는, 조정 지그를 사용하는 일 없이 반송 위치 조정을 행하는 것이 가능한 기판 반송 장치의 위치 조정 방법을 제공하는 것이다.
기판을 반송하는 기판 반송부에 의해 기판을 보유 지지하고, 기판의 위치를 검출하는 제1 검출 스텝과, 기판 반송부에 의해 보유 지지되는 기판을, 기판을 보유 지지하여 회전하는 기판 회전부로 반송하는 스텝과, 기판 회전부에 보유 지지되는 기판을, 기판 회전부에 의해 소정의 각도만큼 회전시키는 스텝과, 기판 회전부에 의해 회전된 기판을, 기판 회전부로부터 수취하는 스텝과, 기판 반송부가 수취한 당해 기판의 위치를 검출하는 제2 검출 스텝과, 제1 검출 스텝에서 구한 기판의 위치와, 제2 검출 스텝에서 구한 기판의 위치에 기초하여, 기판 회전부의 회전 중심 위치를 파악하는 스텝과, 파악된 회전 중심 위치에 기초하여, 기판 반송부의 위치를 조정하는 스텝을 포함하는 기판 반송 장치의 위치 조정 방법이 제공된다.

公开(公告)号：KR102034344B1

公开(公告)日：2019-10-18

申请号：KR1020170079084

申请日：2017-06-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  사까따요오지 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  나까시마쯔네나가

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302

公开(公告)号：KR101841775B1

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：KR1020120070460

申请日：2012-06-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  가나가와고오조오 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명은기판의도포, 현상처리를행하는기판처리장치에있어서, 인터페이스블록(S3) 내의분위기온도의변동에관계없이, 기판을노광기(S4)에서요구되고있는목표온도로설정하는것에관한것이다. 기판을온도조절플레이트(53)에의해온도조절한후에인터페이스블록(S3)으로부터노광기(S4)로반송한다. 그리고, 온도조절플레이트(53)를통과하는온도조절유체의온도를검출하고, 설정온도에기초하여칠러(5)를제어한다. 또한, 인터페이스블록(S3) 내의분위기의온도또는당해분위기를반송된기판의온도를검출하고, 그온도에기초하여온도조절유체의설정온도를조정한다. 또는예를들어, 상기분위기의온도가목표온도로부터벗어나있을때에기판의반송속도를상기분위기의온도가목표온도일때의속도보다빨라지도록컨트롤한다.

公开(公告)号：KR101752513B1

公开(公告)日：2017-07-11

申请号：KR1020120123672

申请日：2012-11-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  사까따요오지 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  나까시마쯔네나가

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/70691 ,  H01L21/02043 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6875 ,  H01L22/20

Abstract: 노광전에기판의이면세정을행하는기능을구비한기판처리시스템에있어서, 기판처리의수율을향상시키고, 기판반송의부하를저감시킨다. 일양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는세정유닛(100)과, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는검사유닛(101)과, 각유닛(100, 101) 사이에서기판을반송하는아암을구비한웨이퍼반송기구(120, 130)와, 웨이퍼반송기구(120, 130)의동작을제어하는웨이퍼반송제어부를갖고있다. 웨이퍼반송제어부는, 검사결과, 웨이퍼의상태가세정유닛(100)에서의재세정에의해노광가능한상태로된다고판정되면, 당해웨이퍼를세정유닛(100)에다시반송하도록, 웨이퍼반송기구(120, 130)를제어한다. 다른양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는웨이퍼세정부(141)와, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는웨이퍼검사부(142)와, 웨이퍼세정부(141)와웨이퍼검사부(142) 사이에서웨이퍼(W)를반송하는반송수단(143)을갖고있다. 웨이퍼세정부(141), 웨이퍼검사부(142) 및반송수단(143)은, 하우징(140)의내부에설치되어있다.

公开(公告)号：KR1020170077084A

公开(公告)日：2017-07-05

申请号：KR1020170079084

申请日：2017-06-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  사까따요오지 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  나까시마쯔네나가

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/70691 ,  H01L21/02043 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6875 ,  H01L22/20

Abstract: 노광전에기판의이면세정을행하는기능을구비한기판처리시스템에있어서, 기판처리의수율을향상시키고, 기판반송의부하를저감시킨다. 일양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는세정유닛(100)과, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는검사유닛(101)과, 각유닛(100, 101) 사이에서기판을반송하는아암을구비한웨이퍼반송기구(120, 130)와, 웨이퍼반송기구(120, 130)의동작을제어하는웨이퍼반송제어부를갖고있다. 웨이퍼반송제어부는, 검사결과, 웨이퍼의상태가세정유닛(100)에서의재세정에의해노광가능한상태로된다고판정되면, 당해웨이퍼를세정유닛(100)에다시반송하도록, 웨이퍼반송기구(120, 130)를제어한다. 다른양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는웨이퍼세정부(141)와, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는웨이퍼검사부(142)와, 웨이퍼세정부(141)와웨이퍼검사부(142) 사이에서웨이퍼(W)를반송하는반송수단(143)을갖고있다. 웨이퍼세정부(141), 웨이퍼검사부(142) 및반송수단(143)은, 하우징(140)의내부에설치되어있다.

Abstract translation: 在具有在曝光之前执行衬底的背面清洁的功能的衬底处理系统中，衬底处理的成品率得到改善并且衬底传输的负载减小。 在一个实施方案中，该涂层和相对于所述接口站5显影具有清洁单元100，用于在处理系统中，清洗后的晶片的背表面，例如晶片的曝光的曝光装置导入晶片之前清洁至少晶片的背面 晶片传送机构120,130具有用于在每个单元100,101之间传送衬底的臂，用于在单元100,101之间传送衬底的晶片传送机构120（120） 并且用于控制晶片传送单元130的操作的晶片传送控制单元130， 晶片搬送控制部，测试的结果，如果判断出通过重新清洗曝光状态eseoui晶片清洁单元100中，晶片搬送机构（120，130，从而的状态，如本领域晶片EDA清洁单元期间传送（100） ）控制。 根据另一个方面，所述涂敷，显影接口站（5）是用于其中已清洗该晶片的晶片导入晶片在曝光装置中的处理系统的清洁部141，相对于背表面之前清洁至少所述晶片的背面表面的晶片 它有一个转印装置143，用于在曝光能够与晶片142用于检查是否在曝光装置之前的获取，携带晶片清洗部141和晶片142之间的晶片（W）。 晶圆清洁器141，晶圆检查单元142和传送单元143设置在壳体140内部。

公开(公告)号：KR101692679B1

公开(公告)日：2017-01-03

申请号：KR1020160115376

申请日：2016-09-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/708 ,  H01L21/6715

Abstract: 본발명의과제는처리블록의설치면적을억제하는동시에장치의가동효율의저하를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 전단처리용의단위블록을제1 전단처리용의단위블록및 제2 전단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여서로적층하고, 후단처리용의단위블록을제1 후단처리용의단위블록및 제2 후단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하고, 또한현상처리용의단위블록을제1 현상처리용의단위블록및 제2 현상처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하여처리블록을구성하고, 전단처리용의단위블록으로부터후단처리용의각 단위블록에기판을배분하여전달하는제1 전달기구와, 노광후의기판을현상처리용의단위블록에배분하여전달하는제2 전달기구를구비하도록도포, 현상장치를구성한다.

Abstract translation: 在一个实施例中，涂层和显影装置包括具有彼此垂直堆叠的至少一个涂膜形成单元块堆叠和显影单元块堆叠的处理块。 每个单元块堆叠由垂直堆叠的单元块组成，并且每个单元块包括包含液体处理模块和加热模块的处理模块，每个单元块设置有沿着传送通道移动的传送机构，该传送机构沿着从 载体块侧到接口块侧，以在属于单位块的处理模块之间输送基板。 第一转印单元分别设置在涂膜形成单元块和显影单元块的承载块侧上，用于将基板传送到相关的涂膜形成块或显影单元块的输送机构。 第一传送机构将从载体移除的基板传送到与涂膜形成单元块相关联的第一转印单元之一。

公开(公告)号：KR101682721B1

公开(公告)日：2016-12-05

申请号：KR1020100069751

申请日：2010-07-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리까와가쯔히로 ,  노부꾸니지까라 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명의과제는웨이퍼반송기구나노즐이동기구등의각 이동기구에대해, 각각의적절한시기에자동급지를행할수 있는도포, 현상장치를제공하는것이다. 제어부(8)는이동기체(11)에대해급지를행한후에있어서의당해이동기체(11)의사용시간을계측하여, 이동기체(11)의가이드레일(10)의단부에급지기구(3a)를설치하여, 이하의타이밍으로이동기체(11)를급지기구(3a)측으로이동시켜급지를행한다. 즉, 이동기체(11)의사용시간이미리정한급지의주기를넘었을때에, 이동기체(11)가준비기간중, 또는휴지기간중이면자동급지를행한다. 또한, 캐리어(C)로부터하나의로트의최종기판이불출되었을때에도캐리어(C)로부터다음로트의선두기판의불출을지연시켜, 상기최종기판에관한당해이동기체(11)의작업이종료된후, 이동기체(11)에대해급지를행한다.

Abstract translation: 目的：提供一种涂料显影装置，通过允许在加工其它基材的同时进料基板来提高装置的生产率。 构成：载体接收多个基板。 进给单元（3c）自动地供给基板。 在处理模块和曝光装置之间允许接口块。 接口块包括传送衬底的加载工具。