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公开(公告)号:KR1020030041151A
公开(公告)日:2003-05-23
申请号:KR1020037004934
申请日:2001-09-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 마이어데이비드더블유. , 베사우쉘레허브에이. , 어쇼브알렉산더아이. , 파틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스팔라쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고브이. , 우자츠도우스키리차드씨. , 판지아오지앙제이. , 온켈스에케하르트디. , 네스리차드엠. , 브라운다니엘제이.더블유.
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S3/2366 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333
Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라메터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라메터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.
Abstract translation: 一种注入式模块化气体放电激光系统,能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。 提供了两个独立的放电室,其中一个是主振荡器的一部分,产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 这些室可以分开控制,允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。 在优选的MOPA实施例中,每个腔室包括单个切向风扇,该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。 主振荡器配备有线变窄的封装,该封装具有非常快速的调谐反射镜,其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长,精度低于0.2μm。
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公开(公告)号:KR101681239B1
公开(公告)日:2016-11-30
申请号:KR1020117011180
申请日:2009-10-20
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 예홍 , 로키츠키로스티스라바 , 베르그스텟로버트에이. , 에르쇼프알렉산더아이. , 리우로렌 , 비아텔라존더블유. , 라오라야세카르에이치. , 시불스키레이몬드에프. , 더피토마스피. , 브라운다니엘제이.더블유. , 페렐제임스제이.
CPC classification number: G02B5/04 , G02B5/12 , H01S3/0057 , H01S3/0346 , H01S3/081 , H01S3/225
Abstract: 개시된본 발명의형태는빔 리버서의레이저흡수를줄이는방법을포함하고, 본방법은프리즘의제1 반사면 상에있는제1 입사포인트와, 프리즘의제1 반사면과제2 반사면사이에형성되어있고챔퍼된면을가지는챔퍼된코너사이의제1 거리를증가시키는단계; 프리즘의제2 반사면 상에있는제2 입사포인트와, 챔퍼된코너사이의제2 거리를증가시키는단계; 및프리즘의챔퍼된코너의챔퍼된면의반사율을높이는단계중 적어도하나의단계를포함한다. 광컴포넌트에대한프라임컷을판정하는방법이또한개시된다. 적어도하나의프라임컷 광컴포넌트를포함하는레이저가또한개시된다.
Abstract translation: 所公开的主题的一个方面包括减少由以下至少之一组成的光束反向棱镜的激光吸收的方法:增加第一入射点和倒角之间的第一距离,其中第一入射点在 在棱镜的第一反射面和第二反射面之间形成棱镜的第一反射面和倒角,其中倒角具有倒角面; 增加第二入射点和倒角之间的第二距离,其中第二入射点在棱镜的第二反射表面上; 并且增加棱镜倒角的倒角表面的反射率。 还公开了一种确定光学部件的主切割的方法。 还公开了包括至少一个初级切割光学部件的激光器。
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公开(公告)号:KR101211490B1
公开(公告)日:2012-12-12
申请号:KR1020067027071
申请日:2005-06-17
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 샌드스트롬리차드엘. , 브라운다니엘제이.더블유. , 에르쇼프알렉산더아이. , 포멘코프이고브이. , 파트로윌리엄엔.
IPC: H01S3/22
Abstract: 분산 파장 선택 광학장치에 대해 각각의 펄스를 포함하고 있는 레이저 광 펄스 빔의 입사각에 의해 적어도 부분적으로 결정되는 각각의 펄스에 대해 적어도 하나의 중심 파장을 선택하는 분산 대역폭 선택 광학 장치(도 1의 참조기호 120); 분산 중심 파장 선택 광학장치에 대해 각각의 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 적어도 하나의 입사각( )을 선택하도록 동작하는 튜닝 메커니즘; 상기 분산 중심 파장 선택 광학장치로부터, 각 부분이 적어도 2 개의 상이한 선택된 중심 파장중에 하나를 가지는, 복수의 공간적으로 분리되지만 시간적으로는 분리되지 않는 부분들을 구비한 레이저 광 펄스를 복귀시키기 위해 레이저 광 펄스의 상이한 공간적으로 분리되지만 시간적으로는 분리되지 않는 부분에 대한 입사각을 각각 정의하는 복수의 입사각 선택 엘리먼트를 포함하는 튜닝 메커니즘을 포함하는, 협대역 단펄스 듀레이션 가스 방출 레이저 출력 광 펄스 빔 생성 시스템으로서, 선택된 펄스 반복율에서 레이저 출력 광 펄스를 구비하는 빔을 생성하는 시스템에 대역폭 제어를 제공하는 장치 및 방법이 개시된다. 상기 튜닝 메커니즘은, 상기 분산 대역폭 선택 광학장치로부터, 각 펄스의 각각의 시간적으로 분리된 부분이 적어도 2 개의 상이한 선택된 중심 파장중에 하나를 가지는, 각 펄스의 복수의 시간적으로 분리된 부분들을 구비한 레이저 빔을 복귀시키기 위해 펄스의 상이한 시간적으로 분리된 부분에 대한 입사각을 각각 정의하는 시간 입사각( ) 선택 엘리먼트를 포함할 수 있다. 상기 튜닝 메커니즘은, 레이저 광 펄스의 공간적으로 분리되지만 시간적으로는 분리되지 않은 부분에 대해 각각 입사각을 정의하는 복수의 공간 입사각 선택 엘리먼트; 및 상기 펄스의 각각의 공간적으로 분리되지만 시간적으로 분리되지 않은 부분중 적어도 제 1 시간적으로 분리된 부분에 대한 적어도 제 1 입사각과, 상기 펄스의 각각의 공간적으로 분리된 부분 중에서 제 2의 시간적으로 분리되지만 공간적으로 분리되지 않은 부분에 대한 제 2 입사각을 각각 정의하는 복수의 시간 입사각 선택 엘리먼트를 포함할 수 있다.
협대역 단펄스 듀레이션의 가스 방출 레이저 출력 광 펄스 빔 생성 시스템, 펄스 반복율, 레이저 출력 광 펄스, 분산 파장 선택 광학장치, 펄스, 입사각, 튜닝 메커니즘, 입사각 선택 엘리먼트Abstract translation: 分布式带宽选择为选择至少一个中心波长为每个脉冲,至少部分地由包含用于色散波长选择性光学元件的各脉冲的激光脉冲束的入射角来确定的一部分,所述光学装置(参照图1 符号120); 包括用于色散中心波长选择光学器件的每个脉冲的激光脉冲束的至少一个入射角
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公开(公告)号:KR101194231B1
公开(公告)日:2012-10-29
申请号:KR1020087013076
申请日:2006-10-20
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 에르쇼프알렉산더아이. , 파틀로윌리엄엔. , 브라운다니엘제이.더블유. , 포멘코프아이고르브이. , 베르그스테츠로버트에이. , 샌드스트롬리차드엘. , 라로빅이반
IPC: H01S3/22
CPC classification number: H01S3/225 , G03F7/70583 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/03 , H01S3/034 , H01S3/08036 , H01S3/08059 , H01S3/10092 , H01S3/105 , H01S3/2251 , H01S3/2333
Abstract: 제1가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버, 및 제1오실레이터 캐비티 내의 라인 내로우잉 모듈을 포함하는 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 출력을 산출하는 시드 레이저 오실레이터; 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 레이저 시스템 출력을 형성하기 위해 시드 레이저 오실레이터의 출력을 수신하고, 시드 레이저 오실레이터의 출력을 증폭하는 제2가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버 내에 증폭 이득 매체를 포함하는 레이저 증폭 스테이지; 및 링 파워 증폭 스테이지를 포함하는 라인 내로우드 펄스 엑시머 또는 분자 플루오르 가스방전 레이저 시스템을 포함할 수 있는 방법 및 장치가 개시된다.
펄스 엑시머 또는 분자 플루오르 가스방전 레이저 시스템, 레이저 출력 광 빔 펄스, 시드 레이저 오실레이터, 레이저 증폭 스테이지, 링 파워 증폭 스테이지, 가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버, 오실레이터 캐비티, 라인 내로우잉 모듈, 제2가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버, 증폭 이득 매체.-
公开(公告)号:KR1020110086055A
公开(公告)日:2011-07-27
申请号:KR1020117011180
申请日:2009-10-20
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 예홍 , 로키츠키로스티스라바 , 베르그스텟로버트에이. , 에르쇼프알렉산더아이. , 리우로렌 , 비아텔라존더블유. , 라오라야세카르에이치. , 시불스키레이몬드에프. , 더피토마스피. , 브라운다니엘제이.더블유. , 페렐제임스제이.
CPC classification number: G02B5/04 , G02B5/12 , H01S3/0057 , H01S3/0346 , H01S3/081 , H01S3/225
Abstract: 개시된 본 발명의 형태는 빔 리버서의 레이저 흡수를 줄이는 방법을 포함하고, 본 방법은 프리즘의 제1 반사 면 상에 있는 제1 입사 포인트와, 프리즘의 제1 반사 면과 제2 반사면 사이에 형성되어 있고 챔퍼된 면을 가지는 챔퍼된 코너 사이의 제1 거리를 증가시키는 단계; 프리즘의 제2 반사 면 상에 있는 제2 입사 포인트와, 챔퍼된 코너 사이의 제2 거리를 증가시키는 단계; 및 프리즘의 챔퍼된 코너의 챔퍼된 면의 반사율을 높이는 단계 중 적어도 하나의 단계를 포함한다. 광 컴포넌트에 대한 프라임 컷을 판정하는 방법이 또한 개시된다. 적어도 하나의 프라임 컷 광 컴포넌트를 포함하는 레이저가 또한 개시된다.
Abstract translation: 所公开的主题的一个方面包括减少由以下至少之一组成的光束反向棱镜的激光吸收的方法:增加第一入射点和倒角之间的第一距离,其中第一入射点在 在棱镜的第一反射面和第二反射面之间形成棱镜的第一反射面和倒角,其中倒角具有倒角面; 增加第二入射点和倒角之间的第二距离,其中第二入射点在棱镜的第二反射表面上; 并且增加棱镜倒角的倒角表面的反射率。 还公开了一种确定光学部件的主切割的方法。 还公开了包括至少一个初级切割光学部件的激光器。
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公开(公告)号:KR100997399B1
公开(公告)日:2010-11-30
申请号:KR1020047017931
申请日:2003-05-05
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 룰존에이. , 호프만토마스 , 모톤리차드지. , 브라운다니엘제이.더블유. , 프로이로프블라디미르비. , 트린쵸우크페도르 , 이시하라도시히코 , 어쇼프알렉사더아이. , 위택크리스챤제이.
IPC: H01S3/03 , H01L21/027
CPC classification number: H01S3/225 , G03F7/70025 , H01S3/036 , H01S3/041 , H01S3/08009 , H01S3/09702 , H01S3/2258 , H01S3/2333
Abstract: 모듈러 고반복율 자외선 가스 방전 레이저를 위한 자동 레이저 가스제어가 개시되었다. 이 레이저 가스는 레이저 시스템의 동작 수명을 통해 F
2 소비율을 모니터링하기 위한 기술, 모니터 및 프로세서를 포함한다. 이들 소비율은 소망하는 범위내에 레이저 반사 품질을 유지하기 위해 필요한 F
2 주입을 결정하기 위해 알고리즘으로 프로그램된 프로세서에 의해 사용된다. 바람직한 실시예는 2-챔버 MOPA 레이저 시스템을 위한 F
2 제어를 포함한다.
레이저, 가스, 방전, 주입, 반사-
公开(公告)号:KR1020070114199A
公开(公告)日:2007-11-29
申请号:KR1020077022258
申请日:2006-02-22
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 브라운다니엘제이.더블유. , 어쇼프알렉산더아이. , 플로이로브블라디미르비. , 포멘코프이고르브이. , 파트로윌리엄엔.
IPC: H01S3/22
CPC classification number: H01S3/225 , H01S3/094 , H01S3/10015 , H01S3/10023 , H01S3/109 , H01S3/1611 , H01S3/1653 , H01S3/2255 , H01S3/2308 , H01S3/2333 , H01S3/2366 , H01S3/2375 , H01S3/2383 , H05G2/003 , H05G2/005 , H05G2/008
Abstract: An apparatus and method is disclosed which may comprise an EUV drive laser system comprising: a solid state seed laser master oscillator laser; a gas discharge excimer laser gain generator producing a drive laser output light beam. The solid state seed laser may comprise a third harmonic Nd: YLF laser, which may be tunable. The gas discharge excimer gain generator laser may comprise a XeF excimer laser power amplifier or power oscillator. The solid state laser may comprise a tunable laser tuned by changing the temperature of a laser crystal comprising the solid state laser, or by utilizing a wavelength selection element, e.g., a Lyot filter or an etalon.
Abstract translation: 公开了一种可以包括EUV驱动激光系统的装置和方法,该系统包括:固态种子激光主振荡器激光器; 产生驱动激光输出光束的气体放电准分子激光增益发生器。 固态种子激光器可以包括可调谐的三次谐波Nd:YLF激光器。 气体放电准分子增益发生器激光器可以包括XeF准分子激光功率放大器或功率振荡器。 固体激光器可以包括通过改变包括固态激光器的激光晶体的温度或通过利用波长选择元件例如Lyot滤光器或标准具来调节的可调谐激光器。
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公开(公告)号:KR1020070028447A
公开(公告)日:2007-03-12
申请号:KR1020067027071
申请日:2005-06-17
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 샌드스트롬리차드엘. , 브라운다니엘제이.더블유. , 에르쇼프알렉산더아이. , 포멘코프이고브이. , 파트로윌리엄엔.
IPC: H01S3/22
CPC classification number: H01S3/0812 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , H01S3/08059 , H01S3/097 , H01S3/1055 , H01S3/1305
Abstract: An apparatus and method for providing bandwidth control in a narrow band short pulse duration gas discharge laser output light pulse beam producing system, producing a beam comprising laser output light pulses at a selected pulse repetition rate, is disclosed which may comprise a dispersive bandwidth selection optic (Fig. 1, character 120) selecting at least one center wavelength for each pulse determined at least in part by the angle (of incidence of the laser light pulse beam containing the respective pulse on the dispersive wavelength selection optic; a tuning mechanism operative to select at least one angle (Deltaalpha L)of incidence of the a laser light pulse beam containing the respective pulse upon the dispersive center wavelength selection optic; the tuning mechanism comprising a plurality of incidence angle selection elements each defining an angle of incidence for a different spatially separated but not temporally separated portion of the laser light pulse to return from the dispersive center wavelength selection optic a laser light pulse comprising a plurality of spatially separated but not temporally separated portions, each portion having one of at least two different selected center wavelengths. The tuning mechanism may comprise a temporal angle (DeltaalphaL) of incidence selection element defining an angle of incidence for different temporally separated portions of the pulse to return from the dispersive bandwidth selection optic a laser beam comprising a plurality of temporally separated portions of each pulse, each temporally separated portion of each pulse having one of at least two different selected center wavelengths. The tuning mechanism may comprise a plurality of spatial incidence angle selection elements each defining an angle of incidence for a spatially separated but not temporally separated portion of the laser light pulse, and a plurality of temporal angle of incidence selection elements each defining at least a first angle of incidence for at least a first temporally separated portion of each spatially separated but not temporally separated portion of the pulse and a second angle of incidence for a second temporally separated but not spatially separated portion of each spatially separated portion of the pulse. ® KIPO & WIPO 2007
Abstract translation: 公开了一种用于在窄带短脉冲持续时间气体放电激光输出光脉冲束产生系统中提供带宽控制的装置和方法,其产生包括选定脉冲重复频率的激光输出光脉冲的光束,其可以包括色散带宽选择光学器件 (图1,字符120)为每个脉冲选择至少一个中心波长,所述至少一个中心波长至少部分地由在分散波长选择光学器件上包含相应脉冲的激光束脉冲光束的入射角度确定;调谐机构, 在分散中心波长选择光学器件上选择包含相应脉冲的激光束的至少一个角度(Deltaalpha L);调谐机构包括多个入射角选择元件,每个入射角选择元件限定不同的入射角 激光光脉冲的空间分离而不是时间上分离的部分返回 分散中心波长选择光学器件,包括多个空间分离但不时间分离的部分的激光脉冲,每个部分具有至少两个不同的选定中心波长中的一个。 调谐机构可以包括入射选择元件的时间角(DeltaalphaL),其限定脉冲的不同时间上分离的部分的入射角,以从色散带宽选择光学器返回包括每个脉冲的多个时间上分离的部分的激光束, 每个脉冲的每个时间上分离的部分具有至少两个不同的选择的中心波长中的一个。 调谐机构可以包括多个空间入射角选择元件,每个空间入射角选择元件限定激光光脉冲的空间分离但不是暂时分离的部分的入射角,以及多个入射选择元件的时间入射选择元件,每个限定至少第一 脉冲的每个空间分离但不是时间上分离的部分的至少第一时间上分离的部分的入射角以及脉冲的每个空间分离部分的第二时间上分离但不是在空间上分离的部分的第二入射角。 ®KIPO&WIPO 2007
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