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公开(公告)号：KR100543570B1
公开(公告)日：2006-01-20
申请号：KR1019990032186
申请日：1999-08-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/324
CPC classification number: B05D3/0209 , B05D1/005 , G03F7/168
Abstract: 도포액, 예를 들어 레지스트액이 도포된 기판을 제 1 소정온도로 가열하고, 이 가열 후에 기판을 비가열상태로 하여, 이 비가열공정 후에 기판을 제 2 소정온도로 가열한다. 또는, 레지스트액이 도포된 기판을 가열하는 가열공정과, 이 가열 후에 기판을 비가열상태로 하는 비가열공정을 여러번 반복한다. 이와 같은 처리방법을 사용함으로써, 레지스트액 등의 막두께 불균일 및 회로 패턴 선폭 변동의 지표인 전사의 발생을 억제시키는 것이 가능하여 기판처리의 수율(收率)을 향상시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR100366602B1
公开(公告)日：2003-05-01
申请号：KR1019970041992
申请日：1997-08-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
Abstract: A coating apparatus has a spin chuck for attracting and holding a semiconductor wafer in a horizontal state by means of vacuum. A movable beam is arranged above the spin chuck. The movable beam includes first and second nozzles integrally formed. The first nozzle is used for supplying a photo-resist liquid while the second nozzle is used for supplying a solvent for the photo-resist liquid. When a coating process is performed, the movable beam above the wafer is horizontally moved in one direction. The solvent is first supplied onto the wafer from the second nozzle, and the coating or photo-resist liquid is then supplied from the first nozzle, following the solvent. Wettability of the wafer relative to the photo-resist is increased by the solvent, prior to supply of the photo-resist liquid.
Abstract translation: 涂布设备具有旋转卡盘，用于通过真空吸引并保持水平状态的半导体晶片。 旋转卡盘上方设有可移动的横梁。 可移动梁包括整体形成的第一和第二喷嘴。 第一喷嘴用于供应光刻胶液体，而第二喷嘴用于供应光刻胶液体的溶剂。 当执行涂覆工艺时，晶片上方的可移动梁在一个方向上水平移动。 首先将溶剂从第二喷嘴供应到晶片上，然后从溶剂后的第一喷嘴供应涂层或光刻胶液体。 在提供光致抗蚀剂液体之前，通过溶剂增加晶片相对于光致抗蚀剂的润湿性。
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公开(公告)号：KR1019960042125A
公开(公告)日：1996-12-21
申请号：KR1019960017656
申请日：1996-05-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 레지스트 도포장치는, 승강가능하게 설치되고, 수취한 기판을 유지하고, 기판과 함께 스핀회전하는 스핀척과, 이 스핀척상의 기판에 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급원과, 스핀척상의 기판을 둘러싸고, 스핀척과 연동하여 회전되고, 기판으로 부터 원심분리되는 레지스트액을 받는 회전컵과, 이 회전컵 주위에 설치되고, 회전컵내로 부터 방출되는 폐기물을 받아내고, 받아낸 폐기물이 모이는 집합공간을 가지는 드레인컵과, 이 집합공간에 개구하는 배액구를 가지며, 이 배액구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 액체성분을 배출하는 배액통로와, 집합공간에 연이어 통하는 배기구를 가지며,이 배기구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 가스성분을 배기하는 배기통로와, 가스성분을 집합공간로 부터 배기통로쪽으로 안내하기 위해서, 적 도 배액구보다도 높은 위치에 설치된 배기안내통로와, 이 배기안내통로에 설치되고, 가스성분을 따라 가는 기류가 충돌하면, 이것에 포함되는 액체성분은 응측시키고, 액체성분이 배기통로쪽으로 가는 것을 저지하는 기액분리부재를 구비한다.
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公开(公告)号：KR100367163B1
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：KR1019980031131
申请日：1998-07-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 아나이노리유키
IPC: G02F1/13
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162 , Y10S134/902
Abstract: Disclosed is an apparatus for removing a coated film from a peripheral portion of a substrate, comprising a section for holding a rectangular substrate horizontal, a surrounding member for surrounding a peripheral portion of the substrate held by the holding section, a discharge section mounted to face an upper peripheral portion of the substrate held by the holding section, rotatable about its longitudinal axis, a supply mechanism for supplying a solvent capable of dissolving the coated film into the solvent discharge section, a discharge rate controller for controlling the discharge rate of the solvent from the discharge section, a rotating mechanism for rotating the discharge section about its longitudinal axis between a first position in which the discharge port faces perpendicularly downward the front surface of the substrate and a second position, a suction mechanism, and control means for controlling the operation of each of the controller and the rotating mechanism.
Abstract translation: 本发明公开了一种用于从基板的周边部分去除涂膜的装置，包括用于保持矩形基板水平的部分，用于围绕由保持部分保持的基板周边部分的围绕部件，放电部分， 由所述保持部保持的所述基板的上部周边部分，所述基板的上部周边部分可围绕其纵向轴线旋转;供应机构，用于将能够溶解所述涂布膜的溶剂供应到所述溶剂排出部分;放电率控制器，用于控制所述溶剂的放电率 从排出部分取出用于使排出部分围绕其纵向轴线在第一位置和第二位置之间旋转的旋转机构，该第一位置中排出口垂直面向基板的前表面面向第二位置，吸入机构和控制装置用于控制 操作每个控制器和旋转机构。
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公开(公告)号：KR1019990088393A
公开(公告)日：1999-12-27
申请号：KR1019990017997
申请日：1999-05-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 기판을스핀척에보유·유지하고, 기판표면을가로지르는제 1방향전체에걸쳐배치된레지스트파이프의하측에위치하는복수의레지스트노즐로부터, 기판표면에대하여소정간격을띄우고있는복수의위치에레지스트액을공급하고, 그후 기판을요동및 회전시킴으로써기판상의레지스트액을균일하게퍼지게하여막두께가얇은도막(塗膜)을형성시킨다. 높은점도(粘度)의도포액및 낮은점도의도포액에대한대응성이뛰어나고, 처리제의점도및 종류에구애받지않고넓은범위의처리제를사용할수 있고, 노즐과기판과의사이의간격및 노즐크기의정도(精度)등의기계적정도를완화시킬수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100212023B1
公开(公告)日：1999-08-02
申请号：KR1019960017656
申请日：1996-05-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 레지스트 도포장치는, 승강가능하게 설치되고, 수취한 기판을 유지하고, 기판과 함께 스핀회전하는 스핀척과, 이 스핀척상의 기판에 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급원과, 스핀척상의 기판을 둘러싸고, 스핀척과 연동하여 회전되고, 기판으로 부터 원심분리되는 레지스트액을 받는 회전컵과, 이 회전컵 주위에 설치되고, 회전컵내로 부터 방출되는 폐기물을 받아내고, 받아낸 폐기물이 모이는 집합공간을 가지는 드레인컵과, 이 집합공간에 개구하는 배액구를 가지며, 이 배액구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 액체성분을 배출하는 배액통로와, 집합공간에 연이어 통하는 배기구를 가지며, 이 배기구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 가스성분을 배기하는 배기통로와, 가스성분을 집합공간로 부터 배기통로쪽으로 안내하기 위해서, 적 어도 배액구보다도 높은 위치에 설치된 배기안내통로와, 이 배기안내통로에 설치되고, 가스성분을 따라 가는 기류가 충돌하면, 이것에 포함되는 액체성분은 응측시키고, 액체성분이 배기통로쪽으로 가는 것을 저지하는 기액분리부재를 구비한다.
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公开(公告)号：KR100650807B1
公开(公告)日：2006-11-27
申请号：KR1020000033210
申请日：2000-06-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 상자모양으로 형성된 수용박스의 내부에 처리대상이 되는 유리기판을 지지함과 동시에 송풍팬에 의해 기판출입구 형성면에 대향하는 면 측으로부터 해당 기판출입구를 통하여 외부로 흐르는 기류(氣流)를 형성하고 있다. 이 때문에 기판출입구가 상시 열려 있어도 수용박스 밖에 부유(浮游)하는 파티클이 수용박스 안으로 침입하는 것은 없다. 따라서 유리기판의 반송영역을 클린환경으로 할 필요가 없어져, 클린환경의 형성코스트를 큰 폭으로 삭감하는 것이 가능하다. 또 기판출입구가 상시 열려 있어, 해당 기판출입구를 개폐하는 개폐기구가 설치되어 있지 않으므로, 기판의 전달을 신속히 행하는 것이 가능하다.
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公开(公告)号：KR100523224B1
公开(公告)日：2005-10-24
申请号：KR1019990017997
申请日：1999-05-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 기판을 스핀척에 보유·유지하고, 기판 표면을 가로지르는 제 1방향 전체에 걸쳐 배치된 레지스트 파이프의 하측에 위치하는 복수의 레지스트 노즐로부터, 기판 표면에 대하여 소정 간격을 띄우고 있는 복수의 위치에 레지스트액을 공급하고, 그 후 기판을 요동 및 회전시킴으로써 기판상의 레지스트액을 균일하게 퍼지게 하여 막두께가 얇은 도막(塗膜)을 형성시킨다. 높은 점도(粘度)의 도포액 및 낮은 점도의 도포액에 대한 대응성이 뛰어나고, 처리제의 점도 및 종류에 구애받지 않고 넓은 범위의 처리제를 사용할 수 있고, 노즐과 기판과의 사이의 간격 및 노즐 크기의 정도(精度)등의 기계적 정도를 완화시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020010021000A
公开(公告)日：2001-03-15
申请号：KR1020000033210
申请日：2000-06-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: A substrate transfer device is provided to reduce as little as possible the space needed for cleaning of the transfer area of a glass substrate in the substrate transfer device. CONSTITUTION: With a glass substrate, which is provided as a treatment object and supported in the interior of a housing box(50) formed into a box type, air flow to flow from the sides of the surfaces, which is opposed to the formed surface of a substrate gateway(51) of the gateway(51) to the outside through the gateway(51) is formed by blast fans(49). Because of this, even though the gateway(51) is always open, particles floating outside of the box(50) will not infiltrate into the box(50). Accordingly, the need for keeping the transfer area of the glass substrate in a clean environment is eliminated, and the forming cost of the clean environment can be reduced. Moreover, since the gateway(51) is always open and an opening and shutting mechanism for opening and shutting the gateway(51) is not provided, delivery of the substrate can be performed rapidly.
Abstract translation: 目的：提供一种衬底转移装置，以尽可能少地减少用于清洁衬底转移装置中的玻璃衬底的转移区域所需的空间。 构成：作为处理对象而设置并被支撑在形成为箱型的容纳箱（50）的内部的玻璃基板，从与形成表面相对的表面侧流动的空气流 通过网关（51）将网关（51）的基板网关（51）连接到外部，由鼓风扇（49）形成。 因此，即使网关（51）总是打开，浮动在箱体（50）外面的颗粒将不会渗透到箱体（50）中。 因此，消除了将玻璃基板的转印面保持在清洁环境中的需要，能够降低清洁环境的成形成本。 此外，因为网关51始终是打开的，并且不设置用于打开和关闭网关51的打开和关闭机构，所以可以快速地执行基板的传送。
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公开(公告)号：KR1020000017112A
公开(公告)日：2000-03-25
申请号：KR1019990032185
申请日：1999-08-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C11/08 , G02B5/201 , G03F7/0007 , G03F7/162 , G03F7/3021 , Y10S430/136
Abstract: PURPOSE: A coating and developing method is provided to miniaturize of an apparatus and reduce cost of the products by using a singular coating and development system. CONSTITUTION: The coating and development method comprises the steps of: coating of a selective resist among the plural color resist on a wafer; cleaning of a nozzle with cleaning solution; loading to the exposure apparatus to coated wafer with photoresist; developing of the wafer, repeat sequentially after; depositing of a cassette; and drying using a reduce pressure of the wafer. Thereby it is possible to reduce cost of the products and miniaturize of the apparatus by using a singular unit system instead of using in the each process, individually.
Abstract translation: 目的：提供涂料和显影方法以使装置小型化并且通过使用单一涂布和显影系统降低产品成本。 构成：涂布和显影方法包括以下步骤：在晶片上的多个着色抗蚀剂之间涂覆选择性抗蚀剂; 用清洗液清洗喷嘴; 将曝光装置加载到具有光致抗蚀剂的涂覆晶片; 开发晶圆后，依次重复; 存放盒子; 并使用晶片的减压进行干燥。 因此，可以通过使用单个单元系统来代替在每个处理中单独使用来降低产品的成本并使装置小型化。
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