-
公开(公告)号：KR1020120028798A
公开(公告)日：2012-03-23
申请号：KR1020110074338
申请日：2011-07-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: G03F7/3021 , G03F7/162 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , H01L21/0274 , H01L21/682
Abstract: PURPOSE: A coating/developing apparatus, a method thereof, and a storage medium are provided to process a substrate in the other side unit block when one side unit block is not available, thereby preventing degradation of a processing amount. CONSTITUTION: A carrier block(S1), a processing block, and an interface block(S5) are connected into a straight line shape. An exposure apparatus(S6) for performing a dipping exposure process is connected to the interface block. A loading table(11) loads a carrier(C). A transfer arm(13) extracts a wafer from the carrier through an opening/closing part(12). The transfer arm comprises five wafer maintenance support parts(14) in up and down directions.
Abstract translation: 目的：提供一种涂布/显影装置，其方法和存储介质，以在一侧单元块不可用时处理另一侧单元块中的基板，从而防止处理量的劣化。 构成：承载块（S1），处理块和接口块（S5）被连接成直线形状。 用于进行浸渍曝光处理的曝光装置（S6）连接到界面块。 装载台（11）装载载体（C）。 传送臂（13）通过打开/关闭部分（12）从载体提取晶片。 传送臂在上下方向上包括五个晶片维护支撑部件（14）。
-
公开(公告)号：KR1020140108513A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：KR1020140108223
申请日：2014-08-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/324 , H01L21/683 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/68 , H01L21/6715 , H01L21/67748 , H01L21/681 , H01L21/68707 , H01L22/10 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: The objective of the present invention is to provide a method for adjusting the position of substrate transfer which can adjust a transfer position without using a control jig. The present invention provides a method for adjusting the position of substrate transfer which includes a first detection step of holding a substrate by a substrate transfer part which transfers the substrate and detecting the position of the substrate, a step of transferring the substrate held by the substrate transfer part to a substrate rotation part which holds the substrate to rotate, a step of allowing the substrate rotation part to rotate the substrate held by the substrate rotation part with a preset angle, a step of receiving the substrate rotated by the substrate rotation part from the substrate rotation part, a second detection step of detecting the position of the substrate received by the substrate transfer part, a step of finding the rotation center position of the substrate rotation part based on the position of the substrate obtained by the first detection step and the position of the substrate obtained by the second detection step, and a step of adjusting the position of the substrate transfer part based on the rotation center position found.
Abstract translation: 本发明的目的是提供一种用于调节基板转印位置的方法，该方法可以在不使用控制夹具的情况下调节转印位置。 本发明提供了一种用于调整基板转印位置的方法，该方法包括：第一检测步骤，通过基板转印部分保持基板，该基板转印部分传送基板并检测基板的位置;转印由基板保持的基板 将基板转动部保持在基板旋转部的基板旋转部，使基板旋转部以预定角度旋转被基板旋转部保持的基板的步骤，将基板旋转部旋转的基板从 基板旋转部，检测由基板转印部接受的基板的位置的第二检测工序;基于通过第一检测工序得到的基板的位置求出基板旋转部的旋转中心位置的步骤;以及 通过第二检测步骤获得的基板的位置和调整位置的步骤 基于发现的旋转中心位置的基板转印部件。
-
公开(公告)号：KR1020100094390A
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：KR1020100013952
申请日：2010-02-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/67017 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , Y10T408/29 , Y10T408/559 , Y10T408/5612 , B65G49/065 , H01L21/67784
Abstract: PURPOSE: A substrate transferring apparatus and a substrate processing system are provided to minimize a gas leakage to the outside of a substrate receiving container by installing a shutter. CONSTITUTION: A substrate receiving container(91) receives a substrate(W). An entering and exiting gate(98) for the substrate is formed on the lateral side of the substrate receiving container. A gas spraying unit(92) sprays gas toward the rear side of the substrate in the substrate receiving container. A controller(93) controls the amount of the gas from the gas spraying unit and controls the height of the substrate in the substrate receiving container.
Abstract translation: 目的：提供基板输送装置和基板处理系统，以通过安装快门来最小化对基板接收容器外部的气体泄漏。 构成：基板接收容器（91）容纳基板（W）。 在基板接收容器的侧面上形成用于基板的进出口（98）。 气体喷射单元（92）朝向基板接收容器中的基板的后侧喷射气体。 控制器（93）控制来自气体喷射单元的气体的量并且控制基板接收容器中的基板的高度。
-
公开(公告)号：KR101597368B1
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：KR1020100013952
申请日：2010-02-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/67017 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , Y10T408/29 , Y10T408/559 , Y10T408/5612
Abstract: 본발명의과제는기판의반송을행하는데 있어서, 기판에파티클이부착되는것을억제하여, 기판의처리시스템에서제조되는제품의수율을향상시키는것이다. 기판반송장치는, 내부에기판을수용하고, 측면에기판의반입출구(98)가형성된기판수용용기(91)와, 기판수용용기내(91)의기판(W)의이면을향해소정의가스를분사하는가스분사부(92)와, 가스분사부(92)로부터공급되는상기소정의가스의공급량을조정하여상기기판수용용기내(91)의기판(W)을소정의높이로제어하는제어부(93)를갖고있다.
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101485297B1
公开(公告)日：2015-01-22
申请号：KR1020140108223
申请日：2014-08-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/324 , H01L21/683 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/68 , H01L21/6715 , H01L21/67748 , H01L21/681 , H01L21/68707 , H01L22/10 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 본 발명의 과제는, 조정 지그를 사용하는 일 없이 반송 위치 조정을 행하는 것이 가능한 기판 반송 장치의 위치 조정 방법을 제공하는 것이다.
기판을 반송하는 기판 반송부에 의해 기판을 보유 지지하고, 기판의 위치를 검출하는 제1 검출 스텝과, 기판 반송부에 의해 보유 지지되는 기판을, 기판을 보유 지지하여 회전하는 기판 회전부로 반송하는 스텝과, 기판 회전부에 보유 지지되는 기판을, 기판 회전부에 의해 소정의 각도만큼 회전시키는 스텝과, 기판 회전부에 의해 회전된 기판을, 기판 회전부로부터 수취하는 스텝과, 기판 반송부가 수취한 당해 기판의 위치를 검출하는 제2 검출 스텝과, 제1 검출 스텝에서 구한 기판의 위치와, 제2 검출 스텝에서 구한 기판의 위치에 기초하여, 기판 회전부의 회전 중심 위치를 파악하는 스텝과, 파악된 회전 중심 위치에 기초하여, 기판 반송부의 위치를 조정하는 스텝을 포함하는 기판 반송 장치의 위치 조정 방법이 제공된다.-
公开(公告)号：KR101667432B1
公开(公告)日：2016-10-18
申请号：KR1020110074338
申请日：2011-07-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: G03F7/3021 , G03F7/162 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67745
Abstract: 본발명의과제는도포, 현상장치의처리량의저하를억제하는동시에장치의설치면적을억제할수 있는기술을제공하는것이다. 액처리계의단위블록군과, 이단위블록군의캐리어블록측에배치된제1 가열계의블록과, 상기액처리계의단위블록군의인터페이스블록측에배치된제2 가열계의블록을구비하도록처리블록을구성하여, 액처리계의단위블록군은반사방지막및 레지스트막을형성하는전단처리용단위블록을이중화한것과, 상층막을형성하여, 노광전에세정을행하는후단처리용단위블록을이중화한것과, 현상처리를행하는단위블록을포함하도록구성하여, 제1 가열계의블록은레지스트도포후 및현상후의기판을가열하고, 제2 가열계의블록은노광후 현상전, 반사방지막형성후 및상층막형성후의각 기판을가열한다.
-
公开(公告)号：KR101478401B1
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：KR1020120020782
申请日：2012-02-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/68 , H01L21/6715 , H01L21/67748 , H01L21/681 , H01L21/68707 , H01L22/10 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 본 발명의 과제는, 조정 지그를 사용하는 일 없이 반송 위치 조정을 행하는 것이 가능한 기판 반송 장치의 위치 조정 방법을 제공하는 것이다.
기판을 반송하는 기판 반송부에 의해 기판을 보유 지지하고, 기판의 위치를 검출하는 제1 검출 스텝과, 기판 반송부에 의해 보유 지지되는 기판을, 기판을 보유 지지하여 회전하는 기판 회전부로 반송하는 스텝과, 기판 회전부에 보유 지지되는 기판을, 기판 회전부에 의해 소정의 각도만큼 회전시키는 스텝과, 기판 회전부에 의해 회전된 기판을, 기판 회전부로부터 수취하는 스텝과, 기판 반송부가 수취한 당해 기판의 위치를 검출하는 제2 검출 스텝과, 제1 검출 스텝에서 구한 기판의 위치와, 제2 검출 스텝에서 구한 기판의 위치에 기초하여, 기판 회전부의 회전 중심 위치를 파악하는 스텝과, 파악된 회전 중심 위치에 기초하여, 기판 반송부의 위치를 조정하는 스텝을 포함하는 기판 반송 장치의 위치 조정 방법이 제공된다.-
公开(公告)号：KR1020120100764A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：KR1020120020782
申请日：2012-02-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/68 , H01L21/6715 , H01L21/67748 , H01L21/681 , H01L21/68707 , H01L22/10 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: PURPOSE: A positioning method of a substrate transfer apparatus and a substrate processing apparatus are provided to easily control a transfer position without using an alignment jig. CONSTITUTION: A carrier station(S1) has a loading table(21) and a transfer apparatus(C). A carrier(20) accepting a wafer(W) is loaded on the loading table. The transfer apparatus extracts a wafer from a carrier and transfers the wafer to a process station(S2). The process station has a shelf unit(U1), a shelf unit(U2), a first block(B1), and a second block. The shelf unit has a transmission module which is successively laminated from a lower portion.
Abstract translation: 目的：提供一种基板传送装置和基板处理装置的定位方法，以便不使用对准夹具便于控制传送位置。 构成：承载站（S1）具有装载台（21）和搬送装置（C）。 接收晶片（W）的载体（20）被装载在装载台上。 传送装置从载体提取晶片并将晶片传送到处理站（S2）。 处理站具有搁架单元（U1），搁架单元（U2），第一块（B1）和第二块。 搁架单元具有从下部依次层叠的传输模块。
-
公开(公告)号：KR1020110090753A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：KR1020100125400
申请日：2010-12-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 도오끼유우이찌
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B25J19/06
CPC classification number: G06F7/00 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/67742 , B25J9/1633 , B25J9/1664 , H01L21/67259 , H01L21/68707
Abstract: PURPOSE: A substrate transfer apparatus, a substrate transfer method and a storage medium are provided to detect the state of a substrate based on the variation of a sensor which is changed the weight of the substrate. CONSTITUTION: In a substrate transfer apparatus, a substrate transfer method and a storage medium, a frame is capable of being lifted and advancing and retreating and surrounds a substrate. More than three maintaining units are protruded to the inside from the inner circumference of the frame and are formed along the inner circumference, and it holds the main circumference of the backside of the substrate. A sensor(4D) is installed in the each maintaining unit and detects the variation of the maintaining unit when receiving the weight of the substrate downwardly. A determination unit ascends the maintaining frame and determines the state of the substrate based on the variation of the sensor when the substrate is vertically stood in a substrate holding unit.
Abstract translation: 目的：提供基板转印装置，基板转印方法和存储介质，以基于改变基板重量的传感器的变化来检测基板的状态。 构成：在基板输送装置，基板转印方法和存储介质中，框架能够被提起并前进和后退并且围绕基板。 三个保持单元从框架的内周向内侧突出，并且沿着内周形成，并且保持基板的背面的主圆周。 传感器（4D）安装在每个保持单元中，并在向下接收基板的重量时检测保持单元的变化。 确定单元上升维护框架，并且当基板垂直站立在基板保持单元中时，基于传感器的变化确定基板的状态。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.022 seconds)
