公开(公告)号：KR1020100064335A

公开(公告)日：2010-06-14

申请号：KR1020090117044

申请日：2009-11-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/16 ,  G03F7/3092 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70933

Abstract: PURPOSE: A processing liquid supplying apparatus is provided to improve process efficiency by efficiently removing a gas dissolved in the processing liquid regardless of the kind of the processing liquid. CONSTITUTION: A buffer tank is connected to an atmosphere side. An N2 gas supply source and the buffer tank are connected through a gas supply pipeline. A circular pipeline(8) is comprised of a drain pipeline(7c) and a return pipeline(8a). The drain pipeline is connected to a filter. The return pipeline is branched from the drain pipeline and is connected to the supply pipeline between a chemical solution container and the buffer tank. A variable throttle(9) is installed on the circular pipeline and bubbles a gas dissolved in a resist liquid by reducing the hydraulic pressure of the resist liquid flowing in the circular pipeline.

Abstract translation: 目的：提供一种处理液体供给装置，通过有效地除去溶解在处理液中的气体来提高处理效率，而不管处理液的种类如何。 构成：缓冲罐连接到大气层。 氮气供应源和缓冲罐通过供气管道连接。 圆形管道（8）由排水管道（7c）和返回管道（8a）组成。 排水管道连接到过滤器。 返回管道从排水管道分支，并连接到化学溶液容器和缓冲罐之间的供应管道。 可变节气门（9）安装在圆形管道上，通过减小在圆形管道中流动的抗蚀剂液体的液压，使溶解在抗蚀剂液体中的气体气泡。

公开(公告)号：KR101872056B1

公开(公告)日：2018-06-27

申请号：KR1020140130245

申请日：2014-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 데라시타유이치 ,  요시하라고우스케 ,  다카야나기고지 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67017

Abstract: 처리액을쓸데없이소비하지않고서, 처리액중의파티클의증가를효율적으로억제하는것을목적으로한다. 피처리체를처리하기위한처리액을공급하는처리액공급원과, 상기처리액공급원에공급로를통해접속되며, 상기처리액을피처리체에토출하는토출부와, 상기공급로에설치되며, 처리액중의이물을제거하기위한필터장치와, 상기공급로에있어서의필터장치의일차측및 이차측에각각설치된공급펌프및 토출펌프와, 상기처리액공급원으로부터공급된처리액을, 상기공급펌프및 토출펌프중 적어도한쪽을이용해서감압하여탈기하고, 계속해서탈기된처리액을상기공급펌프및 토출펌프를이용하여상기필터장치의일차측으로부터이 필터장치를통해이차측으로통과시키도록제어신호를출력하는제어부를구비하도록장치를구성한다.

公开(公告)号：KR1020150051157A

公开(公告)日：2015-05-11

申请号：KR1020140148347

申请日：2014-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  다카야나기고지 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시 ,  이시마루다이스케

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/0274

Abstract: 본발명의과제는, 처리액중의이물질을높은포집율로포집할수 있는기술을제공하는것이다. 처리액용기(60)로부터의처리액을노즐(7)로부터토출하는데 있어서, 펌프(70)의 2차측에필터(52)의 1차측을접속하고, 필터(52)를통과한레지스트액(L)을공급원측으로복귀시킴과함께, 복귀시킨처리액과처리액용기(60)로부터보충되는처리액을합성하고있다. 그리고처리액을버퍼탱크(61)로복귀시킬때 및합성한레지스트액(L)을상기펌프(70)에흡입할때 중적어도한쪽에있어서, 필터(52)를통과시키고있다. 이로인해, 필터(52)의개수를억제하면서예를들어 1개의필터(52)를사용하면서, 처리액중의이물질을높은포집율로포집할수 있다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供能够以高收集率收集处理溶液的异物的技术。 当处理溶液通过喷嘴（7）从处理溶液容器（60）排出时，过滤器（52）的初级侧连接到泵（70）的次级侧。 通过过滤器（52）的抗蚀剂溶液（L）被还原到供给源。 用从处理溶液容器（60）补充的处理溶液合成还原的处理溶液。 并且，当缓冲罐（61）中还原处理溶液并且将合成的抗蚀剂溶液（L）吸收到泵（70）中时，至少一个通过过滤器（52）。 由此，抑制了过滤器（52）的数量。 例如，使用一个过滤器（52），并以高收集率收集处理溶液的异物。

公开(公告)号：KR1020140045879A

公开(公告)日：2014-04-17

申请号：KR1020130113946

申请日：2013-09-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시다유이치 ,  나이토우료우이치로우 ,  후루쇼도시노부

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B01D36/001 ,  B01D19/0036 ,  B01D37/046 ,  B01D2201/202 ,  B01D2201/204 ,  B01D2221/14 ,  C02F1/20 ,  C02F2103/346 ,  C02F2209/03 ,  F04B53/20 ,  G03C2001/7437 ,  H01L21/02008 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  H01L21/0273

Abstract: The present invention provides a technique for reducing treating fluid consumed for removing bubbles from a filter part and reducing driving time when the filter part is attached to a treating fluid supply path. The present invention performs the process of filling the treating fluid in the filter part; the process of forming the inside of the filter part into a first pressure atmosphere, which is negative pressure, for removing the bubbles from the filter part; then, the process of boosting the inside of the filter part; then, the process of controlling the treating fluid to through flow the filter part from a first side with the second side of the filter part being in a second pressure atmosphere higher than the first pressure atmosphere; and the process of performing fluid treatment by supplying the treating fluid through flew the filter part to an object through a nozzle. The bubbles can be removed rapidly through above processes. [Reference numerals] (1) Resist applying device; (10) Control part; (2) Resist supplying source; (25) pump; (3) Filter part; (4) Voltage reducing part; (AA) Drain path; (BB) Air; (CC) Exhaust; (DD) Air supply; (EE) Air discharge

Abstract translation: 本发明提供了一种减少处理从过滤器部分除去气泡所消耗的流体并减少当过滤器部件附接到处理流体供给路径时的驱动时间的技术。 本发明执行在过滤器部分中填充处理流体的过程; 将过滤器部分的内部形成为用于从过滤器部分除去气泡的作为负压的第一压力气氛的过程; 然后，对过滤器部件内部进行升压的过程; 则处理流体的控制过程使过滤器部分从第一侧与过滤器部分的第二侧通过，处于高于第一压力气氛的第二压力气氛中; 以及通过将处理流体通过喷嘴将过滤器部件飞过物体而进行流体处理的过程。 气泡可以通过上述方法快速去除。 （附图标记）（1）抗蚀剂涂布装置; （10）控制部分; （2）抗蚀剂供应源; （25）泵; （3）过滤器部件; （4）降压部分; （AA）排水路径; （BB）空气; （CC）排气; （DD）供气; （EE）排气

公开(公告)号：KR1020130057984A

公开(公告)日：2013-06-03

申请号：KR1020127027167

申请日：2011-03-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로 ,  요시하라고우스케 ,  야마모토유스케 ,  호닉슈테펜

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  B01D35/26

CPC classification number: B05D1/02 ,  B01D29/56 ,  B01D35/02 ,  B05C9/06 ,  B05C11/10 ,  F17D1/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  Y10T137/794 ,  B01D35/26 ,  B05C11/1002 ,  H01L21/0274

Abstract: 본 발명의 약액 공급 시스템은, 약액을 저류하는 제1 용기 및 제2 용기와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제1 배관에 설치되고, 제1 용기에 저류된 약액을 제2 용기로 흘려보내는 제1 펌프와, 제1 배관에 설치되고, 제1 용기로부터 제2 용기를 향하여 제1 배관 내를 흐르는 약액을 여과하는 제1 필터와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제2 배관과, 제2 배관에 설치되고, 제2 용기에 저류된 약액을 제1 용기로 흘려보내는 제2 펌프를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020130049732A

公开(公告)日：2013-05-14

申请号：KR1020120122979

申请日：2012-11-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고우스케 ,  후루쇼도시노부

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0022 ,  G03F7/16 ,  Y10T137/794 ,  H01L21/0273

Abstract: PURPOSE: A processing liquid supplying method, a computer storage medium, and a processing liquid supplying apparatus are provided to reduce a defect of a substrate by preventing inner foreign materials. CONSTITUTION: A resist liquid supplying source supplies resist liquid. A supply tube supplies the resist liquid from the resist liquid supplying source to a spray nozzle. A pump(104) circulates the resist liquid. A filter(105) collects and separates foreign materials from the resist liquid. A trap(106) blocks the circulation of the resist liquid.

Abstract translation: 目的：提供处理液供给方法，计算机存储介质和处理液供给装置，以通过防止内部异物来减少基板的缺陷。 构成：抗蚀剂液体供应源提供抗蚀剂液体。 供应管将抗蚀剂液体从抗蚀剂液体供应源提供给喷嘴。 泵（104）使抗蚀剂液体循环。 过滤器（105）收集并分离异物与抗蚀剂液体。 捕集器（106）阻挡抗蚀剂液体的循环。

公开(公告)号：KR102030945B1

公开(公告)日：2019-10-10

申请号：KR1020187012327

申请日：2013-02-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  이치노가츠노리 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시 ,  츠치야가츠히로 ,  데라시타유이치 ,  다케구치히로후미

IPC: H01L21/027

公开(公告)号：KR1020150039565A

公开(公告)日：2015-04-10

申请号：KR1020140130111

申请日：2014-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카야나기고지 ,  요시하라고오스케 ,  데라시타유이치 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: F17D3/01 ,  F17C1/00 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/794 ,  H01L21/0274

Abstract: 본발명의과제는, 처리액인레지스트액(L)을토출노즐(7)로부터토출시킴에있어서, 스루풋의저하를억제하면서, 하나의필터(52)를사용하여당해레지스트액(L)의청정화를도모하는것이다. 레지스트액(L)이통류하는공급관로(51)에, 필터(52)와펌프(70) 또는펌프(111, 112)를설치한다. 그리고, 필터(52)를통과한레지스트액(L)의일부를토출노즐(7)로부터토출시킴과함께, 나머지의레지스트액(L)을필터(52)의 1차측으로복귀시켜서, 후속의토출동작시, 당해나머지의레지스트액(L)에대해서, 다시필터(52)를통과시킨다. 이러한동작시퀀스에있어서, 필터(52)의 1차측으로복귀시키는레지스트액(L)의복귀량에대해서, 토출노즐(7)로부터토출되는레지스트액(L)의공급량과동일하거나, 또는당해공급량보다도많아지도록설정한다.

Abstract translation: 本发明的目的在于，当从注射喷嘴（7）注入作为处理溶液的配准溶液（L）时，通过过滤器（52）来防止生产量的恶化和净化对准溶液（L）。 过滤器（52）和泵（70）或泵（111,112）安装在配准溶液（L）通过的供给管（51）中。 并且，通过过滤器（52）的配准溶液（L）的一部分从注射喷嘴（7）喷射。 同时，寄存器解决方案（L）的其余部分返回到过滤器（52）的主要部分。 在后续的注入操作中，寄存器解决方案（L）的其余部分再次通过过滤器（52）。 在操作顺序中，返回到过滤器（52）的主要部分的配准溶液（L）的量与从喷嘴（7）供给的配准溶液（L）的量相同或更多 比供应量多。

公开(公告)号：KR101487364B1

公开(公告)日：2015-01-29

申请号：KR1020090117044

申请日：2009-11-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

Abstract: 본 발명은 처리액의 낭비를 없앨 수 있으며, 폐액 내에 용존(溶存)하는 가스를 효율적으로 제거할 수 있고, 처리액의 종류에 영향을 받는 일 없이 처리의 최적화를 도모할 수 있으며, 처리 효율의 향상을 도모할 수 있도록 하는 것을 과제로 한다.
기체 공급 관로(6a)를 통해 N
2 가스 공급원(71)에 접속되는 약액 용기와, 피처리 기판에 처리액을 공급하는 공급 노즐(70a)을 접속하는 공급 관로(7a, 7b)에 버퍼 탱크(2)와 필터(3)를 개재한다. 버퍼 탱크를 대기측에 연통 가능하게 형성하며, 기체 공급 관로(6b)를 통해 N
2 가스 공급원(71)과 버퍼 탱크를 접속한다. 필터(3)에 접속되는 드레인 관로(7c)와, 드레인 관로로부터 분기되고, 약액 용기와 버퍼 탱크 사이의 공급 관로에 접속되는 리턴 관로(8a)로 이루어지는 순환 관로(8)를 설치하며, 순환 관로에 설치된 가변 스로틀(9)에 의해 순환 관로 내를 흐르는 레지스트액의 액압을 저하심켜 레지스트액 내에 용존하는 기체를 기포화하여 제거한다.

公开(公告)号：KR1020140129040A

公开(公告)日：2014-11-06

申请号：KR1020147023306

申请日：2013-02-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  이치노가츠노리 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시 ,  츠치야가츠히로 ,  데라시타유이치 ,  다케구치히로후미

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/302 ,  B01D19/00 ,  B05C11/10 ,  G03F7/30

CPC classification number: B01D19/0063 ,  B01D19/0031 ,  B01D19/0068 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/0274

Abstract: 피처리 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급 노즐에 접속되는 액 처리 장치이며, 처리액 저류 용기와 당해 처리액 공급 노즐을 접속하는 공급관로와, 공급관로에 설치된 필터 장치와, 필터 장치의 2차측의 펌프와, 펌프의 토출측과 필터 장치의 흡입측을 접속하는 순환관로와, 펌프의 2차측의 공급관로에 설치된 공급 제어 밸브와, 순환관로에 설치된 순환 제어 밸브와, 펌프, 공급 제어 밸브 및 순환 제어 밸브를 제어하는 제어 장치를 구비하고, 제어 장치에 의해, 공급 제어 밸브를 폐쇄함으로써 당해 처리액 공급 노즐로부터 피처리 기판으로의 처리액의 공급이 정지하고 있을 때에, 순환 제어 밸브를 개방하여, 펌프를 구동하고, 필터 장치를 갖는 공급관로와 순환관로 사이에서 처리액이 순환된다.

Abstract translation: 一种与供给处理溶液供给到基板的供给喷嘴连接的固溶处理装置，具备：将处理液储存容器与供给喷嘴连接的供给管路; 设置在所述供给管道中的过滤装置; 过滤装置的二次侧的泵; 连接泵的排出侧和过滤装置的进气侧的循环管路; 供给控制阀，其设置在所述供给管路中的所述泵的次级侧; 设置在循环管道中的循环控制阀; 以及控制单元，其中，当通过关闭所述供给控制阀来停止从所述供给喷嘴向所述基板供给所述处理液时，所述控制单元打开所述循环控制阀并驱动所述泵，从而使所述处理液在所述供给管线 具有过滤装置和循环管道。